，化合物（1)也可以将化合物(9)作为原料，通过下述[制造方法3]来制造。
[0175] [制造方法3](参见图3)
[0176] 〈工序 6>
[0178] 作为原料的化合物(9)可以使用市售的化合物、通过已知的方法制造的化合物，例 如，可以通过上述工序6进行制造。
[0179] 工序6是下述工序:在还原剂的存在下，将化合物(Z)的硝基还原，制造化合物(9)。
[0180] 上述式(Z)及(9)中，R1表示氢原子、可以具有取代基的烷基、可以具有取代基的环 烷基或可以具有取代基的芳基，优选为氢原子或可以具有取代基的烷基，更优选为氢原子。 式(9)中，R 2表示氢原子、可以具有取代基的烷基、羟基、或氮原子的保护基，优选为氢原子 或氮原子的保护基，更优选为氢原子。式(9)中，R 3表示氢原子、可以具有取代基的烷基、羟 基、或氮原子的保护基，优选为氢原子或氮原子的保护基，更优选为氢原子。
[0181] 作为该工序6中使用的还原剂，例如，可以举出还原性金属、还原性金属盐、连二亚 硫酸钠或硫化钠。作为还原性金属，可以举出铁、锌、锡、镁、铟等，作为还原性金属盐，可以 举出氯化亚锡、三氯化钛等。
[0182] 使用还原性金属或还原性金属盐进行还原时，该还原性金属或还原性金属盐可以 分别单独使用，或将这些还原剂组合使用。作为还原剂，优选还原性金属，更优选锌粉末。相 对于化合物(Z)而言，所述还原剂的使用量例如可以举出0.5~20摩尔当量的范围，优选为1 ~15摩尔当量的范围。
[0183] 另外，作为添加物，可以使用盐酸、硫酸、乙酸等酸、氢氧化钠、亚硫酸氢钠、氯化 铵、硫化铵、氨水等碱。添加物的使用量也取决于添加物的种类，相对于化合物(Z)而言，例 如可以举出0.5~50摩尔当量的范围，优选为1~40摩尔当量的范围。
[0184] 化合物(9)也可以通过使用氢化催化剂的接触还原法制造。具体而言，使用化合物 (Z)作为原料，在氢化催化剂的存在下，使其在溶剂中于氢气氛下反应，由此，可以得到化合 物(9) 〇
[0185] 作为用于接触还原法中的氢化催化剂的具体例子，可以举出钯催化剂、铂催化剂、 镍催化剂、铑催化剂、钌催化剂及锇催化剂等。具体而言，例如，可以举出钯一碳、钯黑、钯 碳一乙二胺复合体、钯一丝蛋白、氢氧化钯一碳、氢氧化钯、氧化钯、氧化铂、铂一碳、铂黑、 雷尼镍、铑一碳、铑一氧化铝、钌一碳、锇一碳及林德拉催化剂等。关于该氢化催化剂的使用 量，相对于化合物(Z)而言，以化合物(Z)为100质量％时，通常使用0.01质量％~20质量％。 优选为0.5质量％~10质量％。进行这样的氢化时，为了抑制催化能力，可以添加二甲基亚 砜、乙二胺等毒化剂。相对于化合物(Z)而言，毒化剂的使用量例如可以举出1~5摩尔当量 的范围，优选为2~3摩尔当量的范围。
[0186] 工序6的反应可以在无溶剂的情况下进行，或使用溶剂进行。作为溶剂，可以使用 上述工序1及2中列举的溶剂。作为工序6中可以使用的溶剂的具体例子，例如，可以举出乙 醚、四氢呋喃等醚系溶剂、二氯甲烷、氯仿等卤代烃系溶剂、甲苯、苯等芳香族烃系溶剂、乙 酸乙酯、乙酸异丙酯等酯系溶剂、二甲基甲酰胺、二甲基亚砜等非质子性极性溶剂、甲醇、异 丙醇等醇系溶剂或水等，这些溶剂可以单独使用或将2种以上混合使用。
[0187] 工序6的反应温度根据原料化合物、反应试剂的不同而不同，例如，于一78°C~200 °C进行，优选为一 20°C~100°C，特别优选为一 5°C~50°C。工序6的反应时间根据反应温度、 原料化合物、反应试剂或使用的溶剂的种类的不同而不同，通常为1分钟~48小时，优选为5 分钟~24小时。
[0188] 对于得到的化合物（1)，之后可以滤去锌粉末等，在减压下等除去溶剂后，使用乙 酸乙酯、饱和碳酸氢钠水溶液、水、饱和盐水等进行萃取、清洗、分液，干燥后得到固态的化 合物(1)。
[0191] 工序7是下述工序:在溶剂中，在碱的存在下，使化合物(9)与化合物(5)"反应，制 造化合物(8)。
[0192] 式(5)"中，R5表示氢原子、可以具有取代基的烷基、可以具有取代基的环烷基或可 以具有取代基的芳基，作为R 5,优选为氢原子或可以具有取代基的烷基，较优选为氢原子或 C^12烷基，更优选为氢原子或C^8烷基，进一步优选为氢原子或甲基、乙基、正丙基、异丙基、 正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基，特别优选为氢原子、甲基或乙基。Y表示羟基或离去基团， 优选为离去基团，较优选为卤原子，更优选为溴原子。式(8)及(9)中，R\R 2及R3可以与上述 工序6中定义的基团相同。具体而目，R1表不氛原子、可以具有取代基的烷基、可以具有取代 基的环烷基或可以具有取代基的芳基，优选为氢原子或可以具有取代基的烷基，更优选为 氢原子。R 2表示氢原子、可以具有取代基的烷基、羟基、或氮原子的保护基，优选为氢原子或 氮原子的保护基，更优选为氢原子。R 3表示氢原子、可以具有取代基的烷基、羟基、或氮原子 的保护基，优选为氢原子或氮原子的保护基，更优选表示氢原子。
[0193] 相对于化合物(9)而言，化合物(5)"的用量例如为1摩尔当量以上，优选为1~2摩 尔当量，特别优选为1~1.2摩尔当量。
[0194] 作为该工序中使用的碱，为无机碱类、有机碱类均可，作为无机碱类，例如，可以举 出碱金属碳酸盐类、碱金属碳酸氢盐类、碱金属氢氧化物类、碱金属氢化物类，作为碱金属 碳酸盐类，可以举出碳酸钠、碳酸钾、碳酸铯、碳酸锂等，作为碱金属碳酸氢盐类，可以举出 碳酸氢钠、碳酸氢钾、碳酸氢锂等，作为碱金属氢氧化物类，可以举出氢氧化钠、氢氧化钾、 氢氧化钡、氢氧化锂等，作为碱金属氢化物类，可以举出氢化锂、氢化钠、氢化钾等。作为有 机碱类，例如，可以举出甲醇钠、乙醇钠、甲醇钾、乙醇钾、叔丁醇钾、甲醇锂等碱金属醇盐 类、N-甲基吗啉、三乙胺、三丙胺、三丁胺、二异丙基乙胺、二环己胺、N-甲基哌啶、吡啶、 4一吡咯烷基吡啶、甲基吡啶、4一（N，N-二甲基氨基）吡啶、2，6-二(叔丁基）一4一甲基吡 啶、喹啉、N，N-二甲基苯胺、N，N-二乙基苯胺、1，5-二氮杂双环[4.3.0]壬一5-烯(DBN)、 1，4一二氮杂双环[2.2.2]辛烷(0厶8〇))、1，8 - 二氮杂双环[5.4.0]^碳一7- 烯(DBU)、N， N，N'，N'，N"，N" 一六甲基磷酰三胺(HMPA)等。作为该工序中使用的碱，优选为有机碱类，特 别优选为三乙胺。
[0195] 相对于化合物(9)而言，该工序7中使用的碱的用量为1摩尔当量以上，优选为1~5 摩尔当量，特别优选为2~4摩尔当量。
[0196] 作为该工序7中使用的溶剂，只要是不阻碍反应并以一定程度溶解起始物质的溶 剂，则不受特别限定，例如，可以举出芳香族烃类、代烃类、醚类、低级烷基羧酸酯类、酰胺 类、亚砜类、低级醇类、水或这些溶剂的混合溶剂。作为芳香族烃类，可以举出苯、甲苯、二甲 苯等，作为卤代烃类，可以举出二氯甲烷、氯仿、四氯化碳、二氯乙烷、氯苯、二氯苯等，作为 醚类，可以举出乙醚、二异丙基醚、四氢呋喃、环戊基甲醚、甲基叔丁基醚、二氧杂环己烷、二 甲氧基乙烷、二乙二醇二甲醚等，作为低级烷基羧酸酯类，可以举出乙酸乙酯、乙酸异丙酯 等，作为酰胺类，可以举出甲酰胺、Ν，Ν-二甲基甲酰胺、Ν，Ν-二甲基乙酰胺、N-甲基一 2 - 吡咯烷酮、六甲基磷酰三胺等，作为亚砜类，可以举出二甲基亚砜、环丁砜等，作为低级醇 类，可以举出甲醇、乙醇、丙醇、异丙醇、丁醇、异丁醇、叔丁醇等。作为该工序中使用的溶剂， 优选为低级醇类，特别优选为1 一丙醇。
[0197] 另外，该工序7中，也可以将化合物(5)"作为溶剂使用。
[0198] 对于得到的化合物(8)，之后可以在减压下等除去溶剂，使用乙酸乙酯、水及饱和 盐水进行萃取、清洗、分液，干燥后得到固态的化合物(8)。
[0199] 进而，可以将得到的化合物(8)通过柱色谱法等进行纯化。作为柱色谱法中的填充 剂，例如，可以使用硅胶、氧化铝等。
[0200] 工序7的反应温度根据原料化合物、反应试剂的不同而不同，例如，于0°C~200°C 进行，优选为25°C~150°C。工序7的反应时间根据反应温度、原料化合物、反应试剂或使用 的溶剂的种类的不同而不同，通常为1分钟~48小时，优选为1小时~18小时。
[0201] 〈工序 8>
[0202]
[0203 ]工序8是向化合物(8)的7位上导入X从而制造化合物(I)的工序。
[0204] 此处，X表示羟基或离去基团，优选为离去基团，较优选为卤原子，更优选为溴原 子。式⑴及⑶中，R\R2及R 3与上述〈工序7>中记载的R\R2及R3的定义相同。
[0205] X为羟基时，可以使用各种氧化剂等在化合物(8)的7位上导入羟基。此处，作为氧 化剂，可以使用⑶MPREHENSIVE ORGANIC TRANSFORMATIONS,A Guide to Functional Group Preparations ,Richard C· Larock，1989，p485_486中列举的各种氧化剂。X为羟基或 离去基团时，特别是为卤原子时，例如，可以通过下述方法制造目标化合物（1):在浓硫酸、 盐酸、甲磺酸、甲苯磺酸、三氟甲磺酸、樟脑磺酸、三氟乙酸、乙酸、氯化铝、氯化铁（III)、四 氯化钛、四异丙醇钛等酸的存在下或在不存在上述酸的条件下，使化合物（8)与卤化剂反 应。
[0206] 作为卤化剂，例如，可以举出氯、溴、1，3 -二溴一5,5-二甲基乙内酰脲、N-氯代 琥珀酰亚胺、N-溴代琥珀酰亚胺、四丁基三溴化铵、二甲基氨基吡啶三溴化物、2，4，4，6 - 四溴一 2,5 -环己二烯酮等。作为特别优选的卤化剂，有N-溴代琥珀酰亚胺及2,4,4,6-四 溴一2,5 -环己二烯酮。
[0207] 相对于化合物(8)而言，卤化剂的用量为1摩尔当量以上，优选为1~2摩尔当量，特 别优选为1~1.5摩尔当量。
[0208] 作为该工序中使用的溶剂，只要是不阻碍反应并以一定程度溶解起始物质的溶 剂，则不受特别限定，例如，可以举出芳香族烃类、代烃类、醚类、低级烷基羧酸酯类、酰胺 类、亚砜类、低级醇类、水或这些溶剂的混合溶剂。作为芳香族烃类，可以举出苯、甲苯、二甲 苯等，作为卤代烃类，可以举出二氯甲烷、氯仿、四氯化碳、二氯乙烷、氯苯、二氯苯等，作为 醚类，可以举出乙醚、二异丙基醚、四氢呋喃、环戊基甲醚、甲基叔丁基醚、二氧杂环己烷、二 甲氧基乙烷、二乙二醇二甲醚等，作为低级烷基羧酸酯类，可以举出乙酸乙酯、乙酸异丙酯 等，作为酰胺类，可以举出甲酰胺、Ν，Ν-二甲基甲酰胺、Ν，Ν-二甲基乙酰胺、N-甲基一 2 - 吡咯烷酮、六甲基磷酰三胺等，作为亚砜类，可以举出二甲基亚砜、环丁砜等，作为低级醇 类，可以举出甲醇、乙醇、丙醇、异丙醇、丁醇、异丁醇、叔丁醇等。作为该工序中使用的溶剂， 优选为酰胺类，特别优选为Ν，Ν-二甲基甲酰胺。进一步优选从工序7中使用的溶剂中选择。
[0209] 对于得到的化合物（1)，之后可以在减压下等除去溶剂，使用乙酸乙酯、水及饱和 盐水进行萃取、清洗、分液，干燥后得到固态的化合物(1)。
[0210] 进而，可以将得到的化合物（1)通过柱色谱法等进行纯化。作为柱色谱法中的填充 剂，例如，可以使用硅胶、