制造印刷电路板的方法以及通过该方法制造的印刷电路板的制作方法

文档序号:6900910阅读:104来源:国知局
专利名称:制造印刷电路板的方法以及通过该方法制造的印刷电路板的制作方法
技术领域
本发明涉及一种制造印刷电路板(PCB )的方法以及通过该方法制造的 PCB,更具体地讲,涉及这样一种制造PCB的方法以及通过该方法制造的 PCB,在所述方法中,使用阳极化处理(anodizing )工艺形成用于保护在基 底上形成的电路图案的氧化物层。
背景技术
近年来,随着电子电器尺寸减小并且其功能更加复杂,多芯片封装 (MCP)或其中堆叠集成电路(IC)芯片的堆叠式芯片级封装正被广泛地应 用。用于MCP或堆叠式芯片级封装的IC封装基底必须具有预定的厚度或更 小的厚度,从而MPC或堆叠式芯片级封装可被应用于具有复杂功能的小尺寸 的电子电器。
制造印刷电路板(PCB)的传统方法必须包括涂覆阻焊剂(solderresist) 的工艺,以防止在基底的外表面上暴露的电路图案(或互连图案)的氧化并 使电路图案彼此电绝缘。阻焊剂是一种涂料,通过腐蚀在基底上涂覆的铜箔 获得。本质上,阻焊剂是没有涂覆绝缘材料的棵线。
图l是使用引线的传统镀金工艺的框图,图2A至图2C是示出使用镀金 工艺制造PCB的传统方法的示图。
参照图1以及图2A至图2C,在步骤SIO,在基底1的表面上形成互连 图案2和引线图案3,由绝缘材料形成的阻焊剂4被涂覆在基底1的整个表 面上。
其后,在步骤S20,执行干法工艺、曝光工艺和显影工艺,从而形成窗5, 以在基底1上暴露键合指(bonding finger) 2a,其中,在窗5中,在基底1 的预定部分上安装芯片(未示出)。
随后,在步骤S30,将电源6连接到引线图案3,使用金2a,来电镀键合 指2a,以改善结合效率。
然而,由于必须形成镀金的引线以使用金来电镀键合指2a,因此制造传统PCB复杂而且成本高。
此外,传统阻焊剂具有高吸湿率和高热膨胀系数,因此传统PCB不能保 证高可靠性。
此外,当基底1具有非常小的厚度时,还必须在基底1上附着加强板,
从而在封装装配工艺期间的工艺步骤之间的时间间隔难以移动或处理PCB。

发明内容
本发明的示例性实施例提供一种制造印刷电路板(PCB)的方法以及通 过该方法制造的PCB,在所述方法中,通过初次阳极化处理来使用金电镀键 合指,通过二次阳极化处理工艺在基底的表面上形成绝缘层,从而可在没有 引线的情况下执行镀金工艺。
本发明的另一示例性实施例提供一种制造PCB的方法以及通过该方法 制造的PCB,在所述方法中,通过阳极化处理形成的氧化物层可有效地保护 形成在基底上的电路图案,并使电路彼此电绝缘,以增强可靠性。
本发明的另一示例性实施例提供一种制造PCB的方法以及通过该方法 制造的PCB,在所述方法中,使用陶瓷涂覆基底的表面,以使基底可保持强 度,从而没有必要将加强板附着到具有小厚度的基底,因此在封装装配工艺 期间的工艺步骤之间的时间间隔移动或处理PCB非常容易。
在一方面,本发明意在提供一种制造PCB的方法。所述方法包括将金 属层涂覆在具有形成有互连图案的外表面的基底的整个表面上;从基底的表 面部分地去除金属层,以形成用于在其中安装芯片的窗,部分地暴露互连图 案,以形成键合指;通过初次阳极化处理金属层在金属层上形成第一绝缘层; 通过向金属层供电来电镀键合指的表面;通过完全地二次阳极化处理金属层 形成位于第 一绝缘层之下的第二绝缘层。
根据本发明的多种实施例,当电镀键合指时,互连图案可不包括电镀的 引线。
金属层可由A1、 Mg、 Zn、 Ti、 Ta、 Hf和Nb中的任意一种形成。 可通过曝光工艺、显影工艺和蚀刻工艺来执行部分地暴露互连图案。 可通过镀金工艺来执行电镀键合指的表面。这里,第一绝缘层和第二绝 缘层可以是氧化物层。
在另一方面,本发明意在提供一种PCB。所述PCB包括互连图案,布置在基底的外表面上。通过部分地暴露基底表面上的互连图案形成的键合指 被使用金电镀。使用氧化物层涂覆互连图案的未暴露部分。 氧化物层可以是氧化铝(A1203 )层。


如附图所示,通过对本发明的示例性实施例的更详细的描述,本发明的 上述和其它目的、特征和优点将会变得清楚。附图不需要按比例绘制,而是 强调示图本发明的原理。
图l是使用引线的传统的镀金工艺;
图2A至图2C是示出使用镀金工艺制造印刷电路板(PCB)的传统方法 的示图3是示出根据本发明实施例的制造PCB的方法的流程图4A至图4D是示出根据本发明实施例的制造PCB的方法的示图5A至图5F是示出根据本发明示例性实施例的制造PCB的方法的示图。
具体实施例方式
现在,将在下文中参照附图更充分地描述本发明的多种实施例,本发明 示例性实施例在附图中示出。在附图中,为了清楚会夸大层和区域的厚度。 还将理解,当层被称为"在"另一层或基底"之上"时,该层可直接在另一 层或基底之上,或者还可存在中间层。贯穿说明书,相同的标号表示相同的部件。
图3是示出根据本发明的多种实施例的制造PCB的方法的流程图,图 4A至图4D是示出根据本发明的多种实施例的制造PCB的方法的示图。
参照图3以及图4A至图4D,根据本发明的多种实施例的制造PCB的 方法包括在具有外表面的基底110的整个表面上涂覆金属层113,其中,在 所述外表面上形成互连图案111 (步骤110)。在步骤S120,从基底110的表 面部分地去除金属层113,以形成用于在其中安装芯片(未示出)的窗,并 在基底110的表面上部分地暴露互连图案,以形成4建合指llla。在步骤S130, 初次阳极化处理金属层113,以在金属层113的表面上形成绝缘层113a。在 步骤S140,通过向金属层113提供电源115来使用金llla,电镀键合指llla的整个表面。在步骤S150, 二次阳极化处理金属层113,从而整个金属层113 (即,金属层113的表面和内部)由绝缘材料或氧化物形成。
在初次阳极化处理工艺期间,仅金属层113的表面被氧化,在二次阳极 化处理工艺期间,不仅金属层113的表面被氧化,而且金属层113的内部也
被氧化。
在初次阳极化处理期间,仅金属层113的表面被氧化,从而金属层113 可电连接到由铜箔形成的互连图案111,可使用金llla,电镀互连图案111的 键合指111 a。
可通过溅射工艺或蒸镀工艺来涂覆金属层113。
在步骤S120,可通过曝光工艺、显影工艺和蚀刻工艺来执行对使用金 llla,电镀的互连图案111的键合指llla的曝光,可使用用于蚀刻铝的材料(例 如,氢氧化钠或者硝酸、磷酸和乙酸的混合物)来执行蚀刻工艺。
在根据本发明的多种实施例的制造PCB的方法中,当使用金llla,电镀 键合指llla时,互连图案111不包括电镀引线。换句话说,由于在不使用引 线的情况下执行使用金llla,的电镀,因此在互连图案111的形成期间不准备 引线。
在步骤S140,可通过使用金111a,的电镀来执行4定合指llla的表面的电 镀。这里,键合指llla是指互连图案111的电连接到芯片的焊盘的部分。
此外,当金属层112^皮二次阳极化处理时,金属层112^C完全地氧化。
在阳极氧化(阳极化)期间,使用稀酸溶液电解被设置为阳极的金属层, 以使金属层与由阳极产生的氧气反应,从而形成具有与基体(base)金属良 好的粘合特性的金属氧化物层。
通常,可对铝(Al)层执行阳极化处理。然而,可阳极化处理镁(Mg)、 锌(Zn)、钛(Ti)、钽(Ta)、铪(Hf)或铌(Nb)。
当在阳极电解A1层时,Al层的表面厚度的一半被腐蚀,另一半具有氧
化铝(Al20s)。在此情况下,Al203层的特性可基于阳极化处理工艺的工艺条
件,具体地,溶液的成份和浓度、添加剂的类型、溶液的温度、电压和电流。 阳极化处理工艺导致具有高耐腐蚀的氧化物涂覆层的形成。此外,由于阳极 化处理工艺产生装饰效果,因此可改善PCB的外观。
实施例1图5A至图5F是示出根据本发明示例性实施例的制造PCB的方法的示图。
参照图5A,在基底210的两个表面上形成互连图案211,例如,铜图案, 并且通过通孔212使互连图案211相互电连接。
参照图5B,在基底210的整个表面上涂覆金属层213,例如,Al层213。 在此情况下,可通过溅射工艺或蒸镀工艺将金属层213涂覆到几个微米的厚 度。更具体地说,金属层213可被形成为使电阻不超过大约0.3兆欧的厚度, 从而在后续工艺期间电流的流动不会被阻止。
参照图5C,执行曝光、显影和蚀刻工艺,以从基底210的表面部分地去 除金属层213,以形成用于在其中安装芯片(未示出)的窗。因此,形成窗 以部分地暴露互连图案211,以形成键合指211a。
参照图5D,金属层213被初次阳极化处理,从而仅在金属层213上形成 氧化物层213a。
参照图5E,向金属层213提供电流,以使用金211a,电镀键合指211a的 表面。由于仅在金属层213上形成氧化物层213a,因此使用金211a,电镀键合 指211a而非金属层213。
参照图5F,为了防止互连图案211的氧化,金属层被二次阳极化处理, 从而金属层213被完全地氧化,以形成用作阻焊剂的金属氧化物层213b,例 如,氧化铝(A1203)层。
如图5F所示,根据本发明实施例的通过上述方法制造的PCB包括互 连图案211,涂覆在基底210的外表面上;互连图案211的键合指211a,暴 露在基底210的表面上并使用金211a,被电镀;金属氧化物层213b,涂覆在 互连图案211的未暴露的部分上。
根据上述的本发明的实施例,可在没有引线的情况下执行镀金工艺,由 阳极化处理工艺形成的氧化物层可保护形成在基底上的电路图案,并使电路 彼此绝缘。此外,由于上述根据本发明的多种实施例的PCB具有比传统阻焊 剂低的吸湿率和低的热膨胀系数,因此所述PCB具有高可靠性。
为了促进对本发明的原理的理解的目的,对附图中示出的优选实施例进 行了参考,使用特定语言描述了这些实施例。然而,该特定语言不是为了限 制本发明的范围,本发明应该被解释为包含对于本领域的普通技术人员来说 通常发生的所有实施例。以功能块组件和多种处理步骤的方式描述本发明。该功能组件可由任意 数量的被构造为执行特定功能的组件实现。此外,本发明可以采用任意数量 的用于电子构造、信号处理和/或控制、数据处理等的传统技术。
这里示出和描述的具体实施方式
是本发明的示例性示例,而不是为了以 任何方式来限制本发明的范围。为了筒明,可以不详细描述传统的方面。此 外,各个附图中示出的连接线或连接器意在表现不同部件之间的示例性功能 关系和/或物理或逻辑结合。应该注意,可在实际的装置中出现多种替换或附 加功能关系、物理连接或逻辑连接。此外,没有项或组件对于本发明的实施 来说是必不可少的,除非该部件被特别地描述为"必须的,,或"关键的"。
在描述本发明的上下文中(尤其是在权利要求的上下文中)使用的单数 形式和类似的指示物应被解释为覆盖单数和复数。此外,除非在这里另有指 示,否则这里的值的范围的列举仅是为了用作分别引用落入该范围内的每个 单独的值的速记方法,并且每个单独的值如这里单独列举的 一样被并入说明 书中。最后,除非在这里另有指示或者与上下文明显矛盾,否则可以以任何 合适的顺序执行这里描述的所有方法的步骤。措辞机制是为了被一般地使用, 并且不仅限于机械的实施例。在不脱离本发明的精神和范围的情况下,多种 改变和修改对于本领域的技术人员是相当清楚的。
权利要求
1、一种制造印刷电路板的方法,包括的步骤如下将金属层涂覆在具有形成有互连图案的外表面的基底的整个表面上;从基底的表面部分地去除金属层,以形成用于在其中安装芯片的窗,部分地暴露互连图案,以形成键合指;通过初次阳极化处理金属层在金属层上形成第一绝缘层;通过向金属层供电来电镀键合指的表面;通过完全地二次阳极化处理金属层来形成位于第一绝缘层之下的第二绝缘层。
2、 如权利要求l所述的方法,其中
3、 如权利要求l所述的方法,其中 Hf和Nb构成的组中选4奪的一种形成。
4、 如权利要求l所述的方法,其中 艺执行部分地暴露互连图案的步骤。
5、 如权利要求1所述的方法,其中 面的步骤。
6、 如权利要求1所述的方法,其中层。
7、 如权利要求1所述的方法,其中 的焊盘的部分。
8、 一种印刷电路板,包括 互连图案,布置在基底的外表面上;键合指,通过部分地暴露基底表面上的互连图案形成,并且被使用金电 镀,其中,使用氧化物层涂覆互连图案的未暴露部分。
9、 如权利要求8所述的印刷电路板,其中,氧化物层是氧化铝Al203层。
10、 一种印刷电路板,包括互连图案,布置在基底的外表面上,其中,互连图案不包括电镀的引线; 键合指,通过部分地暴露基底表面上的互连图案形成,并且被使用金电 镀,其中,使用氧化物层涂覆互连图案的未暴露部分。,互连图案不包括电镀的引线。,金属层由乂人A1、 Mg、 Zn、 Ti、 Ta、,通过曝光工艺、显影工艺和蚀刻工,通过镀金工艺执行电镀键合指的表,所述第一层和所述第二层是氧化物,键合指是互连图案的电连接到芯片
全文摘要
本发明提供一种制造印刷电路板(PCB)的方法以及通过该方法制造的印刷电路板。所述方法包括将金属层涂覆在具有形成有互连图案的外表面的基底的整个表面上;从基底的表面部分地去除金属层,以形成用于在其中安装芯片的窗,部分地暴露互连图案,以形成键合指;通过初次阳极化处理金属层在金属层上形成第一绝缘层;通过向金属层供电来电镀键合指的表面;通过完全地二次阳极化处理金属层来形成位于第一绝缘层之下的第二绝缘层。可在没有引线的情况下执行镀金工艺,通过阳极化处理工艺形成的氧化物层可保护形成在基底上的电路并电绝缘所述电路。
文档编号H01L21/48GK101419918SQ20081016676
公开日2009年4月29日 申请日期2008年10月27日 优先权日2007年10月26日
发明者柳在喆 申请人:三星Techwin株式会社
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