线圈盘及电磁烹饪器具的制作方法

文档序号:14613360发布日期:2018-06-05 21:23阅读:332来源:国知局
线圈盘及电磁烹饪器具的制作方法

本发明涉及电磁加热器具领域,特别涉及一种线圈盘及电磁烹饪器具。



背景技术:

电磁加热方式被广泛应用于烹饪食物,使用电磁加热烹饪食物时,锅具的边缘的温度越高,加热效果越好。现有电磁烹饪器具的线圈盘的加热区主要集中在锅底的中心处。在加热过程中,该加热区的高频交变磁感线分布并不均匀,往往会形成围绕线圈盘中心的磁感线密集,四周边缘的磁感线较稀疏,在锅具底部形成的电磁涡流强度亦相应地沿着中心向四周递减,导致锅具边缘的温度不理想,烹饪效果不佳。



技术实现要素:

本发明的主要目的是提出一种线圈盘及电磁烹饪器具,旨在加热时提高锅具边缘的温度,改善烹饪效果。

为实现上述目的,本发明提出的线圈盘包括:

线圈盘座及绕组线圈,所述绕组线圈包括设置于所述线圈盘座中部的主线圈,以及设置于所述主线圈周边的多个副线圈,所述副线圈在所述主线圈周向上间隔排布。

优选的,所述主线圈呈圆形设置。

优选的,所述副线圈亦呈圆形设置。

优选的,所述副线圈的外径小于所述主线圈的外径。

本发明还提供一种电磁烹饪器具,包括线圈盘,所述线圈盘包括线圈盘座和绕组线圈,所述绕组线圈包括设置于所述线圈盘座中部的主线圈,以及设置于所述主线圈周边的多个副线圈,所述副线圈在所述主线圈周向上间隔排布。

优选的,所述电磁烹饪器具为电磁炉、电饭煲或压力锅。

优选的,所述电磁烹饪器具为电磁炉,所述电磁烹饪器具还包括锅具,所述副线圈的中心与所述线圈盘座中心的距离R1大于所述锅具底部的半径R2

优选的,所述线圈盘座呈平板状设置。

优选的,R1-R2≤20mm。

优选的,4.0mm≤R1-R2≤15mm。

本发明的技术方案通过在线圈盘座的中部布置主线圈,并在主线圈的周向布置多个副线圈,通过主线圈可实现对锅具中部加热,通过多个副线圈的设置,可以加强锅具周边磁感密度,无论是锅具中部还是边缘,都具有较密集的磁感线,从而改善了烹饪效果。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。

图1为本发明线圈盘一实施例的分体结构示意图;

图2为图1中线圈绕组结构示意图;

图3为包括有锅具的本发明电磁烹饪器具一实施例的结构示意图。

附图标号说明:

本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例,参照附图做进一步说明。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。

需要说明,若本发明实施例中有涉及方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……),则该方向性指示仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等,如果该特定姿态发生改变时,则该方向性指示也相应地随之改变。

另外,若本发明实施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述,则该“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外,各个实施例之间的技术方案可以相互结合,但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础,当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在,也不在本发明要求的保护范围之内。

本发明提出一种线圈盘和设置有该线圈盘的电磁烹饪器具。在此,电磁烹饪器具可以是电磁炉、电饭煲或压力锅。为了方便表述,下述内容中将具体以电磁炉为具体实施例进行阐述。

在本发明实施例中,如图1至图3所示,该线圈盘10包括线圈盘座11及多个绕组线圈12,多个绕组线圈12设于线圈盘座11上。绕组线圈10包括设置于线圈盘座11中部的主线圈12a,以及设置于主线圈12a周边的多个副线圈12b,副线圈12b在主线圈12a周向上间隔排布。

线圈盘座11具有正反两面,其中,正面布设绕组线圈12,反面设置有与每个绕组线圈12位置对应的磁条(图中未示出)。

当用户在使用设置有上述线圈盘10的电磁炉对锅具20进行加热时,一方面,主线圈12a自身在锅底的中部产生的磁感线较密集,远离中部的位置产生的磁感线较稀疏。在对锅具20底部加热时,锅具20中部受热,锅具20中部产生的热量会向四周传导,以给锅具20周边传热。另一方面,由于副线圈12b的这种布置,副线圈12b在锅具20周边产生多个加热中心,其产生的磁感线较密集;因此,在上述主线圈12a和副线圈12b相互作用下,锅具20周边的磁感线较密集,锅具20底部和周边的加热都比较均匀,不会产生锅底中部糊锅,锅底边缘不热的情况,从而烹饪效果较佳。

本发明的技术方案通过在线圈盘座11的中部布置主线圈12a,并在线圈盘座11的周向布置多个副线圈12b,通过主线圈12a可实现对锅具20中部加热,通过多个副线圈12b的设置,可以加强锅具20周边磁感密度,无论是锅具20中部还是边缘,都具有较密集的磁感线,从而改善了烹饪效果。

上述主线圈12a的形状可以是圆形、多边形、椭圆形及不规则形状等。但是鉴于锅具20底部一般是呈圆形设置的,如果将主线圈12a设置呈非圆形,在对锅具20加热时,可能会导致锅具20底部磁感分布不均,从而影响烹饪效果。在一较佳实施例中,主线圈12a呈圆形设置。如此,主线圈12a产生的磁感密度自其中心朝向其边缘递减较均匀。设置副线圈12b后,主线圈12a产生的磁感线不会导致多个副线圈12b相互之间的磁感线密度不均的情况发生,进而整个线圈盘11周边的磁感线密度较均匀,加热效果较佳。

另外,副线圈12b的形状可以是圆形、方形、三角形等,但是同样为了使线圈盘座11周边的磁感较均匀,优选副线圈12b呈圆形设置。

副线圈12b在主线圈12a周边的数量不作限制,但是为了进一步增加线圈盘11周边磁感密度,可以设置较多的副线圈12b,例如设置6个、8个、12个或者更多;如此,线圈盘10周边的加热中心更多,对锅具20周边的加热效果更好。在此,为了能够设置较多的副线圈12b,所以,副线圈12b的外径优选小于主线圈12a的外径。

为了方便绕组线圈12绕设在线圈盘座11上,线圈盘座11上可以设置用于绕置绕组线圈12的绕线槽13。上述绕组线圈12可以是密绕线圈,也可以是疏绕线圈,绕组线圈12置于该绕线槽13内。当绕组线圈12为密绕线圈时,可以通过在线圈盘座11上凸设凸筋,凸筋内形成绕线槽13;当绕组线圈12为疏绕线圈时,可以通过在线圈盘座11上凹陷相应多个环形槽,线圈绕组12绕置在多个所述环形槽的槽壁上,多个环形槽形成绕线槽13。当然,线圈盘座11上也可以不设置绕线槽13,绕组线圈12密绕而直接固定于线圈盘座11的上。

当然,绕组线圈12也可以是密绕线圈及疏绕线圈的组合,需要阐明的是,此处所述的密绕线圈及疏绕线圈的组合可以是:主线圈12a为密绕线圈,副线圈12b为疏绕线圈;或主线圈12a为疏绕线圈,副线圈12b为密绕线圈。本领域技术人员可以通过本发明实施例及附图可以获得相应的技术方案。疏绕线圈为优选实施例,将主线圈12a及副线圈12b均设置为疏绕线圈。对于疏绕线圈而言,线圈盘座11上设置有至少三组自线圈盘座11的正面凹陷的环形槽,每组环形槽为一个绕线槽13。在本实施例中,为了使绕组线圈12在电磁炉中装配时,更靠近面板30,以使锅底的加热效果更佳。该绕线槽13包括供所述主线圈12a安装的第一绕线槽13a,以及供每个所述副线圈12b安装的第二绕线槽13b。当然,为了方便线圈绕组12的绕设,多条环形槽径向间隔分布构成,以对应地,便于将主线圈12a绕置安装在第一线槽13a内,并将至少两个第二副线圈12b绕置安装在对应的第二线槽13b内。

锅具20一般具有锅底和自锅底边缘向上延伸而出的锅壁,用户在使用电磁炉对锅具加热时,往往只有锅底能被加热,而锅壁难以被加热。在一实施例中,为了实现锅壁的加热,以优化烹饪效果,所述副线圈13b的中心与所述线圈盘座11中心的距离R1大于所述锅具底部(锅底)的半径R2。如此,在电磁炉对锅具20进行加热时,由于R1大于R2,如此,副线圈12b外围部分可以对锅壁加热,从而对于锅具20而言,锅底中部由主线圈12a加热,其周边由副线圈12b加热,其侧壁也由副线圈12b加热,从而受热更均匀,烹饪效果更佳。

上述实施例中,安装绕组线圈12的线圈盘座11可以是纯凹式的,也可以是平凹式的,还可以是纯平式的;但是对于线圈盘座而言,纯平式线圈盘座制造简洁,成本低廉,如果同样能够满足对锅具20周边乃至侧壁加热,在本实施例中,优选线圈盘座为平板状设置。

当然,R1相较于R2不能大太多,否则导致电磁炉的成本过高。在一较佳实施例中,R1-R2≤20mm。例如R1-R2=15mm、R1-R2=10mm、R1-R2=8mm、R1-R2=5mm、R1-R2=3mm等。

锅具20的侧壁与锅底之间的夹角一般在45°至75°之间,而电磁感应高度一般在7mm至15mm,所以在此,以电磁感应高度15mm为例,15×tan15°mm≤R1-R2≤15×tan45°mm。也即4mm≤R1-R2≤15mm。

以上所述仅为本发明的优选实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是在本发明的发明构思下,利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构变换,或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本发明的专利保护范围内。

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