头孢菌素衍生物的中间体及其制造方法与流程

技术特征：

1.式(IV)所示的化合物、其可药用盐、或它们的溶剂合物的晶体，

式(IV)中，R¹为氨基的保护基团；R²及R³各自独立地为羧基的保护基团。

2.根据权利要求1所述的晶体，其中，R¹为叔丁氧基羰基，R²为叔丁基，R³为对甲氧基苄基。

3.根据权利要求2所述的晶体，其在粉末X射线衍射光谱中，具有选自衍射角(2θ):4.3±0.2°、10.9±0.2°、14.5±0.2°、18.3±0.2°及21.2±0.2°中的至少3个峰。

4.根据权利要求2所述的晶体，其在粉末X射线衍射光谱中，具有选自衍射角(2θ):4.8±0.2°、14.4±0.2°、14.9±0.2°、16.0±0.2°及20.5±0.2°中的至少3个峰。

5.化合物(IV)、其可药用盐、或它们的溶剂合物的制造方法，其包括以下工序：

第2工序：使式(V)所示的化合物与过酸在溶剂中反应而得到式(IV)所示的化合物的工序，其中，溶剂仅为二氯甲烷的情况除外，

式(V)中，R¹为氨基的保护基团；R²及R³各自独立地为羧基的保护基团，

式(IV)中，R¹、R²及R³与上述同义。

6.根据权利要求5所述的制造方法，其中，该过酸为过氧乙酸。

7.式(IV)所示的化合物、其可药用盐或它们的溶剂合物、或它们的晶体的制造方法，其包括连续地进行以下工序：

第1工序：使式(VI)所示的化合物和式(VII)所示的化合物反应而得到式(V)所示的化合物的工序，

式(VI)中，R³为羧基的保护基团，

式(VII)中，各符号与上述同义，

式(V)中，各符号与上述同义；

以及

第2工序：使式(V)所示的化合物与过酸反应而得到化合物(IV)的工序，

式(IV)中，各定义与上述同义。

8.化合物(III)、其可药用盐、或它们的溶剂合物的制造方法，其包括以下工序：

第3工序：使式(IV)所示的化合物与式(X)所示的化合物在硼酸或单取代硼酸存在下反应而得到式(III)所示的化合物的工序，

式(IV)中，各符号与上述同义，

式(X)中，R⁴及R⁵各自独立地为羟基的保护基团，

式(III)中，X-为抗衡离子，其它符号与上述同义。

9.化合物(II)、其可药用盐、或它们的溶剂合物的制造方法，其包括以下工序：

第4工序：将式(III)所示的化合物还原而得到式(II)所示的化合物的工序，

式(III)中，各符号与上述同义，

式(II)中，各符号与上述同义。

10.化合物(IA)、其可药用盐、或它们的溶剂合物的制造方法，其包括连续地进行以下工序：

第4工序：将式(III)所示的化合物还原而得到式(II)所示的化合物的工序，

式(III)中，各符号与上述同义，

式(II)中，各符号与上述同义，

以及

第5工序：将式(II)所示的化合物进行脱保护而得到式(IA)所示的化合物的工序

11.根据权利要求10所述的化合物(IA)、其可药用盐或它们的溶剂合物的制造方法，其包括以下工序：

第3工序：使化合物(IV)和化合物(X)在硼酸或单取代硼酸存在下反应而得到化合物(III)的工序；

第4工序：将化合物(III)还原而得到化合物(II)的工序；以及

第5工序：将化合物(II)进行脱保护而得到化合物(IA)的工序。

12.根据权利要求10所述的化合物(IA)、其可药用盐或它们的溶剂合物的制造方法，其包括以下工序：

第2工序：使化合物(V)与过酸反应而得到化合物(IV)的工序；

第3工序：使化合物(IV)和化合物(X)在硼酸或单取代硼酸存在下反应而得到化合物(III)的工序；

第4工序：将化合物(III)还原而得到化合物(II)的工序；及

第5工序：将化合物(II)进行脱保护而得到化合物(IA)的工序。

13.式(III)所示的化合物，

式(III)中，各符号与上述同义。

14.式(II)所示的化合物，

式(II)中，各定符号与上述同义。

15.根据权利要求1～4、13或14中任一项所述的化合物或其溶剂合物的晶体，其中，R¹为叔丁氧基羰基。

16.根据权利要求5～12中任一项所述的制造方法，其中，R¹为叔丁氧基羰基。

17.根据权利要求1～4、13或14中任一项所述的化合物或其溶剂合物的晶体，其中，R²为叔丁基。

18.根据权利要求5～12中任一项所述的制造方法，其中，R²为叔丁基。

19.根据权利要求1～4、13或14中任一项所述的化合物或其溶剂合物，其中，R³为对甲氧基苄基或二苯甲基。

20.根据权利要求5～12中任一项所述的制造方法，其中，R³为对甲氧基苄基或二苯甲基。

21.根据权利要求13或14所述的化合物，其中，R⁴及R⁵为对甲氧基苄基。

22.根据权利要求8～12中任一项所述的制造方法，其中，R⁴及R⁵为对甲氧基苄基。