器23的输出可以比较低。例如，加热器23的输出可以比加热器33的输出低。
[0142]假如在2个罐6、7上分别安装如加热器33那样具有高输出的加热器时，则导致成本上升。相对于此，在该基板处理装置100中，在2个罐6、7之间切换使用对回收中的磷酸水溶液加热循环的处理液循环系统30。在该情况下，无需在2个罐6、7上分别安装具有这样高输出的加热器。因此，能够实现基板处理装置100的成本降低。
[0143]此外，在使温度下降的磷酸水溶液升温时，需要使温度下降的磷酸水溶液以高流量循环。另一方面，在使已经升温的磷酸水溶液循环时，以比较低的流量循环即可。因此，在处理液循环系统30上安装的栗34相比在处理液补充系统20上安装的栗24，具有高流量。
[0144](4)技术方案中的各结构要素与实施方式的各部分的对应关系
[0145]以下，对技术方案中的各结构要素与实施方式的各部分的对应例进行说明，但本发明并不限于下述的例子。
[0146]在上述实施方式中，基板W是基板的例子，处理液喷嘴3是处理液喷嘴的例子，处理部1是处理单元的例子，第一罐5是供给用罐的例子。第二以及第三罐6、7分别是第一以及第二补充用罐的例子，回收配管50是处理液回收部的例子，处理液补充系统20是处理液补充部的例子，处理液循环系统30是处理液循环部的例子。
[0147]加热器33是加热部的例子，控制部9是控制部的例子，基板处理装置100是基板处理装置的例子，加热器23是温调部的例子，循环配管27、29以及阀28、29a是补充循环部的例子。杯⑶是杯的例子，主管50a以及分支管50b、50c分别是第一?第三回收配管的例子，阀51、52分别是第一以及第二回收阀的例子。
[0148]主管20a、分支管20b、20c以及循环配管27、29分别是第一?第五补充配管的例子、阀25、26、28、29a分别是第一?第四补充阀的例子。分支管30b、循环配管35、分支管30c、循环配管36以及主管30a分别是第一?第五循环配管的例子，阀31、37、32、38分别是第一?第四循环阀的例子。第二罐6的液面传感器S3以及第三罐7的液面传感器S3分别是第一以及第二检测传感器的例子，新液供给装置8是新液供给装置的例子。
[0149]作为技术方案中的各结构要素，也能使用具有在技术方案中记载的结构或功能的其他各种要素。
[0150][产业上的可利用性]
[0151]本发明能有效利用于基板的处理。
【主权项】
1.一种基板处理装置，其特征在于，具有: 处理单元，包括向基板供给处理液的处理液喷嘴； 供给用罐，向所述处理液喷嘴供给处理液； 第一以及第二补充用罐，用于向所述供给用罐补充处理液； 处理液回收部，对在所述处理单元使用的使用完的处理液进行回收，并有选择地向所述第一以及第二补充用罐供给所述使用完的处理液； 处理液补充部，有选择地从所述第一以及第二补充用罐向所述供给用罐补充处理液；处理液循环部，有选择地使所述第一补充用罐内的处理液和所述第二补充用罐内的处理液循环； 加热部，对通过所述处理液循环部的处理液进行加热； 控制部，在所述处理液回收部所回收的所述使用完的处理液向所述第一补充用罐供给的期间，该控制部对所述处理液补充部进行控制以将所述第二补充用罐内的处理液补充到所述供给用罐，并且，对所述处理液循环部进行控制以使所述第一补充用罐内的处理液由所述加热部加热并循环，在所述处理液回收部所回收的所述使用完的处理液向所述第二补充用罐供给的期间，该控制部对所述处理液补充部进行控制以将所述第一补充用罐内的处理液补充到所述供给用罐，并且对所述处理液循环部进行控制以使所述第二补充用罐内的处理液由所述加热部加热并循环。2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于， 该基板处理装置还具有对通过所述处理液补充部的处理液进行温度调整的温调部，所述处理液补充部包括补充循环部，该补充循环部使所述第一以及第二补充用罐内的处理液经所述温调部循环，并等待至向所述供给用罐补充处理液， 所述温调部的输出小于所述加热部的输出。3.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于， 所述补充循环部使所述第一补充用罐内的处理液和所述第二补充用罐内的处理液有选择地循环。4.如权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于， 在所述处理液回收部所回收的所述使用完的处理液向所述第二补充用罐供给的期间，所述控制部对所述补充循环部进行控制以使所述第一补充用罐内的处理液由所述温调部进行温度调整并循环； 在所述处理液回收部所回收的所述使用完的处理液向所述第一补充用罐供给的期间，所述控制部对所述补充循环部进行控制以使所述第二补充用罐内的处理液由所述温调部进行温度调整并循环。5.如权利要求2?4中任一项所述的基板处理装置，其特征在于， 所述处理单元包括杯，该杯以包围基板的周围的方式设置，用于挡住所述使用完的处理液， 所述处理液回收部具有: 第一回收配管，与所述处理单元的所述杯连接， 第二以及第三回收配管，分别连接在所述第一回收配管和所述第一以及第二补充用罐之间， 第一以及第二回收阀，分别安装在所述第二以及第三回收配管上； 所述处理液补充部具有: 第一补充配管，与所述供给用罐连接， 第二以及第三补充配管，分别连接在所述第一补充配管和所述第一以及第二补充用罐之间， 第一以及第二补充阀，分别安装在所述第二以及第三补充配管上； 所述处理液循环部具有: 第一以及第二循环配管，与所述第一补充用罐连接， 第三以及第四循环配管，与所述第二补充用罐连接， 第五循环配管，连接在所述第一循环配管和所述第二循环配管之间，并且连接在所述第三循环配管和所述第四循环配管之间， 第一、第二、第三以及第四循环阀，分别安装在所述第一、第二、第三以及第四循环配管上; 在打开所述第一回收阀且关闭所述第二回收阀的情况下，所述控制部打开所述第二补充阀、所述第一循环阀以及所述第二循环阀，并且关闭所述第一补充阀、所述第三循环阀以及所述第四循环阀，在打开所述第二回收阀且关闭所述第一回收阀的情况下，所述控制部打开所述第一补充阀、所述第三循环阀以及所述第四循环阀，并且关闭所述第二补充阀、所述第一循环阀以及所述第二循环阀。6.如权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于， 所述加热部安装在所述处理液循环部的所述第五循环配管上。7.如权利要求5或6所述的基板处理装置，其特征在于， 所述温调部安装在所述处理液补充部的所述第一补充配管上。8.如权利要求5?7中任一项所述的基板处理装置，其特征在于， 所述补充循环部具有: 第四以及第五补充配管，分别连接在所述第一补充配管和所述第一以及第二补充用罐之间， 第三以及第四补充阀，分别安装在所述第四以及第五补充配管上； 在打开所述第一回收阀且关闭所述第二回收阀的情况下，所述控制部打开所述第四补充阀并且关闭所述第三补充阀，在打开所述第二回收阀且关闭所述第一回收阀的情况下，所述控制部打开所述第三补充阀并且关闭所述第四补充阀。9.如权利要求1?8中任一项所述的基板处理装置，其特征在于， 该基板处理装置还具有第一以及第二检测传感器，该第一以及第二检测传感器分别对所述第一以及第二补充用罐内的处理液的量进行检测， 所述控制部基于所述第一以及第二检测传感器所检测的处理液的量，对所述处理液回收部进行控制，以对将所述使用完的处理液向所述第一补充用罐供给的期间和将所述使用完的处理液向所述第二补充用罐供给的期间进行切换。10.如权利要求1?9中任一项所述的基板处理装置，其特征在于， 该基板处理装置还具有向所述供给用罐、所述第一补充用罐或所述第二补充用罐供给处理液的新液供给装置。
【专利摘要】本发明的目的在于提供一种基板处理装置，能够从处理单元向补充用罐回收处理液，并从补充用罐向供给用罐补充处理液。从供给用罐向处理单元的处理液喷嘴供给处理液，从处理液喷嘴向基板供给处理液。在处理单元使用的使用完的处理液被回收，并有选择地供给至第一以及第二补充用罐。在使用完的处理液向第一补充用罐供给的期间，第二补充用罐内的处理液补充到供给用罐，并且第一补充用罐内的处理液由加热部加热并循环。在使用完的处理液向第二补充用罐供给的期间，第一补充用罐内的处理液补充到供给用罐，并且第二补充用罐内的处理液由加热部加热并循环。
【IPC分类】H01L21/67
【公开号】CN105470167
【申请号】CN201510633671
【发明人】难波敏光
【申请人】株式会社思可林集团
【公开日】2016年4月6日
【申请日】2015年9月29日
【公告号】US20160093515