区间11从而于各待镀物上制得一完成品(图未示)。接着，各载有该完成品的载具3是经由该传输机构4被送离第(n+1)个缓冲区间11以依序行经该出口阀门6及该载出腔71，并通过该载出腔71的该输送组件712与该回送机构73的沉降段731的输送组件7311共同引导至该沉降段731上，以通过一机械手臂或人工方式拿取各完成品并净空各载具3。经净空的各载具3是先通过该沉降段731的压缸沉降至等高于该中继段733的高度后，以经由该沉降段73输送组件7311传送至该中继段733的所述输送组件7331上，且进一步地通过该中继段733的所述输送组件7331与该攀升段732的输送组件7321共同引导至该攀升段732后，以通过一机械手臂或人工方式放置另一待镀物(图未示)于各载具3上。最后，通过该攀升段732的压缸攀升至等高于该载入腔72的高度后，以通过该攀升段732的输送组件7321与该载入腔72的输送组件722共同回到该载入腔72内，以依序重新在所述镀膜区间12内执行各镀膜程序。
[0038]类似的过程不断地重复进行，令各载有待镀物的载具3在完成全部的镀膜程序后，是通过该自动回流单元7的载出腔71、回送机构73回到该载入腔72，以重新镀制另一个待镀物。
[0039]由上述说明可知，本实用新型连续型同步镀膜设备是通过该真空腔体I的所述镀膜区间12与所述缓冲区间11的结构改良与所述载具3的配置，同时配合该传输机构4与该自动回流单元7的作动关系，以令所述载具3连续地于各镀膜区间12内执行各道镀膜程序时，是同时分别于各镀膜区间12与各镀膜区间12前后的所述缓冲区间11三者间位移。一方面解决了待镀物因长期间暴露在该镀膜区间12的电浆下所造成的过热问题；另一方面，也令各载具3可同时于各镀膜区间12内执行各镀膜程序，以妥善地利用每一个镀膜区间12，解决了以往因镀膜区间912内的阴极溅镀靶闲置而无法有效地提高产能并缩减量产工时的问题。
[0040]此处要特别说明的是，本实用新型上述该实施例所演示的连续型同步镀膜设备，是仅以四个缓冲区间11与三个镀膜区间12为例做说明。但实质上，本实用新型连续型同步镀膜设备的缓冲区间11与镀膜区间12的数量是可以向上扩充。简单地来说，缓冲区间11的数量、镀膜区间12的数量与载具3的数量分别是(n+1)个、η个与(n+1)个以上。依据本实用新型上述该实施例的详细说明可知，当镀膜区间11的数量扩充至四个时，就必须配合足够数量的载具3才可避免所述镀膜区间12闲置。因此，此时载具3的数量必须是四个或四个以上。
[0041]综上所述，本实用新型连续型同步镀膜设备，借由该真空腔体I的所述缓冲区间11与所述镀膜区间12间的结构改良并配合所述载具3的配置，一方面令各载具3可同步且同时地在各镀膜区间12内执行各道镀膜程序，以妥善地利用各镀膜区间12，没有任何一个镀膜区间12闲置从而有效地提升产能并缩减量产工时的时间；另一方面，各载具3在执行各镀膜程序时，是在该镀膜区间12及其相邻两缓冲区间11三者间来回位移，避免各载具3上的待镀物因长时间暴露在各镀膜区间12的电浆下所产生的过热问题，所以确实能达成本实用新型的目的。
[0042]以上所述者，仅为本实用新型的实施例而已，当不能以此限定本实用新型实施的范围，即凡依本实用新型权利要求书及说明书内容所作的简单的等效变化与修饰，皆仍属本实用新型的范围。
【主权项】
1.一种连续型同步镀膜设备，包含:一个真空腔体、η个阴极溅镀靶组合，及一传输机构；其特征在于:该连续型同步镀膜设备还包含多个载具， 该真空腔体，包括(η+1)个缓冲区间，及η个镀膜区间，所述缓冲区间与所述镀膜区间是沿一排列方向依序轮流设置，n ^ 2且是正整数； 所述阴极溅镀靶组合分别对应设置在该η个镀膜区间，每一阴极溅镀靶组合具有至少一种革巴材; 所述载具分别载放一个待镀物，且分别能被控制地于该多个镀膜区间和该多个缓冲区间移动，其中，每一载具于各镀膜区间中执行一镀膜程序时，能于各镀膜区间与各镀膜区间前后的缓冲区间三者间移动；及 该传输机构设置于该真空腔体，且于所述缓冲区间、所述镀膜区间连续地设置，用以传输所述载具进行各镀膜程序。2.根据权利要求1所述的连续型同步镀膜设备，其特征在于:该传输机构包括(2η+1)个输送组件，及(2η+1)个用以分别驱动所述输送组件的马达，该传输机构的(2η+1)个输送组件分别对应设置在所述缓冲区间与所述镀膜区间。3.根据权利要求2所述的连续型同步镀膜设备，其特征在于:该传输机构的每一输送组件具有多个滚轮，各输送组件的所述滚轮是用以承托传输所述载具进行各镀膜程序。4.根据权利要求2所述的连续型同步镀膜设备，其特征在于:该传输机构还包括(2η+1)个感应单元，该(2η+1)个感应单元分别对应设置在所述缓冲区间与所述镀膜区间，并用以侦测所述载具的位置。5.根据权利要求4所述的连续型同步镀膜设备，其特征在于:每一感应单元具有一前传感器，及一后传感器。6.根据权利要求1所述的连续型同步镀膜设备，其特征在于:该连续型同步镀膜设备还包含一设置于该真空腔体对应于第一个缓冲区间的一端的入口阀门、一设置于该真空腔体对应于第(η+1)个缓冲区间的另一端的出口阀门，及一衔接该出口阀门与该入口阀门的自动回流单元。7.根据权利要求6所述的连续型同步镀膜设备，其特征在于:该自动回流单元包括一与该出口阀门连接的载出腔、一与该入口阀门连接的载入腔，及一连接该载出腔与该载入腔的回送机构。8.根据权利要求7所述的连续型同步镀膜设备，其特征在于:该回送机构具有一与该载出腔连接且能操控地使所述载具自该载出腔向下移动的沉降段、一与该载入腔连接且能操控地使所述载具向上移动至该载入腔的攀升段，及一位于该沉降段与该攀升段间的中继段。9.根据权利要求8所述的连续型同步镀膜设备，其特征在于:该沉降段、该攀升段、该载出腔，及该载入腔各具有一输送组件，及一用以驱动其输送组件的马达，且该中继段具有至少一输送组件及至少一用以驱动其输送组件的马达。10.根据权利要求7所述的连续型同步镀膜设备，其特征在于:该连续型同步镀膜设备还包含至少一连接于该真空腔体的抽真空单元，该自动回流单元的载出腔与载入腔分别具有一抽气泵。
【专利摘要】一种连续型同步镀膜设备，包含：一个真空腔体、n个阴极溅镀靶组合、多个载具，及一个传输机构。该真空腔体包括沿一排列方向依序轮流设置的(n+1)个缓冲区间及n个镀膜区间，n≥2且是正整数。各阴极溅镀靶组合分别对应设置在各镀膜区间且具有至少一种靶材。所述载具分别载放一个待镀物，且分别能被控制地于该多个镀膜区间和该多个缓冲区间移动。该传输机构是于所述缓冲区间、所述镀膜区间连续地设置，用以传输所述载具进行各镀膜程序。借由该真空腔体内的所述缓冲区间与所述镀膜区间的结构改良并配合所述载具的配置，令各载具可同时于各镀膜区间内执行各镀膜程序，以妥善地利用每一个镀膜区间。
【IPC分类】C23C14/56
【公开号】CN204644462
【申请号】CN201520109525
【发明人】王楠华, 沈定宇, 纪仁捷, 黄一原, 刘家玮, 赖佩君
【申请人】凌嘉科技股份有限公司
【公开日】2015年9月16日
【申请日】2015年2月15日