第一气体分配模块144a、第二气体分配模块144b和第二气体分配部件146中的每个可以以诸如矩形、梯形或扇形形状的多边形形状形成，其中，相应的第一气体分配模块144a、第二气体分配模块144b和第二气体分配部件146可以具有相同的形状或不同的形状。
[0064]图3至6图示了在图1和2中所示的气体分配部分的修改示例。
[0065]首先，如图3中所示，根据气体分配部分的第一修改示例，第一气体分配部件144中包含的第一和第二气体分配模块144a和144b中的每个以平面上的梯形形状形成，并且，第二气体分配部件146以平面上的矩形形状形成，其中，第二气体分配部件146的大小可以大于第一和第二气体分配模块144a和144b中的每个的大小。在以平面上的梯形形状形成的第一和第二气体分配模块144a和144b中的每个中，靠近基板支撑体120的中心的一侧可以相对短于靠近基板支撑体120的边缘的另一侧。气体分配量在第一和第二气体分配模块144a和144b中的每个中从一侧向另一侧逐渐地增加。
[0066]然后，如图4中所示，根据第一气体分配部分的第二修改示例，第一气体分配部件144中包含的第一和第二气体分配模块144a和144b中的每个及第二气体分配部件146以平面上的梯形形状形成，其中，靠近基板支撑体120的中心的一侧可以相对短于靠近基板支撑体120的边缘的另一侧。在这种情况下，第二气体分配部件146的大小可以大于第一和第二气体分配模块144a和144b中的每个的大小。气体分配量在第一气体分配模块144a、第二气体分配模块144b和第二气体分配部件146中的每个中从一侧向另一侧逐渐地增加。
[0067]然后，如图5中所示，根据气体分配部分的第三修改示例，第一气体分配部件144中包含的第一和第二气体分配模块144a和144b中的每个及第二气体分配部件146以平面上的梯形形状形成，其中，靠近基板支撑体120的中心的一侧可以相对长于靠近基板支撑体120的边缘的另一侧。在这种情况下，第二气体分配部件146的大小可以大于第一和第二气体分配模块144a和144b中的每个的大小。气体分配量在第一气体分配模块144a、第二气体分配模块144b和第二气体分配部件146中的每个中从一侧向另一侧逐渐地减少。
[0068]然后，如图6中所示，根据气体分配部分的第四修改示例，第一气体分配部件144中包含的第一和第二气体分配模块144a和144b中的每个及第二气体分配部件146以平面上的扇形形状形成，其中，靠近基板支撑体120的中心的一侧可以相对短于靠近基板支撑体120的边缘的另一侧。在这种情况下，第二气体分配部件146的大小可以大于第一和第二气体分配模块144a和144b中的每个的大小。气体分配量在第一气体分配模块144a、第二气体分配模块144b和第二气体分配部件146中的每个中从一侧向另一侧逐渐地增加。
[0069]图7图示了在根据本发明的实施例的基板处理设备的气体分配部分中的空间分隔部件的修改示例，其中，空间分隔部件在其结构上改变。以下，将仅详细描述空间分隔部件的结构。
[0070]空间分隔部件142可以包括中心部分142c和第一至第三翼部142dl、142d2和142d3o
[0071]中心部分142c与基板支撑体120的中心重叠，并且中心部分142c以圆形形状形成。中心部分142c被插入到形成在室盖130的中央的中心安装部分(未示出)中。中心部分142c设置有多个孔或狭缝，所述多个孔或狭缝用于从外部净化气体供应器(未示出)向基板支撑体120的中心向下分配净化气体。
[0072]分别在中心部分142c的两侧形成的第一和第二翼部142dl和142d2分别被插入到形成在室盖130的中心的两侧的第一和第二翼部安装部分(未示出)中。第一和第二翼部142dl和142d2中的每个设置有多个孔或狭缝，所述多个孔或狭缝用于从外部净化气体供应器(未示出)向基板支撑体120的中心的两侧的每一侧向下分配净化气体。因此，由于由通过使用中心部分142c与第一和第二翼部142dl和142d2分配的净化气体形成的气体障壁，处理室110的处理空间在空间上被分隔为第一和第二反应空间112和114。
[0073]第三翼部142d3与第一反应空间112重叠，并且，第三翼部142d3被插入到形成在被定位在第一和第二翼部142dl和142d2之间的室盖130中的第三翼部安装部分(未示出)中。第三翼部142d3设置有多个孔或狭缝，所述多个孔或狭缝用于从外部净化气体供应器(未示出)向在第一和第二翼部142dl和142d2之间的第一反应空间112向下分配净化气体。因此，由于由通过使用第三翼部142d3分配的净化气体形成的气体障壁，第一反应空间112在空间上被分隔为第一和第二气体反应区域112a和112b。
[0074]以下述方式来设置第一、第二和第三翼部142dl、142d2和142d3中的每个:其区域从基板支撑体120的中心向基板支撑体120的周界(circumference)逐渐地增加。在这种情况下，从基板支撑体120的中心面向基板支撑体120的周界的第一至第三翼部142dl、142d2和142d3中的每个的侧表面可以倾斜或者可以以具有恒定斜率的阶梯形状(step shape)形成。
[0075]中心部分142c和第一至第三翼部142dl、142d2和142d3可以形成为一个整体，所述一个整体包括在空间上彼此分隔的净化气体分配空间，但是不限于该结构。例如，处理室110的处理空间可以被分隔为第一和第二反应空间112和114，并且第一反应空间112可以以用于第一和第二气体反应区域112a和112b的分隔的各种形状形成。
[0076]同时，空间分隔部件142的中心部分142c分配净化气体，但是不限于该结构。例如，中心部分142c可以被用作中心抽送端口，用于向外部抽送位于基板支撑体120的中心的气体。
[0077]图8图示了在根据本发明的实施例的基板处理设备的气体分配部分中的第一气体分配部件的修改示例，其中，第一气体分配部件在其结构上改变。以下，仅将详细描述第一气体分配部件的结构。
[0078]首先，气体分配部分140的空间分隔部件142将处理室110的处理空间分隔为第一和第二反应空间112和114，并且将第一反应空间112分隔为多个第一气体反应区域112al和112a2与多个第二气体反应区域112bl和112b2，其中，所述多个第一气体反应区域112al和112a2与所述多个第二气体反应区域112bl和112b2相间。为此，气体分配部分140的空间分隔部件142可以包括中心部分142c与第一至第五翼部142(11、142(12、142(13、142(14和142(15。
[0079]如上所述，中心部分142c与第一和第二翼部142dl和142d2被设置来将处理室110的处理空间分隔为第一和第二反应空间112和114。
[0080]第三至第五翼部142d3、142d4和142d5被插入到第三至第五翼部安装部分中，所述第三至第五翼部安装部分以固定间隔设置在室盖130的第一和第二翼部安装部分之间的空间中，使得第三至第五翼部142d3、142d4和142d5在与第一反应空间112重叠的同时以固定间隔设置在第一和第二翼部142dl和142d2之间的空间中。
[0081 ] 第三至第五翼部142d3、142d4和142d5中的每个设置有多个孔或狭缝，所述多个孔或狭缝用于从外部净化气体供应器(未示出)向在第一反应空间112中局部限定的空间分隔区域向下分配净化气体。因此，处理室110的第一反应空间112被分隔为一对第一气体反应区域112al和112a2与一对第二气体反应区域112bl和112b2，它们通过由通过利用第三至第五翼部142d3、142d4和142d5分配的净化气体形成的多个气体障壁而交替地设置。例如，一对第一气体反应区域112al和112a2可以分别设置在第一与第三翼部142dl与142d3之间和第四与第五翼部142d4与142d5之间，并且一对第二气体反应区域112bl和112b2可以分别设置在第三与第四翼部142d3与142d4之间和第二与第五翼部142d2与142d5之间。
[0082]第一气体分配部件144可以包括:一对第一气体分配模块144al和144a2，用于向一对第一气体反应区域112al和112a2分配第一气体；以及，一对第二气体分配模块144bl和144b2，用于向一对第二气体反应区域112bl和112b2分配第二气体。
[0083]构成一对的第一气体分配模块144al和144a2中的每个可拆卸地设置在室盖130中，并且，构成一对的第一气体分配模块144al和144a2中的每个与构成一对的第一气体反应区域112al和112a2中的每个重叠。在与构成一对的第一气体反应区域112al和112a2中的每个重叠的室盖130中，有一对第一安装部分(未示出)，一对第一气体分配模块144al和144a2可拆卸地设置在其中。构成一对的第一气体分配模块144al和144a2中的每个具有第一气体分配空间，所述第一气体分配空间被供应来自外部第一气体供应器(未示出)的第一气体，并且，构成一对的第一气体分配模块144al和144a2中的每个向构成一对的第一气体反应区域112al和112a2中的每个分配被供应到第一气体分配空间的第一气体。
[0084]构成一对的第二气体分配模块144bl和144b2中的每个可拆卸地设置在室盖130中，并且，构成一对的第二气体分配模块144bl和144b2中的每个与构成一对的第二气体反应区域112bl和112b2中的每个重叠。在与构成一对的第二气体反应区域112bl和112b2中的每个重叠的室盖130中，有一对第二安装部分(未示出)，一对第二气体分配模块144bl和144b2可拆卸地设置在其中。构成一对的第二气体分配模块144bl和144b2中的每个具有第二气体分配空间，所述第二气体分配空间被供应来自外部第二气体供应器(未示出)的第二气体，并且，构成一对的第二气体分配模块144bl和144b2中的每个向构成一对的第二气体反应区域112bl和112b2中的每个分配被供应到第二气体分配空间的第二气体。
[0085]第一气体分配部件144向根据基板支撑体120的旋转而移动的每个基板10依序分配第一和第二气体。随着每个基板10根据基板支撑体120的旋转而通过一对第一气体反应区域112al和112a2、一对第二气体反应区域112bl和112b2及气体障壁，每个基板10依序被暴露于第一气体、净化气体、第二气体、净化气体、第一气体、净化气体、第二气体和净化气体，由此，薄膜根据原子层吸附反应沉积在每个基板10上。
[0086]在图8中，第一气体分配部件14