专利名称：基板涂敷设备和所述基板涂敷设备的涂敷方法
技术领域：
本发明涉及一种能够横过基板的整个长度和宽度施加一致厚度的涂 层的基板涂敷设备和涂敷方法。
背景技术：
因为施加到用于等离子显示面板等的基板上的涂敷要求很高的精度， 因此，有效地控制施加到基板表面上的涂敷的过程很重要。然而，对用于 涂敷宽度通常超过两米的新的更宽的显示面板的过程的质量的控制目前
已经变得很难。参考文献l为说明了称作"v4/ /7"caf/o" M"/2odo/Z)/e Coa&,' 的发明的日本未审查的专利公开出版物，该发明致力于解决将一致厚度的 液体抗蚀层施加到可能具有波纹、翘曲、和/或具有不同厚度的部分的玻 璃基板上的问题。在此方法中，在模具涂敷器和施加液体抗蚀剂的玻璃基 板表面上的区域之间的实际间隙初始通过模具涂敷器上的非接触式距离 传感器测量，计算在整个抗蚀剂区域中的实际间隙和基准间隙之间的差 值，然后在根据计算值使模具涂敷器上升或下降的同时进行涂敷过程，以 便保持玻璃基板和模具涂敷器之间的一致间隙。日本未审查专利公开出版物H10-42
发明内容
在现有的技术结构中，模具涂敷器沿玻璃基板的长度移动并涂敷，且 沿其长度方向相对任何不平坦的基板表面进行。然而，模具涂敷器沿为模 具涂敷器长度方向的基板宽度方向无法响应玻璃基板表面的任何不平坦。 模具涂敷器能通过向上或向下运动倾斜，但只能沿线性平面运动，因此， 不能在横过玻璃基板的整个宽度延伸的基板厚度的变化(例如，波形变形)上施加一致的涂层。
已经考虑了现有技术中的缺陷，发明人提出了一种能够将涂层施加到 基板上的基板涂敷设备以及涂敷方法，其中涂层横过基板的整个长度和宽 度为一致的厚度。
本发明的基板涂敷设备包括涂敷喷嘴，所述涂敷喷嘴形成为其长度设 置为越过存在于基座板上的基板的宽度的线性件，其中涂敷喷嘴横过基板 的长度移动，以便将涂层施加到所述基板上。本发明的基板涂敷设备还包 括
多个喷嘴定位器，所述多个喷嘴定位器沿涂敷喷嘴的长度以适当的间隔安 装，作为调节安装到涂敷喷嘴的排出口的高度的装置；
多个距离传感器，所述多个距离传感器安装到涂敷喷嘴，每个距离传感器 都位于对应的喷嘴定位器的安装位置处，且每个距离传感器都用于在涂敷 喷嘴移动过基板时，通过在沿基板的长度设置的多个量测点处检测涂敷喷 嘴和基板之间的间隙量，在基板的栅格图案上测量基板表面上的波形结构 的高度；以及
控制单元，所述控制单元利用从每个距离传感器输入的间隙量，计算沿基 板的长度的每个距离传感器处的平均间隙量，并根据平均间隙量控制喷嘴 定位器的致动。
不需要将距离传感器安装在与对应的喷嘴定位器相同的位置处。在此 情况下，控制单元利用由沿基板的宽度的至少两个量测点处获得的间隙量 计算喷嘴定位器处的间隙尺寸，并应用这些间隙尺寸来控制喷嘴定位器的 致动。
控制单元使用高度检测值，以便通过喷嘴定位器设定涂敷喷嘴与基座 板齐平的位置。通过沿涂敷喷嘴的长度以适当的间隔安装的高度传感器输 出的高度检测值显示涂敷喷嘴相对基座板的高度。
不采用上述平均间隙量，控制单元可以使用在多个量测点中的每一个 处测量的间隙量、以及沿基板的长度在两个相邻量测点之间测量的间隙量 的增加或减小量来控制每个喷嘴定位器的致动。
本发明的基板涂敷方法利用先前所述的基板涂敷设备通过控制的顺序涂敷基板，其中涂敷喷嘴初始横过基板的长度向前移动，以通过距离传 感器测量间隙量，接着，终止涂敷喷嘴的向前移动，通过控制单元致动喷 嘴定位器，随后喷嘴横过基板的长度向后移动并涂敷基板。
本发明的基板涂敷方法还可以利用基板涂敷设备通过控制的顺序涂 敷基板，其中涂敷喷嘴初始在横过基板的长度的向前方向上移动，以通过 距离传感器测量间隙量，随后控制单元控制喷嘴定位器的制动，涂敷喷嘴 在此期间横过基板的长度向后移动并涂敷基板。
本发明的基板涂敷设备及其涂敷方法能够沿基板的长度和宽度方向 将一致厚度的涂层施加到基板上，而与基板厚度的任何波状变化无关。
图1是本发明的基板涂敷设备的优选实施例的斜视图2是显示图1实施例的支腿件和垂直壁件的水平投影图3是本发明的基板涂敷设备的侧视图4是图3中箭头'A'方向的结构的视图5是图3中箭头'B'方向的结构的视图6是从箭头'C'方向观察且喷嘴停止在其等待位置处的图1所示的本
发明的基板涂敷设备的视图7是具有第一和第二喷嘴定位器的图1所示的本发明的基板涂敷设 备在调节结构中的视图8是说明图7中执行的调节方法的说明图9是说明在图1所示的本发明的基板涂敷设备中的排出口的高度调 节的说明图10是图1所示的本发明的基板涂敷设备的涂敷过程的侧视图；以及 图ll是说明本发明的基板涂敷设备的改进实施例的说明图。 1:基座板 2:基板3:涂敷喷嘴 4:排出口
5a 5e:喷嘴定位器 6a 6e:距离传感器 7:控制单元 17:高度传感器
具体实施例方式
下面将参照附图提供本发明的基板涂敷设备及其涂敷方法的优选实
施例的详细说明。如图1到图10所示，本发明的基板涂敷设备主要包括涂 敷喷嘴3 (在后文中称为"喷嘴3")，所述涂敷喷嘴为长度横过存在于基座 板1上的基板2的宽度的线性件，喷嘴3能够横越基板2的长度以将涂层施加 到所述基板上。本发明包括沿喷嘴3的长度以沿基板2的宽度的适当间隔安 装到其上的多个喷嘴定位器5c 5e，所述喷嘴定位器具有调节形成作为喷 嘴3的一部分的排出口4的高度的目的。本发明还包括安装到喷嘴3的多个 距离传感器6c 6e，每个距离传感器6c 6e都安装在与对应的喷嘴定位器 5c 5e相同的位置处并与喷嘴定位器5c 5e组成组。作为在喷嘴3的移动 期间在栅格图案上测量基板2的表面变形的装置，距离传感器6c 6e在沿 基板2的长度设置的多个量测点"Q"处测量喷嘴3和基板2之间的间隙量。通 过每个距离传感器6c 6e测量的多个间隙量被输入到控制单元7，所述控 制单元计算对于沿基板2的长度的每个距离传感器6c 6e的平均间隙量 G3 G5，并用每个平均间隙量G3 G5来控制每个喷嘴定位器5c 5e的致 动。
在喷嘴定位器5a和5b中的每一个都不沿喷嘴3的长度定位并且不与对 应的距离传感器6a和6b组成组的情况下，控制单元7在喷嘴定位器5a和5b 的各位置处应用假想的间隙尺寸X1和X2，所述假想的间隙尺寸X1和X2是 从沿基板2的宽度的至少两个量测点'Q'处取得的平均间隙量G1和G2计算 而得，以控制喷嘴定位器5a和5b的致动。
基座板l的上表面形成为表现出高平面度的精密平面表面。将可以为 玻璃或其它材料的基板2放置在基座板1的上表面上。设置在基板2上方的喷嘴3排出液体介质L并将涂层施加到基板2上。在此实施例中，喷嘴3包括:横过基座板1的宽度设置在基板2的两侧的左支腿件及右支腿件8;连接和 跨越在左支腿件和右支腿件8之间的垂直壁件9;高刚性的抗弯曲反作用框架10，所述高刚性的抗弯曲反作用框架在垂直壁件9的上方跨越支腿件8， 并且由连接到对应的左支腿件和右支腿件8的喷嘴定位器5a和5b支撑；以 及喷嘴体ll，所述喷嘴体设置在由左支腿件和右支腿件8以及垂直壁件9围 绕但与其空间上分开的反作用框架10的下方。喷嘴体11为横过基板2的宽度定位的线性件，并包含狭缝形状的排出 口4，排出口4横过基板2的宽度沿喷嘴体11的长度形成，并且液体介质L 经由排出口4排出。安装在基座板1的上表面和每个支腿件8之间的线性电 动机12横过基座板1的长度往复推进喷嘴3。此结构保证了喷嘴3从等待位 置(standby position) 'J，开始的往复移动，其中喷嘴3初始前进横过基板2 的长度，在转向位置K处停止，并返回和停止在等待位置T。喷嘴3包含沿喷嘴体11的长度安装在相对端处的第一和第二喷嘴定位 器5a和5b、以及安装在喷嘴体ll的顶部上的第三、第四和第五喷嘴定位器 5c 5e。第一和第二喷嘴定位器5a和5b通过由伺服电动机13提供动力的滚 珠螺杆或其它形式的顶起装置(jacking device)驱动，并获得相对支腿件 8的反作用力。在支腿件8上由第一和第二喷嘴定位器5a和5b沿垂直轴相对 反作用框架10的端部施加的推力或拉力导致喷嘴体11相对基板2的姿态 (attitude)的调节，因此，调节喷嘴体11上的排出口4的高度。第三到第五喷嘴定位器5c 5e横过基板12的宽度沿反作用框架10的 长度以适当的间隔安装，而喷嘴体ll通过第三到第五喷嘴定位器5c 5e由 反作用框架10支撑。第三喷嘴定位器5c安装在反作用框架10的中心区域， 而第四和第五喷嘴定位器5d和5e以一致的间隔安装在第三喷嘴定位器5c 对应的左侧及右侧。第三到第五喷嘴定位器5c 5e中的每个都包括固定地 连接到反作用框架10的壳体14、能够沿垂直轴自由滑动通过壳体14并通过 穿过反作用框架10连接到喷嘴体11的上表面的杆件15、以及向杆件15的滑 动运动供以动力的在壳体14内的驱动装置。第三到第五喷嘴定位器5c 5e 通过获得的相对反作用框架10的反作用力向下推动或向上拉起喷嘴体11 穿过壳体14。因此，喷嘴体11将根据杆件15的向上或向下运动弯曲。此运动具有相对基板2改变排出口4的高度的效果。例如，如果第三喷嘴定位器 5c向下推动喷嘴体11，而第四和第五喷嘴定位器5d和5e向上拉起喷嘴体 11，则喷嘴体11将弯曲而在反作用框架10的下方横过整个喷嘴体11的长度 形成波形轮廓，因此横过基板2的宽度调节排出口4的高度。距离传感器6a 6e在与喷嘴体ll相对的位置处安装到垂直壁件9。此 实施例说明了为第一到第五距离传感器6a 6e的形式的五个距离传感器 的安装。第三到第五距离传感器6c 6e定位在对应的第三到第五喷嘴定位 器5c 5e处并与其分别组成组，因此形成多个组，其中每个组都包括喷嘴 定位器和距离传感器。第一和第二距离传感器6a和6b以等于第三到第五距 离传感器6c 6e之间的间距的间隔分别安装在第一和第四喷嘴定位器5a 和5d以及第五和第二喷嘴定位器5e和5b之间。第三到第五距离传感器6c 6e用于控制各第三到第五喷嘴定位器5c 5e，而第一和第二距离传感器6a 和6b分别用于控制相邻的第一和第二喷嘴定位器5a和5b。距离传感器6a 6e测量和输出喷嘴3和基板2之间的距离的间隙量。例 如，这些距离传感器可以采用激光传感器，用以通过测量发射的激光束到 从基板2反射需要的时间来计算距离。当喷嘴3横移过基板2的长度时，距 离传感器6a 6e以一致的时间间隔沿基板2的长度在多个量测点'Q'(在图 中显示为'n'的位置)处测量间隙量。因此，在基板2中的波形变形可以通 过沿横过基板2的宽度设置的喷嘴3的长度布置的多个距离传感器6a 6e在栅格图案上测量。高度传感器17安装在基座板1的上表面上的等待位置T处。在此实施 例中，高度传感器17沿喷嘴3的长度定位在每个距离传感器6a 6e处。高 度传感器17检测和输出喷嘴3相对基座板1的高度值，以便将排出口4的高 度调节成设定值。在此实施例中，每个高度传感器17都包括通过弹簧18 支撑并在基座板1上以设定值'M'暴露的暴露接触件19。当接触件19抵抗弹 簧18的张力向下推动时，将零(0)冲程值输出到使接触件19与基座板1 的上表面位于相同的平面上的点。喷嘴体11的下降运动使得排出口4周围 的区域与接触件19接触，并将接触件19向下推动，因此，可以监测到接触 件19的向下冲程并输出表示喷嘴体11的高度的对应值。高度传感器17和距离传感器6a 6e被连接到控制单元7，所述高度传感器和所述距离传感器分别将表示监测高度和间隙量的输出数据输出到所述控制单元。为了获得需要的涂层厚度，将表示基板2的上表面和排出 口4之间的距离的间隙设定值GS输入到控制单元7。控制单元7被连接到第 一到第五喷嘴定位器5a 5e，并根据从高度传感器17获得的数据值致动第 一到第五喷嘴定位器5a 5e，并且通过使排出口4的整个长度的高度符合 设定值'M'来使排出口4水平，从而使喷嘴3的姿态相对基座板1变为水平。 将排出口4的高度调节到设定值'M'的控制值(控制值等于玻璃基板的厚度 一即，2.8mm)使得可以计算从每个高度传感器17输入的数据值，并且所 述控制值被输出到第一到第五喷嘴定位器5a 5e。此时，距离传感器6a 6e测量到没有被基板2覆盖的基座板l的上表面的区域的距离(图1和图3所 示的量测点'Q， (O))。此时，执行控制过程，以便作为减小施加到第三到第五喷嘴定位器5c 到5e的控制值的方式，通过增加输出到第一和第二喷嘴定位器5a和5b的控 制值来主要操作第一和第二喷嘴定位器5a和5b来设定喷嘴3的高度和姿 态，而不必弯曲喷嘴体ll。更具体地，第一和第二喷嘴定位器5a和5b被致 动，以便将位于第一和第二距离传感器6a和6b处的两个高度传感器17的数 据值设定为设定值'M，。然后，致动第三到第五喷嘴定位器5c 5e，以便 将位于第三到第五距离传感器6c 6e的位置处的三个高度传感器17的数 据值设定为设定值'M'。当排出口4的姿态被假设为通过设定值'M'确定的 水平时，控制单元7将间隙量'G'(通过距离传感器监测)设定为零(参见 图6)。执行此种类型的尺寸控制，以便将基座板l的上表面建立为用于排 出口4和距离传感器6a 6e的基准。将通过第一到第五距离传感器6a 6e从量测点Q (1)到Q (n)获取 的间隙量输入到控制单元7，然后控制单元7利用该数据计算在每个距离传 感器6a 6e处横过基板2的长度的平均间隙量Gl G5。例如，通过第三距 离传感器6c进行的测量检测在第三喷嘴定位器5c处横过基板2的长度的'n， 位置处的间隙量，然后，控制单元7根据表示'n'位置处的间隙量的数据计 算平均间隙量G3。在此特定的实施例中，计算五个平均间隙量G1 G5。 控制单元7控制第一到第五喷嘴定位器5a 5e的致动，以便使所有的平均 间隙量G1 G5符合间隙设定值'GS，。控制单元7将与根据从第三到第五距离传感器6c 6e输入的数据的平均间隙量G3 G5相对应的控制值分别输 出到第三到第五喷嘴定位器5a 5e。因为第一和第二喷嘴定位器5a和5b的安装位置不同于第一和第二距 离传感器6a和6b的安装位置，所以，对于基板2和排出口4计算在第一和第 二喷嘴定位器5a和5b的位置处的两个假想的间隙尺寸Xl和X2，假想的间 隙尺寸X1和X2从沿基板2的宽度的'Q'量测点获得的至少两个平均间隙量 G1和G2导出。然后，这些间隙尺寸X1和X2作为用于第一和第二喷嘴定位 器5a和5b的控制值输出。例如，如图8所示，基座板1的上表面和喷嘴体11的排出口4呈平行取 向。当由第一距离传感器6a测量的平均间隙量Gl的减少等于由第二距离传 感器6b测量的平均间隙量G2增加的绝对值时，认为两个间隙量与由在基板 2的中心处的第三距离传感器6c测量的平均间隙量G3相关，基板2的上表面 沿与排出口4的水平姿态齐平的线性平面倾斜。在此情况下，如果第一和 第二喷嘴定位器5a和5b之间的距离指定为Wm，第一和第二距离传感器6a 和6b之间的距离指定为Ws，且第一到第三距离传感器6a 6c测量的平均间 隙量分别指定为G1 G3，则假想的间隙尺寸X1和X2可以用作用于基座板 l的上表面相对在基板2的外侧处的第一和第二喷嘴定位器5a和5b的位置 的基准。这样就可以进行以下的计算以设定控制值。G3= (Gl+G2) /2X1=G3+ (G1匿G3) 'Wm/WsX2=G3+ (G2-G3) 'Wm/Ws控制单元7输出已经等于间隙设定值GS的假想的间隙尺寸X1和X2， 所述间隙尺寸作为确定致动第一和第二喷嘴定位器5a和5b的控制值。响应 从控制单元7输出的控制值，第一和第二喷嘴定位器5a和5b相对支腿件8升 高或降低反作用框架IO。此外，第三到第五喷嘴定位器5c 5e相对反作用 框架10升高或降低喷嘴体11，因此将排出口4相对基板2的高度设定为间隙 设定值GS (图9)。以下将说明利用先前说明的涂敷设备的基板涂敷方法的实施例。首 先，在喷嘴3位于等待位置'J'处的情况下，对排出口4设定缺省高度。为了 设定缺省高度，第一 (左)和第二 (右)喷嘴定位器5a和5b将反作用框架10和喷嘴体11降低到基座板1 (图6)。降低的喷嘴体11与高度传感器17接 触，高度传感器17接着将检测值输出到控制单元7。然后，控制单元7根据 这些检测值计算控制值，并将控制值输出到第一到第五喷嘴定位器5a 5e。致动第一和第二喷嘴定位器5a和5b以设定反作用框架10的高度，然后， 致动第三到第五喷嘴定位器5c 5e，以精细调节其轮廓可以在反作用框架 10的下方弯曲的喷嘴体11的形状。此操作将喷嘴3的排出口4设定为在基座 板l的上表面上的水平姿态，以建立设定值'M，。此外，第一到第五距离传 感器6a 6e测量到基座板l的上表面的距离，并重新设定获得的值为零 (0)。通过调节等待位置T，变得可以通过利用喷嘴3的位置作为基准精 确地测量喷嘴3和基板2之间的间隙量。接下来，线性电动机12使喷嘴3从等待位置'J'前进到位于喷嘴体11的 排出口4完成基板2的涂敷的点之外的转向点'K'。在此移动期间，每个距 离传感器6a 6e都在每个'n'位置处测量基板2和排出口4之间的间隙量。当 喷嘴3到达转向点'K，时，喷嘴3立刻停止。在转向点'K，处，控制单元7根据 由距离传感器6a 6e测量的间隙量计算用于第一到第五、喷嘴定位器5a 5e的控制值，然后，作为将排出口4的高度调节为表示在基板2的上表面上 方的特定恒定高度的间隙设定值GS的方式，根据输入的控制值致动第一 到第五喷嘴定位器5a 5e以弯曲喷嘴体11。控制单元7平均由每个距离传感器6a 6e在'n，点获得的间隙量数据， 计算五个平均间隙量G1 G5以及其相对间隙设定值GS的差值。喷嘴定位 器5a 5e的控制通过首先致动第一和第二喷嘴定位器5a和5b并随后致动 第三到第五喷嘴定位器5c 5e来执行。因为第一和第二喷嘴定位器5a和5b 位于基板2的外侧，所以先前所述的假想间隙尺寸X1和X2由基于通过第一 和第二距离传感器6a和6b测量的距离的平均间隙量Gl和G2估算，而排出 口4的高度根据使间隙尺寸X1和X2相互一致并等于间隙设定值GS通过第 一和第二喷嘴定位器5a和5b调节。然后，控制单元7根据第一和第二喷嘴定位器5a和5b的致动估算第三 到第五喷嘴定位器5c 5e的位置的变化，根据由第三到第五距离传感器 6c 6e测量的间隙量校正平均间隙量G3 G5 ，并进行计算以将平均间隙 量转换为间隙设定值GS。将计算的结果作为控制值输出到第三到第五喷嘴定位器5c 5e，且排出口4根据在第一到第五距离传感器6a 6e的位置 处的所有平均间隙量G1 G5的一致被调节为间隙设定值GS的高度(图9)。当完成此调节操作后，即，当对于每个距离传感器6a 6e的位置的平 均间隙量G1 G5变为间隙设定值GS后，喷嘴3从转向点'K'朝着等待点'J' 移动过基板2的长度返回，同时排出口4将液体介质'L'喷涂到基板2(图10)。对于先前所述的基板涂敷设备和方法的实施例，在沿喷嘴3的长度以 一致的间隔隔开的多个喷嘴定位器5c 5e能够调节与喷嘴3形成一体的排 出口4的高度。每个距离传感器6c 6e都安装到喷嘴3上的对应的喷嘴定位 器5c 5e处，因此形成多个组，且每个组都包括距离传感器和对应的喷嘴 定位器。距离传感器6c 6e在喷嘴3的移动期间沿基板2的长度在多个量测 点'Q，处测量喷嘴3和基板2之间的间隙量，因此，通过基板2上的栅格图案 检测基板2的上表面上的波形变形。控制单元7进行多次计算，以根据从每 个距离传感器6c 6e输入的间隙量确定对于每个距离传感器6c 6e横过 基板2的长度的平均间隙量G3 G5，并由平均间隙量G3 G5致动每个喷 嘴定位器5c 5e。作为上述结构和操作的结果，变得可以通过利用基板2 上的栅格图案划分的间隙量数据使用喷嘴定位器5c 5e将排出口4相对基 板2的高度调节为间隙设定值GS，并沿基板2的整个长度和宽度施加高度 一致的厚度的涂层，所述涂层可以通过利用沿基板2的宽度安装的多个距 离传感器6c 6e、喷嘴定位器5c 5e以及连接到其上的控制单元7的操作 获得。此外，平均间隙量G1 G5的使用简化了控制操作，并有助于精确 和高度一致的涂敷厚度施加到基板2。通过将每个喷嘴定位器5c 5e与对 应的距离传感器6c 6e并列安装简化了该控制。此外，每个喷嘴定位器5a和5b不需要安装在与对应的距离传感器6a 和6b相同的位置处。因为距离由沿基板2的宽度的至少两个量测点'Q'测 量，所以控制单元7依然能够计算喷嘴定位器5a和5b处的假想间隙尺寸， 并因此致动所述喷嘴定位器的操作，因此，虽然喷嘴定位器5a和5b未安装 在对应于距离传感器6a和6b的位置处，仍然可以施加一致厚度的涂层。以适当的间隔横过整个喷嘴3的长度安装的高度传感器17监测排出口 4相对基座板1的高度并输出与其相关的检测数据值。控制单元7利用由高 度传感器17输出的值控制喷嘴定位器5a 5e的致动，以便设定排出口4与基座板l齐平的位置，因此，提供改进间隙量测量的精度的精细基准位置 调节。喷嘴3初始进行横过基板2的长度的向前移动，同时距离传感器6a 6e 测量间隙量。然后停止喷嘴3的移动，控制单元7致动喷嘴定位器5a 5e, 且喷嘴3横过基板2的长度向后移动，同时将涂层施加到基板2。这些操作 提供了短循环时间，在该循环时间期间可以将一致厚度的涂层施加到每个 接连的基板2，而与每个基板2上的不同波形结构无关。图ll说明了本发明的改进实施例。在此改进的实施例中，不采用平均 间隙量G1 G5，控制单元7采用沿基板2的长度在量测点'Q'处测量的间隙 量，并增加或减少沿基板2的长度的两个相邻的量测点'Q'之间计算的间隙 量。控制单元7根据前述每个量测点'Q'处的每个间隙量控制每个喷嘴定位 器5a 5e的致动。另一方面，控制单元7根据前述相邻的两个量测点'Q'之 间的每个间隙量的增加或减少控制每个喷嘴定位器5a 5e的致动。在此， 每个间隙量'Gl G5'显示通过对应的第一到第五距离传感器6a 6e测量 的距离，而'G3 60 ，显示通过第三距离传感器在量测点Q 60处测量的 间隙量。对于五个距离传感器6a 6e中的每个，沿基板2的长度都具有与 Gip W到G5(^^^间隙量相对应的'n'个量测点Q。例如，间隙量G3 和G3 (p J通过第三距离传感器6c分别在测量点Q (p-O和Q (pJ)处获得， 因此，允许在将要计算的两个相邻的量测点之间增加或减少d O人换言 之，此操作使得可以从这两个间隙量之间的增加或减少量d (>^计算出基 板2的厚度的改变(在图中显示为T (pj—T (>-/刀。距离传感器6a 6e 中的每个都以相同的方式执行此操作。在此改进的实施例中，喷嘴3首先向前移动过基板2的长度，同时距离 传感器6a 6e测量Gip^^到G5^ W。然后，喷嘴3向后移动过基板2的 长度，同时控制单元7控制喷嘴定位器5a 5e的致动，同时将涂层施加到 基板2。在向后的移动期间，根据在每个Q (n)量测点处关于测量间隙量 Glf0^2J G5(^^^的间隙设定值GS控制喷嘴定位器5a 5e。顺序控制喷 嘴定位器5a 5e以从计算出的量测点Q之间的间隙量的增加或减少量dOJ 估算间隙设定值GS。喷嘴体11在基板2上移动并涂敷基板2，同时变形以在 基板2的整个表面上获得间隙设定值GS。这样就在喷嘴3向后移动过基板2的长度的同时使喷嘴定位器5a 5e得到控制。虽然基板2的整个表面可以 表现出厚度变化的波形，但本发明也可以横过基板2的整个长度和宽度将 一致厚度的涂层施加到基板2，因此，制作出具有极其精确的一致厚度的 涂层的基板2。虽然此实施例已经说明了距离传感器6a 6e测量在其位置由适当分 隔开的间隔'n，确定的量测点Q处的间隙量的结构和方法，但还可以应用距 离传感器连续测量间隙量且控制单元7取样在时间间隔基础上输入的间隙 量数据的结构和方法。
权利要求
1.一种基板涂敷设备，包括涂敷喷嘴，所述涂敷喷嘴形成为在关于存在于基座板上的基板的横向方向上纵向设置的线性件，所述涂敷喷嘴移动过所述基板的长度，以便将涂层施加到所述基板上；多个喷嘴定位器，所述多个喷嘴定位器沿所述涂敷喷嘴的长度以适当的间隔安装，调节安装到所述涂敷喷嘴的排出口的高度；多个距离传感器，所述多个距离传感器安装到所述涂敷喷嘴，每个所述距离传感器位于与所述对应的喷嘴定位器相同的位置处，且每个所述距离传感器用于在所述涂敷喷嘴横过所述基板移动的同时在所述基板上的栅格图案上测量所述基板表面上的波形结构的高度，在沿所述基板的长度设定的多个量测点处测量所述涂敷喷嘴和所述基板之间的间隙量；以及控制单元，所述控制单元利用从每个所述距离传感器输入的间隙量，计算沿所述基板的长度的每个所述距离传感器处的平均间隙量，并根据所述平均间隙量控制所述喷嘴定位器的致动。
2. 根据权利要求l所述的基板涂敷设备，其中对于所述距离传感器未 安装在与对应的喷嘴定位器相同的位置处的所述设备的结构，所述控制单 元利用从沿所述基板的宽度的至少两个量测点获得的间隙量，计算在所述 喷嘴定位器的安装位置处的间隙尺寸，并应用所述间隙尺寸以控制所述喷 嘴定位器的致动。
3. 根据权利要求1或2所述的基板涂敷设备，其中所述控制单元利用 高度检测值来控制所述喷嘴定位器，以便设定所述涂敷喷嘴与所述基座板 齐平的位置，所述高度检测值通过沿所述涂敷喷嘴的长度以适当的间隔安 装的高度传感器输出，并且表示所述涂敷喷嘴相对于所述基座板的高度。
4. 根据权利要求1到3中任一项所述的基板涂敷设备，其中所述控制单元不是使用所述平均间隙量，而是使用在所述多个量测点中的每一个处 测量的间隙量、以及沿所述基板的长度在两个相邻的量测点之间测量的间 隙量的增加或减小量来控制每个所述喷嘴定位器的致动。
5. —种利用根据权利要求1到3中任一项所述的设备的基板涂敷方法，其中执行以下控制顺序，其中所述涂敷喷嘴初始横过基板的长度向前 移动，以通过所述距离传感器测量间隙量，接着终止所述涂敷喷嘴的向前 移动，通过所述控制单元致动所述喷嘴定位器，然后所述喷嘴定位器横过 所述基板的长度向后移动并涂敷所述基板。
6. —种利用根据权利要求4所述的设备的基板涂敷方法，其中执行以 下控制顺序，其中所述涂敷喷嘴初始在向前的方向上横过基板的长度移 动，以通过所述距离传感器测量间隙量，然后在所述控制单元控制所述喷 嘴定位器的致动期间，所述涂敷喷嘴横过所述基板的长度向后移动并涂敷 所述基板。
全文摘要
[目的]为了提供一种能够横过基板的整个长度和宽度施加一致厚度的涂层的基板涂敷设备及涂敷方法。[装置]作为调节形成于涂敷喷嘴上的排出口(4)的位置的装置，喷嘴定位器(5a～5e)横过涂敷喷嘴(3)的长度以适合的间隔安装。在涂敷喷嘴向前移动期间，安装到与对应的喷嘴定位器组成组的涂敷喷嘴上的每个距离传感器(6a～6e)沿基板的长度在多个量测点处测量涂敷喷嘴和基板(2)之间的间隙量，以便通过栅格图案测量基板表面上的波形变形。根据从每个距离传感器输入的间隙量数据，控制单元通过沿基板的长度在每个距离传感器处的平均间隙量的计算值来控制每个喷嘴定位器的致动。
文档编号B05C11/00GK101279310SQ200710196478
公开日2008年10月8日 申请日期2007年12月5日 优先权日2007年4月3日
发明者土井敏也, 泽田英之, 田边雄二, 荻野忠弘 申请人:中外炉工业株式会社