金属材料;冶金;铸造;磨削;抛光设备的制造及处理,应用技术
  • 本实用新型涉及钢丝加负电荷技术,特别涉及一种钢丝加负电荷装置。钢丝是钢材的板、管、型、丝四大品种之一,是用热轧盘条经冷拉制成的再加工产品。采用无磷化工艺的表面处理工艺中,钢丝在进行皂化前需要先进行加电荷处理,这样才能够更好的对钢丝进行皂化。在现有的加电荷设备中,由于通电后设备温度会身高,其...
  • 本实用新型涉及钢棉皂化装置,具体为一种钢棉生产用皂化装置。钢棉是一种新型的金属纤维材料,其纤维细达4μm,自然状态类似蓬松的棉花状,其用途非常广泛,粉碎型钢棉,主要用于汽车刹车片等摩阻材料,切断型钢棉纤维,可用于建筑用混凝土等领域,钢棉长纤维,主要用于民间日常洗涤和工业除锈、去污、...
  • 本实用新型属于金属表面除锈磷化,特别涉及一种除锈磷化装置。目前钢铁表面前处理采用分步处理,首先需要经过各种酸洗除锈过程,去除其表面的氧化铁皮,然后进行磷化处理,以使钢铁表面提供保护膜,在一定程度上防止钢铁表面被腐蚀,或在冷加工过程中起到润滑作用。传统的酸洗除锈使用盐酸、硫酸和混酸等...
  • 本实用新型涉及印制电路板生产技术,特别涉及一种用于化学镀铜的电接触装置。在绝缘基材上,制作出供元器件之间电气连接的导电图形,这种印制了导电线路的成品板被称为印制电路板。化学镀铜是现今工业中应用最为普通、广泛的镀种,被应用于有孔的印制线路板的生产加工中,其主要目的在于通过一系列化学处理方法在...
  • 本实用新型涉及气相沉积,特别涉及一种夹具以及应用了该夹具的等离子体沉积设备。等离子气相沉积技术是一种用等离子体激活反应气体,促进在基体表面或近表面空间生成固态膜的技术。通常将作为材料的气态原子、分子或离子等形成等离子体,在真空条件下,利用高频或直流电场作用,以低温等离子体作为能量源...
  • 本实用新型涉及化学气相沉积领域,特别涉及等离子化学气相沉积装置。在等离子化学气相沉积设备中,反应气体在射频电源作用下可以转变成等离子体从而进行化学反应生成需要的纳米膜材料。而在制备纳米材料膜时,一般需要对基底材料进行预处理,常用的预处理包括等离子处理,即射频电源将反应气体电离成离子,在预处...
  • 本实用新型涉及半导体加工,具体涉及一种用于金属有机化学气相沉积反应器中的基片托盘的结构。当前LED已经成为越来越重要的照明光源,而用于生产LED芯片的金属有机化学气相沉积反应腔(MOCVD)也得到长足发展。其中MOCVD反应器也可以用来生产氮化镓(GaN)的半导体功率器件,相比现有...
  • 本实用新型涉及半导体制造,具体地,涉及一种气源及半导体加工设备。化学气相沉积(ChemicalVaporDeposition,以下简称CVD)是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术。在进行化学气相沉积工艺的过程中,将两种或两种以上的气态原材料传输至反应腔室内,然后气...
  • 本实用新型涉及太阳能电池片制造,尤其是一种太阳能电池片双面镀膜的平板式PECVD机台。在现有的可持续能源中,太阳能无疑是一种最清洁、最普遍和最有潜力的替代能源。太阳能发电装置又称为太阳能电池或光伏电池,可以将太阳能直接转换成电能,其发电原理是基于半导体PN结的光生伏特效应。太阳能发...
  • 本实用新型涉及纳米材料沉积,尤其涉及用于确定或判断临近催化化学气相沉积中催化剂的热形变的装置。目前通常利用化学气相沉积(CVD)技术大面积生长二维材料,已经从实验室阶段开始走入工业化生产阶段。可以说该技术的发展和进步是二维材料得以推广和应用的基石。普通的CVD技术对于在有催化性的基...
  • 本实用新型涉及纳米材料领域,尤其涉及一种在无催化性的基底上生长二维材料的装置和方法。目前通常利用化学气相沉积(CVD)技术大面积生长二维材料,已经从实验室阶段开始走入工业化生产阶段。可以说该技术的发展和进步是二维材料得以推广和应用的基础。目前二维材料主要为两大家族:石墨烯类材料以及过渡金属...
  • 本实用新型涉及一种成膜装置。成膜装置在镀膜过程中发生板材破片是很常见且无法避免的难题。由于板材破片掉落在腔室中,因此,在进行破片清理时,需要停机作业,影响生产效率且浪费人力。实用新型内容本实用新型旨在至少解决相关技术中存在的技术问题之一。为此,本实用新型的实施方式提供了一种成膜装置。本实用...
  • 本实用新型涉及电镀,具体为一种三层真空电镀夹具。真空电镀是一种物理沉积现象,即在真空状态下注入氩气,氩气撞击靶材,靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的表面层,为了满足更安全、更节能、降低噪声、减少污染物排放的要求,在表面处理工艺上,真空电镀已经成为环保新趋势,与一般的电...
  • 本实用新型属于磁控溅射领域,具体涉及一种对置靶座磁控溅射装置。在对一些金属材料表面进行磁控溅射镀膜时,由于金属材料在大气中存放时会在表面形成氧化层而难以获得结合力较好的镀层薄膜,为此最佳的办法是在真空腔体内镀膜前进行在线清洗,目前清洗的方法等离子体轰击需镀膜材料表面。传统的做法是在溅射装置...
  • 本实用新型涉及磁控溅射镀膜设备,更具体地说,它涉及一种磁控溅射镀膜用加热装置。磁控溅射技术是物理气相沉积技术的一种,具有成膜速率高,膜基粘附性好,可实现大面积镀膜等优点。从上世纪70年代开始发展起来,磁控溅射技术发展出多种类型,广泛应用于半导体微电子、光学薄膜和材料表面处理等领域。...
  • 本实用新型涉及物理气相沉积,尤其涉及一种磁控装置及一种物理气相沉积设备。在半导体处理工艺中,物理气相沉积(PVD)是用于将材料沉积至在基板上面的常规处理工艺。常规物理气相沉积处理包括利用等离子体离子轰击包括源材料的靶材,使得从所述靶材溅射出源材料经由负电压或基板上形成的偏压,溅射出的源材料...
  • 本实用新型涉及非晶合金的加工工艺,具体涉及到一种非晶合金的镀膜设备。块体非晶合金通常是指铜模浇注时其玻璃形成能力(GFA)大于1mm以上,由于其固态微观组织是一种短程有序、长程无序的排列结构,与液态时类似,也与玻璃的微观组织相类似,所以也叫液态金属或金属玻璃。块体非晶合金一个重要的特性就是...
  • 本实用新型涉及真空PVD镀膜领域,更具体地说,涉及一种具有导热件的热蒸发坩埚组件。在热蒸发镀膜工艺过程中,电阻式加热器通常置于坩埚的侧面或底部(线源蒸发还需在喷管、喷嘴周围布置加热器)。理论上虽然通过多层屏蔽可以使得热场内部属于一个近似密闭的热孤立系统,经过长时间预热可以使得坩埚内的蒸发原...
  • 本实用新型涉及镀膜设备领域,更具体地说,涉及一种线性蒸发源及连续式蒸镀设备。镀膜在现在生活中越来越常见,例如为了防止手机、平板电脑和智能手表等电子产品的触摸屏上留下指纹,需要在触摸屏上堵上一层具有疏油、疏水的防指纹膜。一般地,防指纹膜可以使用涂覆法或者真空蒸镀法进行制备。单体真空腔体蒸镀法...
  • 本实用新型总地涉及一种用于基材的真空涂覆的盒式涂覆装置。特别地,本实用新型涉及一种用于眼镜镜片坯料的真空涂覆的盒式涂覆装置,该装置将用于所谓的“渐变镜片”的大规模生产中。渐变镜片是一种镜片类型,这种镜片例如出于美观的原因而涂覆有色彩,以使得单独的镜片在镜片的顶部处较暗,沿镜片向下,则颜色变亮直至颜...
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