技术总结
本实用新型公开了一种偏心式多工位抛光机，包括机架、设在机架上的抛光盘、工件盘、工位盘和加压系统；所述抛光盘置于机架上端；所述工位盘上设有按圆周分布的若干所述工件盘；设有工件盘的工位盘至少为两个，它们置于所述抛光盘的下方且相对于抛光盘的中心线偏心对称分布，使得工位盘上的部分工件盘被所述抛光盘覆盖；所述加压系统通过气缸驱动所述抛光盘升降施压于工件盘上的工件。本实用新型采用一个抛光盘对应多个偏心的工位盘结构，在抛光工作时，抛光盘覆盖每个工位盘的部分工件盘，没有被覆盖的工件盘可用于下料和上料的周转，可以实现不停机的情况下连续抛光的目的。本实用新型可以大幅度提高设备的利用率和生产产能。
技术研发人员：许亮;唐湘平;尹荆州;寻有辉
受保护的技术使用者：宇环数控机床股份有限公司
文档号码：201620637764
技术研发日：2016.06.26
技术公布日：2016.12.14