含氟共聚物和溶剂型涂料用组合物的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明设及含氣共聚物和溶剂型涂料用组合物。
【背景技术】
[0002] 在专利文献1中，作为可提供与涂料用组合物的其它配合剂的相容性良好且耐候 性、硬度、耐污染性优异的涂膜的可进行固化的含氣共聚物，记载了下述的含氣共聚物，其 含有（a)四氣乙締结构单元、化）不含有径基和簇基的非芳香族系乙締基醋单体结构单元、 W及（C)不含有芳香族基团和簇基的含径基的乙締基单体结构单元，进一步根据需要含有 (d)不含有径基和簇基的含芳香族基团单体结构单元、（e)不含有径基和芳香族基团的含 簇基单体结构单元、W及（f)其它单体结构单元，其中（a)为20摩尔％ ^上49摩尔％W 下、化）为25摩尔％^上69.9摩尔％^下、并且（C)为8摩尔％^上30摩尔％^下，进而 (d)为2摩尔％^上15摩尔下、（e)为0. 1摩尔％^上2.0摩尔％^下、并且讯为0 摩尔％或10摩尔下。
[0003] 在专利文献2中，作为可提供拉伸度比由专利文献1记载的含氣共聚物得到的涂 膜更为优异的涂膜的含氣共聚物，记载了下述的含氣共聚物，其含有（a)碳原子数为2的 全面締控结构单元、化）乙酸乙締醋结构单元、（C)式（1):邸2二CH-O-(CHz)"-〇H(式中，n 为2W上的整数）所表示的含径基的乙締基单体结构单元、（d)式（2) =RiR2C=CR3-(CHz) m-C00H(式中，r1、r2和r3相同或不同，均是氨原子或碳原子数为1~10的直链或支链状的 烷基；m为2W上的整数）所表示的含簇基单体结构单元和（e)其它单体结构单元，其中含 有40摩尔％ ^上50摩尔％W下的结构单元（a)、20摩尔％ ^上54. 9摩尔％W下的结构单 元化）、5摩尔％^上14摩尔％^下的结构单元（(3)、0.1摩尔％^上5摩尔％^下的结构 单元（d)、W及0摩尔％或25摩尔％W下的结构单元（e)。
[0004] 现有技术文献 阳00引专利文献
[0006] 专利文献1 :日本特开2004-204205号公报
[0007] 专利文献2 :日本特开2013-177536号公报
【发明内容】
[000引发明所要解决的课题
[0009] 然而，对于现有的含氣共聚物来说，尽管可得到耐候性、耐溶剂性和耐污染性优异 的涂膜，但所得到的涂膜的硬度还不够高。
[0010] 鉴于上述现状，本发明的目的在于提供一种含氣共聚物，其可形成耐候性、耐溶剂 性和耐污染性优异、同时具有高硬度的涂膜。
[0011] 解决课题的手段
[0012] 发明人在对构成含氣共聚物的结构单元之中的碳原子数为2或3的全面締控结构 单元与乙酸乙締醋结构单元的含量进行适当的调整时，令人吃惊地发现，能够在无损于所 得到的涂膜的耐候性、耐溶剂性和耐污染性的情况下形成高硬度的涂膜。
[0013] 目P，本发明设及一种含氣共聚物，其特征在于，其含有（a)碳原子数为2或3的全 面締控结构单元、化）乙酸乙締醋结构单元、（C)式（1) :C&=CH-(CH2)i-〇-(CH2)m-〇H(式 中，！为0或1，m为2W上的整数）所表示的含径基的乙締基单体结构单元、W及（d)式 似：RiR2C=CR3-(CHz)"-C00H(式中，Ri、R2和R3相同或不同，均是氨原子或碳原子数为1~ 10的直链或支链状的烷基；n为2W上的整数）所表示的含簇基单体结构单元；含氣共聚 物中的结构单元（a)相对于结构单元（a)和结构单元化）的合计摩尔数的比例为0. 16~ 0. 46O
[0014] 本发明的含氣共聚物中，优选式（1)中的1为0，m为2或4。 阳015] 本发明的含氣共聚物中，优选式似中的n为2~20。
[0016]本发明的含氣共聚物优选含有15摩尔％~小于40摩尔％的结构单元（a)、38摩 尔％~小于75摩尔％的结构单元化）、5摩尔％~22摩尔％的结构单元（C)、W及0. 1摩 尔％~5摩尔％的结构单元（d)。
[0017] 本发明的含氣共聚物优选数均分子量为3000~100000。
[0018] 本发明还设及一种溶剂型涂料用组合物，其特征在于，其含有上述的含氣共聚物 W及有机溶剂。
[0019] 本发明的溶剂型涂料用组合物优选进一步含有固化剂。
[0020] 发明的效果
[0021] 本发明的含氣共聚物由于具有上述构成，因而能够适合用于涂料用途，能够形成 耐候性、耐溶剂性和耐污染性优异、同时具有高硬度的涂膜。
[0022] 本发明的溶剂型涂料组合物由于具有上述构成，因而能够形成耐候性、耐溶剂性 和耐污染性优异、同时具有高硬度的涂膜。
【具体实施方式】
[0023] W下具体说明本发明。
[0024] 本发明的含氣共聚物含有：
[0025] (a)碳原子数为2或3的全面締控结构单元、
[00%] 化）乙酸乙締醋结构单元、
[0027] (C)式（1):邸2二CH-(CH2)i-〇-(CH2)m_〇H
[0028] (式中，1为0或1，m为2W上的整数）所表示的含径基的乙締基单体结构单元、 W及
[0029] (d)式（2) :r1r2c=CRS-(CHz)n-COOH
[0030] (式中，R1、R2和R3相同或不同，均是氨原子或碳原子数为I~10的直链或支链状 的烷基；n为2W上的整数）所表示的含簇基单体结构单元。
[0031] 需要说明的是，在本说明书中，对于单体成分和与其对应的单体结构单元赋W相 同符号进行说明。 阳032]本发明的含氣共聚物的特征之一为，含氣共聚物中的结构单元（a)相对于结构单 元（a)和结构单元化）的合计摩尔数的比例为0. 16~0. 46。结构单元（a)相对于结构单 元（a)和结构单元化）的合计摩尔数的比例优选为0. 22W上，优选为0. 45W下。上述含氣 共聚物中，由于结构单元（a)相对于结构单元（a)和结构单元化）的合计摩尔数的比例处 于上述范围，因而能够形成耐候性、耐溶剂性和耐污染性优异、同时具有高硬度的涂膜。结 构单元（a)相对于结构单元化）的比例若过多，则无法形成硬度足够高的涂膜。此外，结构 单元（a)相对于结构单元化）的比例若过少，则无法形成耐候性、耐溶剂性和耐污染性优异 的涂膜。 阳03引结构单元（a)相对于结构单元（a)和结构单元化）的合计摩尔数的比例可通过由 元素分析测定的含氣量（质量％ )W及基于Ihnmr光谱的组成分析来计算出。
[0034] 上述含氣共聚物中，相对于构成含氣共聚物的全部结构单元，优选含有15摩 尔％~小于40摩尔％的结构单元（a)。结构单元（a)的含量更优选为20摩尔％^上、更优 选为39摩尔％^下。上述含氣共聚物W上述的量含有结构单元（a)时，能够形成耐候性、 耐溶剂性和耐污染性更进一步优异、同时具有更进一步的高硬度的涂膜。
[0035] 上述含氣共聚物中，相对于构成含氣共聚物的全部结构单元，优选含有38摩 尔％~小于75摩尔％的结构单元化）。结构单元化）的含量更优选为49.4摩尔上、 进一步优选为50. 4摩尔％ ^上，更优选为74. 7摩尔％ ^下、进一步优选为69. 7摩尔％W 下。上述含氣共聚物W上述的量含有结构单元化）时，能够形成耐候性、耐溶剂性和耐污染 性更进一步优异、同时具有更进一步的高硬度的涂膜。
[0036] 上述含氣共聚物中，相对于构成含氣共聚物的全部结构单元，结构单元（a)和结 构单元化）合计优选含有53摩尔％~小于95摩尔％。结构单元（a)和结构单元化）的含 量更优选为77. 5摩尔％ ^上、进一步优选为81. 9摩尔％ ^上，更优选为94.8摩尔％W下、 进一步优选为91.2摩尔％^下。上述含氣共聚物W上述的量含有结构单元（a)和结构单 元化）时，能够形成耐候性、耐溶剂性和耐污染性更进一步优异、同时具有更进一步的高硬 度的涂膜。
[0037] 出于能够形成耐候性、耐溶剂性和耐污染性更进一步优异、同时具有更进一步的 高硬度的涂膜的原因，上述含氣共聚物中优选含有
[0038]15摩尔％~小于40摩尔％的结构单元（a)、
[0039]38摩尔％~小于75摩尔％的结构单元化）、 W40] 5摩尔％~22摩尔％的结构单元（C)、W及
[0041] 0. 1摩尔％~5摩尔％的结构单元（d)。
[0042] 此外，出于能够形成耐候性、耐溶剂性和耐污染性更进一步优异、同时具有更进一 步的高硬度的涂膜的原因，上述含氣共聚物中更优选含有
[0043] 20摩尔％~39摩尔％的结构单元（a)、
[0044]42摩尔％~69. 7摩尔％的结构单元化）、 W45] 5摩尔％~18. 5摩尔％的结构单元（C)、W及
[0046] 0. 1摩尔％~5摩尔％的结构单元（d)。
[0047] 进而，出于能够形成耐候性、耐溶剂性和耐污染性更进一步优异、同时具有更进一 步的高硬度的涂膜的原因，上述含氣共聚物中进一步优选含有
[0048]25摩尔％~39摩尔％的结构单元（a)、
[0049]42摩尔％~64. 7摩尔％的结构单元化）、
[0050]5摩尔％~18. 5摩尔％的结构单元（C)、W及
[0051] 0.I摩尔％~5摩尔％的结构单元（d)。
[0052] 上述含氣共聚物中，除了结构单元（a)~（d)W