有机电致发光器件及其制备方法

文档序号:8341472阅读:158来源:国知局
有机电致发光器件及其制备方法
【技术领域】
[0001 ] 本发明涉及一种有机电致发光器件及其制备方法。
【背景技术】
[0002]有机电致发光器件的发光原理是基于在外加电场的作用下,电子从阴极注入到有机物的最低未占有分子轨道(LUMO),而空穴从阳极注入到有机物的最高占有轨道(HOMO)。电子和空穴在发光层相遇、复合、形成激子,激子在电场作用下迁移,将能量传递给发光材料,并激发电子从基态跃迁到激发态,激发态能量通过辐射失活,产生光子,释放光能。
[0003]传统的有机电致发光器件的电子注入层一般采用氟化锂,但是由于氟化锂熔点过高,蒸镀时必须采用较大电流来蒸镀,而有机蒸镀室的蒸镀室温度过高,会使其他有机功能层受到破坏,并且氟化锂的成膜性较差,容易形成电子缺陷,造成电子的淬灭,降低了电子和空穴的复合几率。

【发明内容】

[0004]基于此,有必要提供一种发光效率较高的有机电致发光器件及其制备方法。
[0005]—种有机电致发光器件,包括依次层叠的阳极、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层及阴极,所述电子注入层由第一铁盐掺杂层,二氧化钛掺杂层和第二铁盐掺杂层组成,所述第一铁盐掺杂层包括铁盐材料及掺杂在所述铁盐材料中的二氧化钛,所述二氧化钛掺杂层包括二氧化钛及掺杂在所述二氧化钛中的电子传输材料,所述电子传输材料选自4,7-二苯基-1,10-菲罗啉、1,2,4-三唑衍生物和N-芳基苯并咪唑中至少一种,所述第二铁盐掺杂层包括铁盐及掺杂在所述铁盐中的锌粉,所述铁盐材料选自氯化铁、溴化铁和硫化铁中至少一种。
[0006]第一铁盐掺杂层中所述铁盐材料与所述二氧化钛的质量比为4:0.1?10:0.1,所述二氧化钛掺杂层中所述二氧化钛与所述电子传输材料的质量比为1:30?1:50,所述第二铁盐掺杂层中所述铁盐材料与所述锌粉的质量比为5:0.1?15:0.1。
[0007]所述锌粉的粒径为20nm?40nm,所述二氧化钛的粒径为20nm?50nm。
[0008]所述第一铁盐掺杂层厚度为1nm?30nm, 二氧化钛掺杂层厚度为1nm?40nm,所述第二铁盐掺杂层厚度为50nm?80nm。
[0009]所述发光层的材料选自4- (二腈甲基)-2_ 丁基-6- (1,1,7,7_四甲基久洛呢啶-9-乙烯基)-4H-吡喃、9,10- 二 - β -亚萘基蒽、4,4 '-双(9-乙基-3-咔唑乙烯基)_1,Γ -联苯及8-羟基喹啉铝中的至少一种,所述空穴注入层的材料选自三氧化钥、三氧化钨及五氧化二钒中的至少一种,所述空穴传输层的材料选自1,1_ 二 [4-[N,f -二(P-甲苯基)氨基]苯基]环己烷、4,4',4"-三(咔唑-9-基)三苯胺及N,N’-(1-萘基)-N,N’ - 二苯基-4,4’ -联苯二胺中的至少一种,所述电子传输层的材料选自4,7- 二苯基-1,10-菲罗啉、1,2,4-三唑衍生物及N-芳基苯并咪唑中的至少一种,所述阴极选自银、铝、钼和金中的至少一种。
[0010]一种有机电致发光器件的制备方法,包括以下步骤:
[0011]在阳极表面依次形成空穴注入层、空穴传输层、发光层及电子传输层;
[0012]在电子传输层表面制备电子注入层,所述电子注入层由第一铁盐掺杂层,二氧化钛掺杂层和第二铁盐掺杂层组成,通过电子束蒸镀的方法在所述电子传输层表面制备第一铁盐掺杂层,所述第一铁盐掺杂层包括铁盐材料及掺杂在所述铁盐材料中的二氧化钛,接着在所述第一铁盐掺杂层表面通过电子束蒸镀方式制备二氧化钛掺杂层,所述二氧化钛掺杂层包括二氧化钛及掺杂在所述二氧化钛中的电子传输材料,所述电子传输材料选自4,7- 二苯基-1,10-菲罗啉、I, 2,4-三唑衍生物和N-芳基苯并咪唑中至少一种,通过电子束蒸镀的方式在所述二氧化钛掺杂层表面蒸镀制备所述第二铁盐掺杂层,所述第二铁盐掺杂层包括铁盐及掺杂在所述铁盐中的锌粉,所述铁盐材料选自氯化铁、溴化铁和硫化铁中至少一种,及,
[0013]在所述电子注入层表面制备阴极。
[0014]第一铁盐掺杂层中所述铁盐材料与所述二氧化钛的质量比为4:0.1?10:0.1,所述二氧化钛掺杂层中所述二氧化钛与所述电子传输材料的质量比为1:30?1:50,所述第二铁盐掺杂层中所述铁盐材料与所述锌粉的质量比为5:0.1?15:0.1。
[0015]所述锌粉的粒径为20nm?40nm,所述二氧化钛的粒径为20nm?50nm。
[0016]所述第一铁盐掺杂层厚度为1nm?30nm, 二氧化钛掺杂层厚度为1nm?40nm,所述第二铁盐掺杂层厚度为50nm?80nm。
[0017]所述电子束蒸镀方式的具体工艺条件为:工作压强为2X10_3Pa?5X10_5Pa,电子束蒸镀的能量密度为lOW/cm2?lOOW/cm2,有机材料的蒸镀速率为0.lnm/s?lnm/s,金属及金属化合物的蒸镀速率为lnm/s?10nm/s。
[0018]上述有机电致发光器件及其制备方法,通过制备多层结构的电子注入层结构,该电子注入层结构层由第一铁盐掺杂层,二氧化钛掺杂层和第二铁盐掺杂层组成,第一铁盐惨杂层由铁盐材料和_■氧化钦组成,铁盐材料可提闻载流子的浓度,提闻电子的传输速率,二氧化钛是半导体材料,有利于电子的传输,可进一步提高电子传输速率,二氧化钛掺杂层由二氧化钛和电子传输材料组成,因为相邻的铁盐掺杂层都是采用二氧化钛,所以可降低层间的能量势垒,提高电子的注入效率,第二铁盐掺杂层由铁盐材料和锌粉组成,铁盐材料可降低阴极与第二铁盐掺杂层之间电子注入势垒,提高电子注入能力,同时铁盐的HOMO能级较低,可阻止空穴穿越到阴极造成淬灭而降低发光效率,锌粉金属粒径较大,可提高光的散射,使发光散射后回到底部出射从而提高发光效率。
【附图说明】
[0019]图1为一实施方式的有机电致发光器件的结构示意图;
[0020]图2为一实施方式的有机电致发光器件的电子注入层结构示意图;
[0021]图3为实施例1制备的有机电致发光器件的电流密度与流明效率关系图。
【具体实施方式】
[0022]下面结合附图和具体实施例对有机电致发光器件及其制备方法进一步阐明。
[0023]请参阅图1,一实施方式的有机电致发光器件100包括依次层叠的阳极10、空穴注入层20、空穴传输层30、发光层40、电子传输层50、电子注入层60及阴极70。
[0024]阳极10为铟锡氧化物玻璃(ΙΤ0)、掺氟的氧化锡玻璃(FT0),掺铝的氧化锌玻璃(AZO)或掺铟的氧化锌玻璃(ΙΖ0),优选为ΙΤ0,厚度为lOOnm。
[0025]空穴注入层20形成于阳极10表面。空穴注入层20的材料选自三氧化钥(Mo03)、三氧化钨(WO3)及五氧化二钒(V2O5)中的至少一种,优选为Mo03。空穴注入层20的厚度为20nm ?80nm,优选为 25nm。
[0026]空穴传输层30形成于空穴注入层20的表面。空穴传输层30的材料选自1,1_ 二[4-[N, N1-二(P-甲苯基)氨基]苯基]环己烷(TAPC)、4,4',4"-三(咔唑-9-基)三苯胺(TCTA)及N,N’ - (1-萘基)-N,N’ - 二苯基-4,4’ -联苯二胺(NPB)中的至少一种,优选为TCTA。空穴传输层30的厚度为20nm?60nm,优选为45nm。
[0027]发光层40形成于空穴传输层30的表面。发光层40的材料选自4- (二腈甲基)-2-丁基-6-( 1,1,7,7-四甲基久洛呢啶-9-乙烯基)-4H-吡喃(DCJTB)、9,10-二 - β -亚萘基蒽(ADN)、
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