专利名称：液晶显示装置用基板、液晶显示装置及其制造方法和装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及信息设备显示部所使用的液晶显示装置用基板及具有该基板的液晶显示装置及其制造方法和制造装置。
背景技术：
作为开关元件在各个像素中具有薄膜晶体管(TFT；Thin FilmTransistor)的有源矩阵型液晶显示装置，作为平板显示器的主流为人们所注目，并通过提高制造产量及减少不合格产品而获得成本的降低。有源矩阵型彩色液晶显示装置是由TFT等形成的TFT基板、滤色器(CF；Color Filter)等形成的CF基板及密封在两块基板间的液晶构成的。
液晶显示装置制造工序中的基板粘合工序是在TFT基板和CF基板中的任何一块的外周涂敷并形成密封剂。接着，将两块基板重叠，并使用加压一加热装置及真空加热装置等基板粘合装置加压、粘合，制成具有指定单元间隙的粘合基板各一块。然后，在液晶注入工序中，利用真空注入法等在粘合基板的单元间隙间注入液晶，密封液晶注入口。
但是，近年伴随着基板尺寸的大型化，用真空注入法很难形成高精度的单元间隙，并且产生了液晶注入所需时间长的问题。解决上述问题的方法有滴下注入法(滴下粘合)。在滴下注入法中，将密封剂类似框状地涂敷在一块基板的外周，在框内的基板面上滴下规定量的液晶，在真空中将两块基板粘合并进行液晶封入。通过滴下注入法，基板的粘合和液晶的注入基本可以同时完成，大幅简化了制造工序。
对滴下注入法的液晶显示板制造工序进行简单的说明。首先，在一块基板面上的多个位置使用液晶滴下注入装置滴下液晶。然后，将一块基板与外周涂敷了密封剂的另一块基板的位置对齐，并粘合两块基板，制成粘合基板。这一工序在真空中进行。其次，将粘合基板返回空气中，则粘合基板间的液晶因大气压而扩射开。此后，通过使密封剂硬化，制成液晶显示板。
在使用滴下注入法的液晶注入工序中，由于基板的粘合与液晶的注入同时进行，因此未硬化的密封剂与液晶接触。如果密封剂的未硬化的部分与液晶长时间接触，且以这种状态暴露在高温下，则液晶就会被污染。为此，在采用滴下注入法时，密封剂一般不使用热硬化性树脂，而使用通过紫外线(UV光)照射会迅速硬化的光硬化性树脂。
但是，由于近年来液晶显示板大型化，而寻求使显示区域外侧的框缘部宽度变窄的窄框缘化。图11是表示现有液晶显示装置框缘部附近的结构示例的概略截面图。如图11所示，液晶显示装置由TFT基板102和CF基板104及两块基板102、104间所密封的液晶114构成。在液晶显示装置显示区域A的外侧的框缘部B的CF基板104一侧，在玻璃基板107上形成遮挡光的遮光膜(BM)108。并且在框缘部B的TFT基板102一侧，在玻璃基板106上形成捆绑多条存贮电容总线的共用存贮电容线等金属布线110、111。
在图11中，从与基板面垂直的方向看，密封剂(主密封main seal)112被涂敷在与BM108及金属布线110、111重叠的位置上。但是，如果在这样的位置上涂敷了密封剂112，则来自与基板面垂直方向的光被BM所遮挡，而无法照射到密封剂112上。此外，与单元间隙d比较，金属布线111的宽度W极大，从相对于基板面倾斜的方向入射的光也由于BM108和金属布线111间的多次反射而强度减弱，硬化所需强度的光不能照射到密封剂112上。为此，密封剂112产生了硬化不良的区域。因此，在采用滴下注入法制造的液晶显示装置中，有必要将密封剂112涂敷到BM108的外侧(图中右侧)。其中，与密封剂112的涂敷方向基本垂直形成的总线等，由于布线间隔相对布线宽度较宽，因此出现的问题少。
但是，如果将密封剂112涂敷到BM108的外侧，则会产生框缘区域B的宽度变大了的问题。例如如果可以将密封剂112重叠涂敷在BM108上，那么就可以使框缘区域B的宽度基本上与BM108的宽度一致，而在上述方法中，框缘区域B的宽度增大了涂敷密封剂112的宽度。
而且，如果为了缩短照射时间而将极强的UV光照射到密封剂112上，则其泄漏的光会入射到液晶114，产生液晶114被污染的问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种制造工序简单且可以使框缘变窄的液晶显示装置用基板及具有该基板的液晶显示装置及其制造方法和制造装置。
上述目的通过具有以下特征的液晶显示装置实现，其特征在于，具有相对配置的两块基板；密封在所述两块基板间的液晶；在一块所述基板的外周形成的遮挡光的遮光膜；以所述遮光膜划定的显示区域；金属层，在另一块所述基板的所述外周的所述液晶一侧形成，并且宽度在0.1mm以下；光硬化性密封剂，从与基板面垂直的方向看，该光硬化性密封剂以与所述遮光膜重叠的方式涂敷在所述外周，并具有与所述金属层重叠的被光照射区域。
图1是表示根据本发明第1实施方式的液晶显示装置的结构图。
图2是表示根据本发明第1实施方式的液晶显示装置的结构图。
图3是表示根据本发明第1实施方式的液晶显示装置的结构的截面图。
图4是表示根据本发明第1实施方式的液晶显示装置的制造装置的结构图。
图5是表示根据本发明第2实施方式的液晶显示装置的结构的截面图。
图6是表示根据本发明第3实施方式的液晶显示装置的结构的截面图。
图7是说明根据本发明第4实施方式的液晶显示装置制造工序的图。
图8是表示根据本发明第4实施方式的液晶显示装置用基板结构的截面图。
图9是表示根据本发明第5实施方式的液晶显示装置用基板结构的截面图。
图10是表示根据本发明第5实施方式的液晶显示装置用基板结构的变形例的截面图。
图11是表示现有的液晶显示装置的结构示例的截面图。
具体实施例方式用图1至图4对本发明的第1实施方式的液晶显示装置及其制造装置进行说明。图1表示本实施方式的液晶显示装置的概略结构。液晶显示装置具有将TFT等形成的TFT基板2与CF等形成的CF基板4相对粘合，将液晶密封在两块基板2、4间的构造。在TFT基板2上，栅极总线、存贮电容总线及漏极总线通过绝缘膜被交叉形成。
在TFT基板2上设有封装了驱动多条栅极总线的驱动器IC的栅极总线驱动电路80、和封装了驱动多条漏极总线的驱动器IC的漏极总线驱动电路81。驱动电路80、81，基于控制电路82输出的指定信号，将扫描信号及数据信号输出到指定的栅极总线或漏极总线。在与TFT基板2的元件形成面相反的一侧的基板面上配置偏振板83，在偏振板83的与TFT基板2相反的一面上安装背照明单元85。另外，与CF基板4的CF形成面相反的一面上安装与偏振板83配置成正交尼科尔棱镜的偏振板84。
图2表示由TFT基板2一侧看到的根据本实施方式的液晶显示装置框缘部附近的结构。图3是沿图2的A-A线截断的液晶显示装置框缘部附近的概略截面图。如图2及图3所示，液晶显示装置的TFT基板2和CF基板4通过在基板2、4的其中一块的外周涂敷的光硬化性密封剂16被粘合。
在CF基板4一侧，在透明的玻璃基板7上形成遮挡光的BM8。而在TFT基板2一侧，在透明的玻璃基板6上形成例如捆绑多条存贮电容总线(无图示)的共用存贮电容总线等金属布线10、11、12。金属布线10、11、12与密封剂16的涂敷方向平行地形成。金属布线10的宽度W1、金属布线11的宽度W2及金属布线12的宽度W3全部在0.1mm以下。
试验证明，如果金属布线10、11、12的宽度在0.1mm以下，则可以将BM8与金属布线10、11、12之间多次反射的光照射到密封剂16与该金属布线10、11、12相重叠的区域。
如后面所详细论述的那样，根据本结构，通过从相对基板面倾斜的方向入射的光线a、b在玻璃基板6背面及金属布线10、11、12上的反射，光硬化所需强度的光可以照射到密封剂16的整个区域。此后，将光硬化所需强度的光能够照射到的密封剂区域称为被光照射区域。在本实施方式中，如上述及图3所示，被光照射区域40为密封剂16的全部区域。
下面对本实施方式的液晶显示装置的制造方法进行说明。首先，分别以各自的工序分别制造TFT基板2和CF基板4。然后，例如在TFT基板2表面的多个位置滴下规定量的液晶，在CF基板4外周涂敷密封剂16。之后，使用基板粘合装置在真空中将两块基板2、4位置对齐并粘合，制成粘合基板。此后，将粘合基板返回空气中，则粘合基板间的液晶因大气压而扩射开。
然后，使用UV光照射装置将UV光照射到密封剂16上。如图3所示，从相对基板面倾斜的方向入射到玻璃基板7的光线a、b透过玻璃基板7入射到玻璃基板6。光线a、b在玻璃基板6背面(图中下方)或与玻璃基板6背面相接触的照射台(在图3未表示)表面被反射，入射到密封剂16。此后，光线a、b在金属布线10、11、12的表面再次被反射，也入射到密封剂16中与金属布线10、11、12重叠所形成的区域。据此，UV光可以照射密封剂16的全部区域，密封剂16迅速硬化。经过以上工序，就制成了液晶显示装置。
然后，用图4对根据本实施方式的液晶显示装置的制造装置进行说明。图4表示根据本实施方式的液晶显示装置的制造所使用的UV光照射装置20的概略结构。如图4所示，UV光照射装置20具有照射台22，其放置了采用滴下注入法注入液晶14并在外周涂敷了光硬化性密封剂16的粘合基板30。在照射台22上方，配置着照射UV光的UV光源24。并且，为了使光沿相对于粘合基板30表面倾斜的方向入射，在照射台22侧面配置了反射来自UV光源24的UV光的反射镜26。例如反射镜26被分别设置在照射台22的四面。
在UV光照射装置20中，可以通过反射镜26将不能照射到粘合基板30的UV光反射到粘合基板30方向。因此，提高了UV光的利用率。并且，由于入射到粘合基板30的UV光的入射角变大，UV光的基板面方向的分量增加，因此UV光的反射次数减少。
照射台22在表面(照射面)例如具有光反射率高的金属层及白色板。由此，可以将来自UV光源24的光高效地照射到密封剂16上。照射台22也可以在表面具有将光散射反射的散射片。
如此，根据本实施方式，即使将光硬化性密封剂16重叠涂敷在BM8上，也可以使密封剂16硬化。因此，即使采用滴下注入法制造也可以制成框缘窄的液晶显示装置。
下面，用图5对根据本发明的第2实施方式的液晶显示装置进行说明。图5表示本实施方式的液晶显示装置框缘部附近的概略截面结构。如图5所示，在TFT基板2的玻璃基板6上，与密封剂16的涂敷方向基本平行地形成金属布线41、42。在外侧形成的金属布线41的宽度大于0.1mm，在内侧形成的金属布线42的宽度在0.1mm以下。
如第1实施方式所说明的，如果金属布线的宽度在0.1mm以下，那么可以将在BM与金属布线间多次反射的光照射到与该金属布线重叠的密封剂区域。一方面，如果金属布线的宽度超过0.1mm，则有可能造成硬化所需的光不能照射到该金属布线上的密封剂区域。因此，在根据本实施方式的密封剂16中，被光照射区域40位于液晶14一侧的端部。
下面，对根据本实施方式的液晶显示装置的制造方法进行说明。与第1实施方式相同，在UV光照射装置20的照射台22上放置粘合基板30，照射UV光。如图5所示，从相对于基板倾斜的方向入射到玻璃基板7的光线c、d透过玻璃基板7入射到玻璃基板6。光线c在玻璃基板6背面或照射台22表面被反射，入射到密封剂16的被光照射区域40。而光线d在玻璃基板6背面或照射台22表面被反射，在金属布线41的背面进一步被反射。光线d在玻璃基板6背面或照射台22表面再次被反射，入射密封剂16的被光照射区域40。光线d在BM8和金属布线42上又被反射，也入射到密封剂16的被光照射区域40中与金属布线42重叠所形成的区域。
玻璃基板6的厚度与单元间隙相比极厚。累此，UV光到达密封剂16的被光照射区域40的反射次数较少，UV光强度的衰减小。由此，硬化所需强度的UV光可以照射到密封剂16的被光照射区域40的全部，密封剂16的被光照射区域40迅速硬化。因此，不产生液晶污染。
其中，由于与金属布线41重叠所形成的区域的密封剂16基本没有硬化，所以出现了两块基板2、4间的连接强度不够的情况。在这种情况下，可以预先混入热硬化性密封剂，进行例如加热粘合基板30，使未硬化的密封剂16硬化的2次硬化。
而且，如果被光照射区域40的宽度极窄，则在液晶一侧会发生光泄漏造成液晶污染。因此，被光照射区域40的宽度要根据材料特性值及制造工序等诸多条件的相关关系来决定。
下面，用图6对根据本发明的第3实施方式的液晶显示装置进行说明。图6表示根据本实施方式的液晶显示装置的框缘部附近的概略截面结构。如图6所示，在TFT基板2的玻璃基板6上，从密封剂16的液晶14一侧的端部到显示区域的外侧的范围中，例如形成由栅极总线形成层及漏极总线形成层等金属层构成的遮光层50。为了防止因透过密封剂16的UV光入射到液晶14造成液晶14污染而设置遮光层50。与基板面垂直地进行观察，遮光层50具有重叠宽度在0.1mm以下的与密封剂16重叠的重叠领域44。
如图6所示，从相对基板面倾斜的方向入射到玻璃基板7的光线e、f透过玻璃基板7入射到玻璃基板6。光线e在基板6背面或照射台22表面被反射，在BM8的表面再次被反射。光线e在玻璃基板6背面或照射台22表面又再次被反射，向框缘部的液晶14照射，在遮光层50被反射。如此，遮光层50使UV光的反射次数增加，尽可能地使UV光的强度减弱。
入射到玻璃基板6的光线f，在玻璃基板6的背面或者照射台22表面被反射，在金属布线41的背面再次被反射。光线f在玻璃基板6的背面或者照射台22表面再次被反射，在BM8的表面被反射。然后，在遮光层50表面和BM8表面之间多次反射，强度减弱。因此，在UV光入射到液晶4时，强度已经足够低了。
根据本实施方式，高强度的UV光不会入射液晶14，因此液晶14不会被污染。因此，可以获得显示质量良好的液晶显示装置。
下面，用图7及图8对根据第4实施方式的液晶显示装置用基板及具有该基板的液晶显示装置进行说明。首先，对作为本实施方式的前提的液晶显示装置的制造工序进行说明。图7是说明根据本实施方式的液晶显示装置的制造工序的图，表示采用形成多面(例如采用4面)的粘合基板68。粘合基板68由例如将滴下液晶14的TFT基板2和在各液晶显示板70外周涂敷了密封剂16的CF基板4粘合而构成。并且，在粘合基板68的例如四角，将定位用密封剂60涂敷成例如直径为1～2mm的圆形。
使用基板粘合装置以指定的粘合精度将TFT基板2和CF基板4的位置对齐，之后将UV光局部地照射到定位用密封剂60上，使其硬化。使定位用密封剂60硬化，并达到在从基板粘合装置搬送到UV光照射装置期间两块基板2、4间不发生错位的强度。但是，在此时由于单元间隙的精度及液晶14扩散都不充分，如果将密封剂(主密封)16也硬化，则会变为不合格产品。
图8是表示根据本实施方式的液晶显示装置用基板的概略构成的截面图。如图8所示，CF基板4在涂敷定位用密封剂60的定位用密封剂涂敷区域附近，具有例如由金属层构成的遮光层62。遮光层62遮挡光，使UV光源24照射到定位用密封剂60的UV光的漏光不能照射到密封剂16。
其中，在液晶显示装置完成工序中，可以定位用密封剂60及遮光层62切除并废弃。
根据本实施方式，使定位用密封剂60硬化时密封剂16没有硬化，因此液晶显示装置的不合格产品会减少。
下面，用图9及图10对根据本发明的第5实施方式的液晶显示装置及其制造方法进行说明。图9是表示根据本实施方式的液晶显示装置框缘部附近的结构示意截面图。如图9所示，在CF基板4的玻璃基板7板外侧(图中上方)的表面，作为变更光的光路的光路变更部，例如形成压纹状的细微凹凸72。凹凸72至少要在BM8的外侧区域形成。而且，凹凸72要在照射UV光使密封剂16硬化并制成粘合基板的工序前形成。
其次，对根据本实施方式的液晶显示装置的制造方法进行说明。首先，以指定的工序制造TFT基板2和CF基板4。然后，在CF基板4的BM8形成面的背面至少在BM8的外侧，例如实施形成压纹状的细微凹凸72的光路变更处理。接着，例如在TFT基板2表面的多个位置滴下规定量的液晶14，在CF基板4外周涂敷密封剂16。而后，使用基板粘合剂装置在真空中将两块基板2、4的位置对齐并粘合，制成粘合基板。此后，将粘合基板返回空气中，则粘合基板间的液晶14因大气压而扩射开。其中，也可以在下面所述的照射UV光使密封剂16硬化工序之前，例如在玻璃基板7上形成CF前或粘合基板制成后，形成凹凸72。
然后，使用UV光照射装置将UV光照射到密封剂16上。如图9所示，由与形成凹凸72前的基板面(以下简称为[基板面])相对比较垂直的方向入射到玻璃基板7的光线g、h，入射到凹凸72的一个斜面。入射到使玻璃基板7外侧(图中右侧)变低的倾斜斜面的光线g发生折射，变为光线g’。同样，入射到使玻璃基板7外侧变低的倾斜斜面的光线h发生折射，变为光h’。光线g’相对光线g，光路被变更到密封剂16一侧。光线h’相对光线h，光路被变更到密封剂16一侧。光线g’、h’具有方向被变更为与基板面更平行的光路。
光线g’、h’透过玻璃基板7入射到玻璃基板6。光线g’、h’在玻璃基板6的背面(面板外侧表面)或与基板6背面相接触的照射台(图9未图示)表面被反射，入射到密封剂16。此后，光线g’、h’在金属布线10、11、12表面再次被反射，入射密封剂16中与金属布线10、11、12重叠所形成的区域。由此，UV光可以照射到密封剂16的全部区域，密封剂16迅速硬化。然后，可以将基板2、4的密封剂16的外侧断开、废弃。经过以上工序，完成根据本实施方式的液晶显示装置。
在本例中将凹凸72做成压纹状，但是也可以形成将入射到玻璃基板7的光的光路变更到密封剂16一侧的棱镜状的凹凸72。而且除此以外，如果通过使入射的光散射或折射，能够至少将一部分光的光路变更到密封剂16一侧，则以其他形状形成凹凸72也可以。并且，在本例中在CF基板4的板外侧表面上形成凹凸72，但是，也可以在TFT基板2的板外侧表面(图中下方)形成凹凸72。
而且，如果是不会使显示质量降低程度的细微，那么在显示领域形成凹凸72也可以。如果在CF基板4的面板外侧表面的全部显示区域形成细微的凹凸72，那么它会成为表面防止反射用的漫射片的替代品，于是会产生不需要在玻璃基板7表面粘贴漫射片的效果。
根据本实施方式，可以将来自与基板面接近垂直的方向入射到玻璃基板7的光的光路变更到密封剂16一侧。一般使用UV光照射装置照射光时，因为从与基板面接近垂直的方向入射到玻璃基板7的光的光量多，所以可以将更多光量的光照射到密封剂16上。因而，即使将光硬化性的密封剂16重叠地涂敷在BM8上，也可以使密封剂16更迅速地硬化。因此，在采用滴下注入法制造时，也可以实现液晶显示装置窄框缘化。
下面，对根据本实施方式的液晶显示装置及其制造方法的变形例进行说明。图10表示本变形例的液晶显示装置的结构。如图10所示，作为变更光的光路的光路变更部，是光学薄膜的漫射片74被粘贴在CF基板4的玻璃基板7的板外侧(图中上方的)的表面。漫射片74至少要粘贴在BM8的外侧区域。并且，漫射片74在照射UV光使密封剂16硬化并制成粘合基板的工序前被粘贴。
其次，对根据变形例的液晶显示装置的制造方法进行说明。首先，以指定的工序制造TFT基板2和CF基板4。然后，在CF基板4的BM8形成面的背面一侧的几乎全部面上(至少在BM8的外侧)，实施粘贴一般在粘合基板制成后被粘贴的漫射片74的光路变更处理。接着，例如在TFT基板2表面的多个位置滴下规定量的液晶14，在CF基板4外周涂敷密封剂16。然后，使用基板粘合剂装置在真空中将两块基板2、4的位置对齐并粘合，制成粘合基板。此后，将粘合基板返回空气中，则粘合基板间的液晶14因大气压而扩射开。其中，也可以在照射UV光使密封剂16硬化工序之前，例如在玻璃基板7上形成CF前、粘合基板制成后粘贴漫射片74。
然后，使用UV光照射装置将UV光照射到密封剂16上。如图10所示，由与基板面接近垂直的方向入射到玻璃基板7的光线i、j，入射到漫射片74。光i在漫射片74被漫射，一部分作为光线k透过。光线j在漫射片74被漫射，一部分作为光线1透过。光线k相对光线i，光路被变更到密封剂16一侧，光线l相对光线j，光路被变更到密封剂16一侧。光线k、l具有方向被变更为与基板更平行的光路。
光线k、l透过玻璃基板7入射到玻璃基板6。光线k、l在玻璃基板6的背面(面板外侧表面)或与基板6背面相接触的照射台(图10未图示)表面被反射，入射到密封剂16。此后，光线k、l在金属布线10、11、12表面再次被反射，入射到密封剂16中与金属布线10、11、12重叠所形成的区域。由此，UV光被照射到密封剂16的全部区域，密封剂16迅速硬化。此后，从基板2、4的密封剂16将外侧断开废弃即可。经过以上工序，就完成了本实施方式的液晶显示装置。
在本例中，在CF基板4的面板外侧表面粘贴光路变更部漫射片74，但是，也可以在TFT基板2的面板外侧表面粘贴漫射片74。而且，在本例中，作为光学薄膜粘贴了漫射片74，但是，也可以粘贴如棱镜片等至少可以将一部分光的光路变更到密封剂16一侧的其他光学薄膜。或者代替形成光路变更部的光路变更部处理，作为使入射光的透射光率和入射到玻璃基板7里的光的光量增加的入射光增加部，实施将防止反射(AR)薄膜等光学薄膜粘贴到CF基板4的面板外侧表面的入射光增加处理也可以。进而，也可以重叠粘贴多个这种光学薄膜。而且，光学薄膜也可以具有作为偏振板的功能。
在本例中，将漫射片74等光学薄膜粘贴在包含显示区域的几乎全部面上，但是，也可以仅粘贴在BM8的外侧的区域。在这种情况下，粘合基板制成后将其他光学薄膜粘贴在显示区域及其周围的工序成为必要。
根据本变形例，不需要在TFT基板2或CF基板4的面板外侧表面形成凹凸72的工序，因此可以简化液晶显示装置的制造工序。
本发明不仅限于上述实施方式，可以进行各种变形。
例如，上述第1、第2及第5实施方式中，例举了采用滴下注入法注入液晶的液晶显示装置，但是，本发明不仅限于此，也可应用于采用真空注入法注入液晶的液晶显示装置。
此外，上述实施方式中，从CF基板4一侧照射UV光，但是，本发明不仅限于此。例如，在TFT基板2一侧形成了滤色器的CF-on-TFT结构时，也可以从TFT基板2一侧照射UV光。并且，如果使用遮挡显示区域的掩模，也可以从没有形成CF的TFT基板2一侧照射UV光。
此外，上述实施方式中，以透过型液晶显示装置为例，但是，本发明不仅限于此，也可应用于反射型或半透过型等其他的液晶显示装置。
如上所述，根据本发明，可以实现制造工序的简单化和可以实现窄框缘的液晶显示装置用基板及具有该基板的液晶显示装置及其制造方法及制造装置。
权利要求
1.一种液晶显示装置，其特征在于，具有相对配置的两块基板；密封在所述两块基板间的液晶；在一块所述基板的外周形成的遮挡光的遮光膜；以所述遮光膜划定的显示区域；金属层，在另一块所述基板的所述外周的所述液晶一侧形成，并且宽度在0.1mm以下；光硬化性密封剂，从与基板面垂直的方向看，该光硬化性密封剂以与所述遮光膜重叠的方式涂敷在所述外周，并具有与所述金属层重叠的被光照射区域。
2.权利要求1所述的液晶显示装置，其特征在于所述另一块基板在所述显示区域端部到所述密封剂的所述显示区域一侧端部的区域，具有遮挡光的遮光层。
3.权利要求2所述的液晶显示装置，其特征在于从与基板面垂直的方向看，所述遮光层具有重叠宽度在0.1mm以下的与所述密封剂重叠的重叠领域。
4.权利要求1至3的任一项中所述的液晶显示装置，其特征在于所述一块基板或所述另一块基板中的至少其中之一，在所述遮光膜的外侧的表面上，具有将入射光的光路变更到所述密封剂一侧的光路变更部。
5.权利要求4所述的液晶显示装置，其特征在于所述光路变更部包含在光照射到所述密封剂之前所形成的凹凸。
6.权利要求4所述的液晶显示装置，其特征在于所述光路变更部包含在光照射到所述密封剂之前粘贴的光学薄膜。
7.权利要求6所述的液晶显示装置，其特征在于所述光学薄膜包含漫射片。
8.权利要求6或7所述的液晶显示装置，其特征在于所述光学薄膜包含棱镜片。
9.权利要求1至3的任一项所述的液晶显示装置，其特征在于所述一块基板在所述遮光膜的外侧的表面上，具有使入射光增加的入射光增加部。
10.权利要求9所述的液晶显示装置，其特征在于所述入射光增加部包含在光照射到所述密封剂之前粘贴的光学薄膜。
11.权利要求10所述的液晶显示装置，其特征在于所述光学薄膜包含防止反射薄膜。
12.一种液晶显示装置用基板，其特征在于，具有遮光膜，其形成在透明的基板上；密封剂涂敷区域，其配置在所述遮光膜上，在与相对配置的相对基板粘合时，涂敷密封剂；定位用密封剂涂敷区域，在粘合相对配置的基板时，涂敷定位用密封剂；遮光层，配置在所述定位用密封剂涂敷区域的周围以遮挡光，使得照射到所述定位用密封剂上的光不照射到所述密封剂上。
13.一种液晶显示装置，其特征在于在具有相对配置的两块基板和被密封在所述两块基板间的液晶的液晶显示装置中，所述两块基板的一块使用权利要求12所述的液晶显示装置用基板。
14.一种液晶显示装置的制造装置，其特征在于，具有照射台，其放置通过光硬化性密封剂使两块基板粘合的粘合基板；光源，其将光照射到所述粘合基板上使所述密封剂硬化；反射镜，其使所述光反射，以使所述光沿相对所述粘合基板的表面倾斜的方向入射。
15.一种液晶显示装置的制造装置，其特征在于，具有照射台，在照射面上放置通过光硬化性密封剂使两块基板粘合的粘合基板，并且所述照射面上具有光反射率高的金属层、白色板或散射片中的任何一种；光源，其将光照射到所述粘合基板上使所述密封剂硬化。
16.一种液晶显示装置的制造方法，具有第一工序，将光硬化性密封剂涂敷到一对基板的一块的外周；第二工序，通过所述密封剂使所述一对基板粘合而制成粘合基板；第三工序，照射光使所述密封剂硬化，其特征在于在所述第三工序之前，还有以下工序在所述粘合基板表面或背面至少其中之一的所述密封剂涂敷区域的外侧，实施使入射到所述基板的光的光路变更到所述密封剂一侧的光路变更处理，或实施使入射到所述基板的光增加的入射光增加处理。
全文摘要
本发明提供一种液晶显示装置用基板及具有该基板的液晶显示装置及其制造方法和制造装置，目的是简化制造工序并且实现窄框缘。该液晶显示装置具有相对配置的TFT基板2和CF基板4；密封在两块基板2、4间的液晶14；CF基板4外周所形成的遮光膜8；遮光膜8所划定的显示区域；TFT基板2外周的液晶14一侧所形成的宽度为0.1mm以下的金属层10、11、12；从与基板面垂直的方向看，与遮光膜8重叠地被涂敷在外周，并具有与金属层10、11、12重叠的被照射光区域40的光硬化性密封剂16。
文档编号G02F1/1335GK1447161SQ0312130
公开日2003年10月8日 申请日期2003年3月25日 优先权日2002年3月27日
发明者鈴木英彦, 村田聪 申请人:富士通显示技术株式会社