显示基板、及其制造方法以及具有该基板的显示面板的制作方法

专利名称：：显示基板、及其制造方法以及具有该基板的显示面板的制作方法
技术领域：
：本发明涉及一种显示基板、制造该显示基板的方法以及具有该显示基板的显示面板。更具体而言，本发明涉及一种能够通过简化制造工艺来降低制造成本并提高生产便利性的显示基板，制造该显示基板的方法以及具有该显示基板的显示面板。
背景技术：
：通常，显示装置为用户显示图像以便识别由信息处理单元处理的数据。平板显示装置具有例如小型化、重量轻的结构、高清晰度等等的优点，因此平板显示装置得到广泛应用。液晶显示(“IXD”)装置作为平板显示装置经常被使用。IXD装置利用液晶材料来显示图像。IXD装置使用液晶材料来显示图像。液晶依据根据施于其上的电场强度来改变光透射率。IXD装置包括具有阵列基板的IXD面板、相对基板以及液晶层。阵列基板具有形成在其上的作为开关元件的薄膜晶体管(“TFT”)。相对基板与阵列基板相组合。液晶层设置在阵列基板与相对基板之间。通常，IXD装置具有包括操作界面的输入部分，以及处理通过输入部分输入的信号的系统部分。LCD装置通过单向通讯利用从系统部分输出的控制信号来显示图像。近来，IXD装置使用了触摸面板，用户的指令可以使用IXD面板的显示图标直接输入，而不是单向通讯。触摸面板设置在IXD面板上，并在IXD面板屏幕上具有显示图标。当使用者用手指或光笔等触摸显示图标并选择要执行的命令时，触摸面板检测到触摸点并依据所选图标具有的命令来驱动IXD装置。触摸面板可以在没有用于计算机的例如键盘或鼠标的输入装置时以及在没有用于移动产品的小键盘时使用，因此，其上具有触摸屏的触摸面板将被越来越广泛地使用。然而，由于触摸面板设置在IXD面板之上，具有触摸面板的产品的厚度或尺寸将变大。为了解决这个问题，触摸面板与LCD面板将整体形成。与其中具有光传感器的触摸面板整体形成的LCD面板是触摸面板的一个示例性例子。当手指或光笔等接触某处时，光传感器感知来自阴影或光笔产生的光的输入点。然而，当外围光变强或变弱时，光传感器的敏感度将变大或变小。因此，具有光传感器的LCD面板具有当外围光变强或变弱时，难以确定触摸点的问题。为了解决上述问题，开发了一种触摸屏类型的LCD面板。触摸屏类型的LCD面板具有一个导电突起以及检测线。当使用者触摸触摸屏类型的LCD面板时，触摸屏类型的LCD面板检测触摸点坐标。具有其上形成的导电突起与检测线的LCD面板，进一步包括维持阵列基板与相对基板之间的间隙并支持两个基板的支持元件。然而，导电突起与支持元件难以通过一个步骤整体地制造，那么，将增加制造工艺。
发明内容本发明提供了一种能简化制造工艺的显示基板。本发明还提供了一种该显示基板的制造方法。本发明还提供了一种具有该显示基板的显示面板。在依据本发明的显示基板的实施例中，提供了具有检测触摸点坐标的触摸屏功能的显示面板的显示基板，显示基板与阵列基板在触摸点上电连接，该阵列基板具有形成在其上的多个像素部分、第一线和第二线，像素部分由多条栅线以及多条数据线确定，第一与第二线检测触摸点，该显示基板包括基础基板、支持图案、第一突起图案以及第二突起图案。支持图案直接形成在基础基板上，其具有第一长度并与阵列基板保持均勻的分隔距离。第一和第二突起图案直接形成在基础基板上，其具有第二长度并在接触点分别与第一和第二线电连接。第一长度可以比第二长度长。这里，第一与第二突起图案可具有形成在其上的导电层，并且显示基板可进一步包括形成在其上的与像素部分相应的滤色器层。在依据本发明的示例性显示基板的制造方法的示例性实施例中，制造显示面板的显示基板的方法，其中该显示基板具有触摸屏功能来确定触摸点的坐标并与阵列基板在触摸点上电连接，阵列基板具有形成在其上的多个像素部分、第一线和第二线，由多条栅线以及多条数据线确定的像素部分、以及检测触摸点的第一线与第二线，该方法包括在基础基板上涂覆有机材料层，在有机材料层的上方并与有机材料层分离地设置曝光掩模，该曝光掩模包括形成在其上的第一掩模图案和第二掩模图案，第一掩模图案形成支持图案以及第二掩模图案形成第一突起图案以及第二突起图案，曝光有机材料层同时维持曝光掩模和有机材料层之间均勻分隔距离，并显影有机材料层来形成支持图案以及第一与第二突起图案。该方法可进一步包括消除曝光区域中的有机材料层，以及形成滤色器层，在滤色器层、有机材料层与光阻挡层的上方形成导电层，在导电层上形成图案，以及消除与支持图案相应的区域中的导电层。在依据本发明的示例性显示基板的制造方法的另一个实施例中，制造与阵列基板相应的具有形成在其上的多个像素部分以及信号线的显示基板的方法，其中多个像素部分由多条栅线与多条数据线确定，信号线检测触摸点，该方法包括形成与基础基板的像素部分相应的滤色器图案，在其上形成了滤色器图案的基础基板上形成有机材料层，构图有机材料层，以及分别形成具有不同直径的支持图案以及突起图案，在其上形成了突起图案的基础基板上形成透明电极层，并形成覆盖突起图案的突起电极，以及在其上形成了透明电极层的基础基板上分别通过热压步骤形成具有不同高度的支持图案以及突起图案。在依据本发明的显示基板的制造方法的另一个的实施例中，其上形成了多个像素部分、开关元件以及信号线的显示基板的制造方法，其中多个像素由多条栅线与多条数据线确定，开关元件形成在每个像素部分上，数据线检测触摸点，该方法包括在其上形成了开关元件的基础基板上形成有机材料层，构图有机材料层，分别形成具有不同直径的支持图案以及突起图案，在其上形成了支持图案与突起图案的基础基板上形成透明电极层，构图透明电极层，并形成覆盖突起图案的突起电极和与开关元件电连接的像素电极，在其上形成了像素电极的基础基板上通过热压步骤分别形成具有不同高度的支持图案以及突起图案。在依据本发明的显示面板的另一个实施例中，显示面板包括阵列基板与相对基板。阵列基板具有形成在其上的多个像素部分、第一信号线与第二信号线，其中多个像素部分由多条栅线与多条数据线确定，第一与第二信号线检测触摸点并分别形成在栅线与数据线的同一方向上。相对基板与阵列基板相组合，来容纳液晶材料。相对基板包括光阻挡层、支持图案、第一突起图案以及第二突起图案。光阻挡层形成在与栅线以及数据线相应区域的基础基板上。在光阻挡层上直接形成具有第一长度的支持图案，并与阵列基板维持均勻的分隔距离。在光阻挡层上直接形成具有第二长度的第一与第二突起图案。在依据本发明的显示基板的另一个实施例中，具有检测触摸点的坐标的触摸屏功能的显示面板的显示基板，该显示基板与相对基板在触摸点上电连接，包括由多个在第一方向延伸的栅线以及多个在第二方向延伸的数据线确定的多个像素部分；形成在多个像素部分上的开关元件；在第一方向上延伸的第一信号线；在第二方向上延伸的第二信号线；形成在开关元件上具有第一长度的支持图案；分别形成在第一与第二信号线上的第一与第二突起图案，具有比第一长度小的第二长度的第一与第二突起图案，分别形成在第一与第二突起图案上的第一与第二感测电极，第一与第二感测电极分别与第一与第二信号线电连接。因此，执行触摸屏功能的突起图案、以及支持阵列基板与相对基板之间的分隔距离的支持图案可整体地形成，因而可简化制造工艺。在依据本发明的显示面板的又一个实施例中，提供了显示面板的显示基板，该面板具有触摸屏功能来检测触摸点的坐标，显示基板在触摸点上与阵列基板电连接，阵列基板具有由形成在其上的多个像素部分，第一线与第二线，该多个像素部分由多条栅线和多条数据线确定，该多个像素部分的每个包括像素电极，第一和第二线检测触摸点，该显示基板包括基础基板；直接形成在基础基板上具有第一长度的支持图案，其维持与阵列基板均勻分隔距离；以及直接形成在基础基板上具有第二长度的第一和第二突起图案，第一突起图案和第二突起图案的每个包括第一电极层，当外部压力施加到所述显示基板时，该第一电极层在触摸点上分别与第一和第二线电连接，其中第一电极层具有与像素电极相对的延伸部分。第一线在第一方向上延伸，第二线与第一线绝缘并在第二方向上延伸，第二方向与第一方向基本垂直。在依据本发明的显示面板的又一个实施例中，提供了一种显示面板，包括阵列基板，其具有形成在其上的多个像素部分、第一信号线与第二信号线，多个像素部分由多条栅线和多条数据线确定，多个像素部分的每个包括像素电极，第一与第二信号线检测触摸点并分别形成在与栅线以及数据线相同的方向上；以及与阵列基板相组合的相对基板，并容纳液晶材料，其中相对基板包括在基础基板上与栅线与数据线相对应的区域中形成光阻挡层；以第一长度形成在光阻挡层上的支持图案，该支持图案维持与阵列基板均勻的分隔距离；以及以第二长度形成在光阻挡层上的第一突起图案与第二突起图案，第一突起图案和第二突起图案的每个包括第一电极层，当外部压力施加到显示基板时，第一电极层在触摸点分别电连接第一信号线和第二信号线，其中第一电极层具有与像素电极相对的延伸部分。第一信号线在第一方向上延伸，第二信号线与第一信号线绝缘并在第二方向上延伸，第二方向与第一方向基本垂直，当外部压力施加到相对基板时第一和第二信号线检测触摸点。本发明的以上以及其他特征与优点可通过参考以下附图来详细描述其实施例，而变得显而易见图1为示出了依据本发明示例性实施例的示例性显示装置的方框图；图2为示出了图1的示例性显示装置的平面图；图3为分离地示出了图2的示例性显示装置的示例性阵列基板以及示例性相对基板的分解透视图；图4为示出了依据本发明示例性实施例的示例性显示面板的部分的平面图；图5为沿着图4的线1-1’的部分横截面视图；图6为示出了施加了外力的示例性显示面板的弯曲形状的横截面视图；图7为示出了依据本发明一个实施例的检测触摸点的示例性方法的时序图；图8为示出了依据图7的示例性时序图来检测图1中的触摸点的示例性检测部分示意平面图；图9至16为示出了依据本发明实施例的示例性显示基板的示例性制造工艺的横截面图；图17为示出了形成在曝光掩模上的示例性掩模图案的尺寸与在示例性显影工艺之后的保留层的厚度之间的关系的曲线图；图18为示出了依据示例性曝光掩模与光敏高分子有机材料之间的分隔距离的，在示例性显影处理之后的保留层的厚度变化的曲线图；图19为沿着图4的线1-1’并示出了依据本发明另一个实施例的示例性显示面板的部分横截面视图；图20与21为示出了图19中的突起图案与支持图案的示例性制造工艺的横截面视图；图22与23示出了示例性显示面板的典型装配工艺的透视图的步骤图；图24为示出了当其上施加持续的外力时依据示例性支持图案的截面面积的应变变化的曲线图；图25A至25C为示出了示例性突起图案以及示例性支持图案的应变工艺的概念图；图26为沿着图4的线1-1’并示出了依据本发明另一个实施例的示例性显示面板的部分横截面视图27A与27B为示出了图26的示例性突起图案与示例性支持图案的典型制造工艺的横截面视图。具体实施方式可以认为，以下描述的本发明的实施例可由多种不同的方法被不同地改进，而不脱离这里公开的发明原理，因此本发明的范围不受这些具体目前的实施例限制。相反地，这里提供的实施例使得公开将是彻底的和完全的，并将通过例举而不是限制地向本领域技术人员完全传达本发明的概念。通篇相似的参考标记代表相似的元件。可以理解当元件被称为在另一元件“上”时，它可以直接在其他元件上或可以存在中间的元件。相反，当元件被称为“直接”在其他元件“上”时，则没有中间元件存在。这里所用的术语“和/或”包括相关列举项目的一个或更多的任何和所有组合。可以理解虽然术语第一、第二和第三可以用于此来描述各种元件、部件、区域、层和/或部分，这些元件、部件、区域、层和/或部分应不受这些术语限制。这些术语只用于区分一个元件、部件、区域、层或部分与其他元件、部件、区域、层或部分。因此，以下讨论的第一元件、部件、区域、层或部分可以被称为第二元件、部件、区域、层或部分，而不背离本发明的教导。这里所使用的术语是只为了描述特别的实施例的目的且不旨在限制本发明。如这里所用，单数形式也旨在包括复数形式，除非内容清楚地指示另外的意思。可以进一步理解当在此说明书中使用时术语“包括”和/或“包含”说明所述特征、区域、整体、步骤、操作、元件和/或组分的存在，但是不排出存在或添加一个或更多其他特征、区域、整体、步骤、操作、元件、组分和/或其组。在这里为了描述的方便，可以使用空间相对术语，诸如“下面”、“下方”、“下”、“上方”、“上”等，来描述一个元件或特征和其他元件或特征如图中所示的关系。可以理解空间相对术语旨在包含除了在图中所绘的方向之外的装置在使用或操作中的不同方向。例如，如果在图中的装置被翻转，被描述为在其他元件或特征的“下方”或“下面”的元件则应取向在所述其他元件或特征的“上方”。因此，示范性术语“下方”可以包含下方和上方两个方向。装置也可以有其它取向(旋转90度或其它取向)且相应地解释这里所使用的空间相对描述语。除非另有界定，这里使用的所有术语(包括技术和科学术语)具有本发明属于的领域的普通技术人员共同理解的相同的意思。还可以理解诸如那些在共同使用的字典中定义的术语应解释为一种与在相关技术和本公开的背景中的它们的涵义一致的涵义，而不应解释为理想化或过度正式的意义，除非在这里明确地如此界定。参考横截面图示在这里描述了本发明的实施例，该图示是本发明的理想实施例的示意图。因此，可以预期由于例如制造技术和/或公差引起的图示的形状的变化。因此，本发明的实施例不应解释为限于这里所示的特别的区域形状，而是包括由于例如由制造引起的形状的偏离。例如，示出或描述为平的区域可以通常具有粗糙和/或非线性的特征。另夕卜，示出的尖角可以是倒圆的。因此，图中示出的区域本质上是示意性的且它们的形状不旨在示出区域的精确的形状且不旨在限制本发明的范围。在下文中，本发明的实施例将参考附图进行详细说明。图1为示出了依据本发明实施例的示例性显示装置的方框图，以及图2为示出了图1示例性显示装置的平面图；参考图1与2，显示基板100包括显示面板200、面板驱动部分300、位置检测部分400、以及定位部分500。显示面板200包括阵列基板210、相对基板220以及液晶层(未显示)。阵列基板210具有形成在阵列基板D2方向上的m数目的数据线DLl-DLm以及形成在阵列基板210的Dl方向上的η数目的栅线GLl-GLn，其中‘m’与‘η’为自然数。数据线DLl-DLm与栅线GLl-GLn彼此交叉并彼此绝缘。例如薄膜晶体管(“TFT”)的开关元件形成在任一数据线DLl-DLm与任一栅线GLl-GLn交叉的每一个区域上。例如，第一开关元件TFTl与第一像素电极PEl均形成在第一数据线DLl与第一栅线GLl交叉的区域上。第一开关元件TFTl的栅电极与第一栅线GLl电连接。第一开关元件TFTl的源电极与第一数据线DLl电连接。与源电极同一层形成的第一开关元件TFTl的漏电极却与源电极电隔离，而与第一像素电极PEl电连接。同样地，开关元件TFT与像素电极PE分别形成在第二至第m数据线DL2至DLm与第二至第η栅线GL2至GLn交叉的区域上。另外，阵列基板210具有形成在其上的第一信号线与第二信号线，将如下所进一步描述的，执行触摸屏功能。第一信号线SLl(如图3所示)与栅线GLl至GLn相同沿着第一方向Dl延伸，第二信号线SL2(如图3所示)与数据线DLl至DLm相同沿着第二方向D2延伸。第一与第二信号线SLl与SL2彼此交叉，并彼此电绝缘。第一与第二信号线SLl与SL2具有驱动电压Vid，该电压具有预定的初始电压水平，并且第一与第二信号线SLl与SL2与位置检测部分400电连接。这里，第一与第二信号线SLl与SL2可形成在具有红(R)像素、绿(G)像素与蓝(B)像素的每个单元像素中，虽然形成单元像素部分的交替的色彩像素可落入这些实施例的范围中，并也可形成在每一多单元像素中。例如，第一与第二信号线SLl与SL2可形成在每四个单元像素中。相对基板220与阵列基板210相组合，从而液晶层(未显示)位于相对于基板220与阵列基板210之间。相对基板220具有形成在每个单元像素中的滤色器层并显示预定的色彩。可选的，滤色器可形成在阵列基板210上。另外，相对基板220具有形成在其上的突起电极部分ER来执行触摸屏功能。突起电极部分ER具有形成在其上的第一突起电极ERl以及第二突起电极ER2。第一与第二突起电极ERl与ER2依据施加在其上的外力分别与第一与第二信号线SLl与SL2电连接。这里，第一与第二突起电极ERl与ER2可形成在具有例如红(R)像素、绿(G)像素与蓝(B)像素的每个单元像素中，并可形成在每多个单元像素中。例如，第一与第二信号线SLl与SL2可形成在每四个单元像素中。形成在阵列基板210上的第一与第二信号线SLl与SL2，与形成在相对基板220上的第一与第二突起电极ERl与ER2，均将参考图3在如下做进一步描述。再次参考图1，面板驱动部分300包括时序控制部分310、电源部分320、灰度电压产生部分330、数据驱动部分340与栅极驱动部分350。时序控制部分310控制显示装置100的操作。通过例如外部图形控制器，红(R)像素、绿(G)像素与蓝⑶的初始数据信号DATA_0，以及第一控制信号CNTLl的主系统应用到时序控制部分310中。那么，时序控制部分310控制初始数据信号DATA_0的输出时序来在显示面板200上显示图像，并输出第一数据信号DATA1、第二控制信号CNTL2、第三控制信号CNTL3、第四控制信号CNTL4、以及第五控制信号CNTL5。特别地，第一控制信号CNTLl包括主要的时钟信号MCLK、水平同步扫描信号HSYNC以及垂直同步扫描信号VSYNC。第二控制信号CNTL2包括水平起始信号STH、反转信号REV以及数据载荷信号TP来控制数据驱动部分340。第三控制信号CNTL3包括起始信号STV、时钟信号CK、印刷起动信号OE等来控制栅极驱动部分350。第四控制信号CNTL4包括时钟信号CLK、反转信号REV等来控制电源部分320。时序控制部分310进一步输出第五控制信号CNTL5来控制位置检测部分400。第五控制信号CNTL5包括取样信号SS等，来控制从电源部分320输出的初始驱动功率Vid以被施加到第一与第二信号线SLl与SL2上。电源部分320响应从时序控制部分310提供的第四控制信号CNTL4，输出共用电压Vcom与Vest、初始驱动电压Vid、模拟驱动电压AVDD、栅极开/关电压VoruVoff等。共用电压Vcom与Vest施加到显示面板200上。初始驱动电压Vid施加到阵列基板210上来执行触摸屏功能。模拟驱动电压AVDD施加到灰度电压产生部分330上。开/关电压Von、Voff应用到栅极驱动部分350上。灰度电压产生部分330输出多个基于分配电阻灰度水平数量相当的参考灰度电压VGMA_R。分配电阻包括通过利用作为参考电压的模拟驱动电压AVDD而依据应用到其上的伽马曲率调整的电阻比率。数据驱动部分340包括数据带载封装(“TCP”)341以及数据驱动芯片342。m数目的数据线DL可分成多个数据线块，多个数据TCP341可以形成以分别驱动数据线块。阵列基板210通过数据TCP341与数据印刷电路板(“PCB”)360电连接，在数据印刷电路板360上可以形成时序控制部分310。另外，数据驱动部分340以从灰度电压产生部分330输出的参考灰度电压VGMA_R为基础产生多个灰度电压VGMA。数据驱动部分340以由时序控制部分310与灰度电压VGMA供应的第二控制信号CNTL2为基础，将数字类型的第一数据信号DATAl转换成模拟类型的数字信号Dl-Dm，并控制数字信号Dl-Dm的输出时序输出到数据线DLl-DLm中。栅极驱动部分350包括栅TCP351以及栅极驱动芯片352。η数目的栅线GL可分成多个栅线块，并且可形成多个栅极TCP351来分别驱动栅线块。栅极驱动部分350响应从时序控制部分310发出的第三控制信号CNTL3以及从电源部分320发出的栅极开/关电压VoruVoff，产生栅极信号Gl_Gn，并输出到栅线GLl_GLn。位置检测部分400检测施加到相对基板220上部的外力PO的位置与坐标。例如，当形成在相对基板220的第一突起电极ERl与形成在阵列基板210的第一信号线SLl通过外力PO相接触时，检测施加到第一信号线SLl的初始驱动电压Vid的变化，并获得外力的Y轴坐标。另外，当形成在相对基板220的第二突起电极ER2与形成在阵列基板210的第二信号线SL2通过外力PO相接触时，检测施加到第二信号线SL2的初始驱动电压Vid的变化，并获得外力的X轴坐标。位置检测部分400包括电源控制部分以及数据取样部分，将参考图8在下文中作进一步描述。电源控制部分响应第五控制信号CNTL5，供应初始驱动功率Vid到第一与第二信号线SLl与SL2。数据取样部分检测第一与第二信号线SL2与SL2中的初始驱动功率Vid,并输出第一检测信号DSl与第二检测信号DS2。位置检测部分400可形成在面板驱动部分300的数据驱动部分340中。位置检测部分400可与数据驱动芯片340整体形成在数据驱动部分340的数据TCP341上。当数据检测部分400与数据驱动芯片340整体形成时，数据驱动芯片342可进一步包括与第一与第二信号线SLl与SL2电连接的附加焊盘。定位部分500基于由位置检测部分400输出的第一与第二检测信号DSl与DS2来处理X轴与Y轴的坐标，并确定在显示面板200上施加外力PO的精确的点。图3为分离地示出图2的示例性显示装置的示例性阵列基板以及示例性相对基板的分解透视图。参考图3，显示面板200包括阵列基板210与相对基板220。阵列基板210具有多个形成在其上并在D2方向上延伸的数据线DL，以及多个形成在其上并在Dl方向上延伸的栅线GL。另外，阵列基板210具有形成在其上的多个第一信号线SLl与多个第二信号线SL2来执行触摸屏功能。第一信号线SLl沿着第一方向Dl延伸，以及第二信号线SL2沿着第二方向D2。阵列基板210可进一步包括多个形成在第一与第二信号线SLl与SL2的上部的感测电极ES。感测电极ES包括分别穿过接触孔CTHl与CTH2与第一与第二信号线SLl与SL2电连接的第一与第二感测电极ESl与ES2。相对基板220具有多个突起电极ER以及多个支持图案226。突起电极ER具有第一长度来执行触摸屏功能。多个支持图案226具有第二长度来为维持分隔距离，例如阵列基板210与相对基板220之间的单元间隙。突起电极ER与支持图案226直接形成在相对基板220的基础基板上，来与包括在阵列基板210中的基础基板相接触。突起电极ER包括与第一信号线SLl可电连接的第一突起电极ER1，以及与第二信号线SL2可电连接的第二突起电极ER2。第一突起电极ERl形成在相对基板220上，从而第一突起电极ERl与第一感测电极ESl相对应，第二突起电极ERl形成在相对基板220上，从而第二突起电极ER2与第二感测电极ES2相对应。当其上施加外力PO时，由于突起电极ER的第一长度比支持图案226的第二长度更小，第一突起电极ERl与第一感测电极ESl电接触，第二突起电极ER2与第二感测电极ES2电接触。因此，当施加外力PO时，分别与第一与第二感测电极ESl与ES2电连接的第一与第二信号线SLl与SL2分别与第一与第二突起电极ERl与ER2电连接。另外，图1所示的从电源部分输出的共用电压Vcom施加到突起电极ER上。从电源部分320输出的初始驱动电压Vid施加到第一与第二信号线SLl与SL2上。由于施加了共用电压Vcom的突起电极ER与感测电极ES通过外力PO电接触，在触摸点上施加到第一与第二信号线SLl与SL2上的初始驱动电压Vid的电势将改变。在第一信号线SLl中的初始驱动电压Vid的电势改变被用来确定Y轴或第一方向Dl的坐标。在第二信号线SL2中的初始驱动电压Vid的电势改变被用来确定X轴或第二方向D2的坐标。图4为示出了依据本发明实施例的示例性显示面板的部分的平面图；图5为沿着图4的线1-1’的部分横截面视图；以及图6为示出了施加了外力的示例性显示面板的弯曲形状的横截面视图。参考图4与5，显示基板200包括阵列基板210、相对基板220以及设置在阵列基板210与相对基板220之间的液晶层(未显示)。阵列基板210具有多个像素，像素作为在基础基板上显示图像的标准单元，以矩阵形状形成在其上。在多个像素之间，第ji像素Pji包括第j栅线GLj、第i数据线DLi、第jiTFTTji以及第ji像素电极PEji。第j栅线GLj在第一方向Dl上延伸。第i数据线DLi与第j栅线GLj彼此间电绝缘。第i数据线DLi在与第一方向Dl基本垂直的第二方向D2上延伸，与第j栅线GLj交叉。第ji像素区域PAji由分别靠近第i+Ι数据线DLi+Ι以及第j_l栅线GLj-I的第i数据线DLi与第j栅线GLj确定。第ji像素区域PAji具有形成在其上的第jiTFTTji以及第ji像素电极PEji。第jiTFTTji的栅电极G从第j栅线GLj中分叉出，源电极S从第i数据线DLi中分叉出，并且漏电极D与第ji像素电极PEji电连接。数据信号通过第i数据线DLi传送，并且栅信号施加到第j栅线GLj上。因此，TFTTji响应栅信号，输出数据信号到第ji像素电极PEji。另外，第ji像素电极Pji可进一步包括第ji存储电压线SEji，其用来接收共用电压Vcom以及确定子电容器Cst。阵列基板210具有形成在其上并在与栅线GL相平行的第一方向上延伸的第一信号线SL1，以及形成在其上并与数据线DL相平行的第二方向上延伸的第二信号线SL2。第一信号线SLl可形成在与栅线GL形成的同一层上，并且第二信号线SL2可形成与数据线DL形成的同一层上，来减少阵列基板210的制造工艺以及显示面板200的厚度。向第一信号线SLl与第二信号线SL2施加初始驱动电压Vid。阵列基板210包括形成在其上的第一感测电极ESl，第一感测电极ESl设置在第一信号线SLl的上部上方并且与形成在相对基板220上的第一突起电极ERl电连接。另外，阵列基板210进一步包括形成在其上的第二感测电极ES2，第二感测电极ES2设置在第二信号线SL2的上部上方并且与形成在相对基板220上的第二突起电极ERl电连接。参考图4与5，阵列基板210包括第一基础基板211、TFT阵列层212以及像素电极PE。第一基础基板211包括例如，但不限于例如玻璃的透明材料。第一基础基板211具有形成在其上的TFT阵列层212。TFT阵列层212包括多个TFT、保护层213、平面化层214以及第一信号线SLl。多个TFT中的每一个均包括栅电极212a、栅绝缘层212b、有源层212c、欧姆接触层212d、源电极212f以及漏电极212e。保护层213或钝化层，包括，例如，有机绝缘层，无机绝缘层，或其组合物，来覆盖TFT。另外，接触孔CTH3形成在保护层213与平面化层214上来暴露TFT的漏电极212e。由于第一数据线SLl形成在与栅电极212a形成的同一层上，栅绝缘层212b、保护层213与平面化层214覆盖了第一信号线SLl的上部。因此，第一信号线SLl与第一突起电极ERl电绝缘。第二信号线SL2可形成在栅绝缘层212b上，该栅绝缘层212b是与源电极212f、漏电极212e以及数据线DL基本相同的层。保护层213与平面化层214覆盖了第二信号线SL2。因而，第二信号线SL2与第二突起电极ER2电绝缘。像素电极PE包括例如氧化铟锡(“ΙΤ0”)的透明导电材料，并与每个像素区域相对应形成在平面化层214上。使第一信号线SLl与第一突起电极ERl电接触的第一感测电极ESl通过用于形成像素电极PE的蚀刻工艺形成。因此，第一感测电极ESl与像素电极PE—样形成在平面化层214的上部上。同样的，使第二信号线SL2与第二突起电极ER2电接触的第二感测电极ES2与像素电极PE—样形成在平面化层214上。栅绝缘层212b、保护层213与平面化层214具有形成在其上的接触孔CTH1，并且接触孔CTHl暴露第一信号线SLl或第一信号线SLl的支线BR(图4所示)，使第一感测电极ESl与第一信号线SLl电接触。第二感测电极ES2可通过部分暴露第二信号线SL2的接触孔CTH2与第二信号线SL2电连接。用来部分暴露第二数据线SL2的接触孔CTH2穿过保护层213与平面化层214形成。相对基板220包括第二基础基板221、光阻挡层(或黑矩阵)222、滤色器层223、平面化层224、突起图案225、支持图案226以及共用电极层227。第二基础基板221包括例如玻璃或聚碳酸酯(“PC”)的透明绝缘材料。在一个实施例中，当施加了外力PO时第二基础基板221是柔性的以被弯曲，从而显示面板200具有触摸屏功能，在这种情况下第二基础基板221可进一步包括例如PC的塑料材料基板。可选的，玻璃基板可被蚀刻或研磨而具有大约0.2mm至0.5mm的薄的厚度，并且具有大约0.2mm至大约0.5mm厚度的玻璃基板可被用作第二基础基板221。形成相对基板220的光阻挡层222来面对阵列基板210的TFT、数据线DL、栅线GL、第一信号线SLl以及第二信号线SL2。光阻挡层222阻挡光穿过设置在不被像素电极PE控制的区域的液晶，并提高了显示面板的对比度。滤色器层223包括，例如，红色滤色器图案R、绿色滤色器图案G以及蓝色滤色器图案B，并相应于像素形成。例如，滤色器层223部分与光阻挡层222重叠。平面化层224形成在滤色器层223的上部上，可以是使相对基板220平面化的有机绝缘层。突起图案225与支持图案226可通过光刻步骤形成。换句话说，光敏高分子有机材料PP涂覆在具有形成在其上的光阻挡层222的第二基础基板221上，曝光掩模设置在光敏高分子有机材料上。那么，有机材料将被曝光及显影。基于依据曝光总量或曝光时间的不同的显影特性，形成的突起图案225与支持图案226具有彼此不同的长度。因此，支持图案226具有第一长度al来维持与阵列基板210与相对基板220之间的单元间隙基本相等的分隔距离，突起图案225具有比支持图案226的第一长度al较小的第二长度a2，来执行触摸屏功能。因而，支持图案226充当了显示面板200的一组柱状间隔物(columnspacer)。另外，多个突起图案225形成在与形成在阵列基板210上的第一信号线SLl相对应的区域中。同样的，多个突起图案225形成在与形成在阵列基板210上的第二信号线SL2相对应的区域中。例如，支持图案226形成在屏蔽区，而不由于支持图案226而影响显示面板200的光透射率。支持图案226可形成在每个像素上，或具有预定数目的像素的每个单元像素中。例如，支持图案226以均勻的密度形成。共用电极层227包括例如氧化铟锡(“ΙΤ0”)、氧化锌铟(“ΙΖ0”)等的透明导电材料，并形成在平面化层224上，从而共用电极层227覆盖了突起图案225。在形成共用电极227的工艺中，透明导电层可形成在支持图案226的顶部上。优选地，形成在支持图案226顶部上的透明导电层被移开。此外，覆盖了支持图案226的保留部分的透明导电层被移开。形成共用电极层227，从而共用电极层227覆盖了突起图案225的上部，因此完成了包括突起图案225与共用电极层227的第一突起电极ER1。同时，可以理解，共用电极层227进一步覆盖了突起图案225的上部，因此完成了包括突起图案225与共用电极层227的第二突起电极ER2。因此，如图6所示，第一突起电极ERl与第二基础基板221—起由于外力PO而弯曲，朝着阵列基板210移动，第一突起电极ERl与第一感测电极ESl电连接。如上所述，施加到信号线SL上的初始驱动电压Vid的电势依据突起电极ER与感测电极ES的接触而变化，因而，将可以检测施加到其上的外力PO的坐标。第一突起电极ERl形成在光阻挡层222之上。换句话说，形成不与像素的传送区域相重叠的第一突起电极ERl与第一感测电极ES1，因此将不影响像素的开口率。为了这个目的，第一信号线SLl具有与其连接的支线BR，并且第一突起电极ERl与第一感测电极ESl可形成在光阻挡层区域中。支线BR从沿着第一方向Dl延伸的第一信号线SLl沿着第二方向D2延伸，并形成在光阻挡层区域上。另外，为了形成第一突起电极ERl，光阻挡层222优选形成具有覆盖在单元像素与相邻单元像素之间的第一突起电极ERl的足够的宽度。单元像素包括，例如，均显示R、G、B色彩的第ji-Ι像素Pji-I，第ji像素Pji，第ji+Ι像素Pji+1。而且，第一感测电极ESl形成在与第ji+Ι像素电极PEji+1相同的层上，并与第ji+Ι像素电极PEji+1具有分隔距离，来阻止第一感测电极ESl与第ji+Ι像素电极PEji+1之间的耦合现象。因此，与第一感测电极ESl相邻的像素电极PEji+Ι形成了具有一个朝着第ji+Ι像素电极PEji+Ι的凹槽区域，因此，如图4所示当在平面上观察时，像素电极PEji+Ι具有一个凹面。如上所述，突起电极ER与信号线SL已经参考第一突起ERl与第一信号线SLl进行描述，但对于本领域技术人员来说是显而易见的，与其相关联的，第二突起电极ER2与第二信号线SL2可以通过与形成第一突起ERl与第一信号线SLl基本相同的方法来形成。而且，已经在本发明的一个实施例中示出了第一与第二突起电极ERl与ER2，并且分别与第一与第二突起电极ERl与ER2相对应的第一与第二感测电极ESl与ES2形成在与光阻挡层222相对应的区域上。可选的，第一与第二突起电极ERl与ER2彼此相邻，并且通过彼此相邻在同一光阻挡层222上形成第一信号线SLl的支线BR与第二信号线SL2，并在支线BR的上部分与第二信号线SL2上分别形成第一与第二感测电极ESl与ES2，第一与第二感测电极ESl与ES2形成在同一光阻挡层区域上。而且，在可选的实施例中，通过彼此相邻在同一光阻挡层222上形成第一与第二感测电极ESl与ES2，并通过整体形成第一与第二突起图案225，第一与第二突起电极ERl与ER2可整体形成，来形成一体化的突起电极。执行显示面板的触摸屏功能的方法将在下文中进行描述图7为示出了依据本发明一个实施例的检测触摸点的典型方法的时序图，且图8为示出了实现依据图7的示例性时序图来检测图1中的触摸点的示例性检测部分平面示意图。参考图7与8，在共用电极层227具有施加到其上(SYl之前的周期)的共有电压Vcom的情况下，电源控制部分410响应从图1的时序控制部分310输出的第五控制信号CNTL5而被驱动。然后，从电源部分320输出的初始驱动电压Vid施加到第一与第二信号线SLl与SL2上(在SYl与SY2之间的周期中)。当在形成在第一与第二信号线SLl与SL2上的第一与第二突起电极ERl与ER2之间的预定的突起电极ERlp+q与ER2p+q，分别通过外力接触第一与第二信号线SLl与SL2时(在SY2与SY3之间的期间中)，由突起电极ERl与ER2接触的第一与第二信号线SLl与SL2的电压水平变化。当共用电压Vcom的电势低于初始驱动电压Vid时，例如当共用电压Vcom大约为OV而初始驱动电压Vid大约为5V时，由第一与第二信号线SLl与SL2传送的电流被施加到共用电极层227上，第一与第二信号线SLl与SL2的电压水平接近或变成共用电压Vcom的电势(在SY3与SY4之间的周期中)。在这种情况下，数据取样部分420响应由时序控制部分310供给的取样信号SS，例如在SY3与SY4之间的周期，来锁闭(latch)第一与第二信号线SLl与SL2的不同的电压水平，并产生以及输出第一与第二检测信号DSl与DS2。为了达到这个目的，数据取样部分420可包括接收取样信号SS作为控制输入的锁存器(latch)。数据取样部分420独立地形成在每个第一与第二信号线SLl与SL2上。另外，电源控制部分410可与例如金属氧化物半导体(“M0S”)晶体管等的开关元件一起形成，并可共同地与第一与第二信号线SLl与SL2相连接。其后，如图1所示的定位部分500，组合了Y与X轴坐标并确定在显示面板200上施加外力的触摸点。基于由数据取样部分420输出的第一与第二检测信号DSl与DS2来确定Y与X轴坐标。图9至16为示出了依据本发明实施例的示例性显示基板的示例性制造工艺的横截面。具体而言，示出了具有图5的形成在其上的突起图案225与支持图案226的相对基板220。参考图9，每个像素在相对基板220的第二基础基板221的上部上被划分，光阻挡层222形成在每个像素中从而光将不能从外部进入每个像素中。光阻挡层222可包括例如铬(Cr)的金属薄膜或例如碳酸酯的有机材料。光阻挡层222可进一步包括例如铬(Cr)/氧化铬(CrOx)的双层来减少反射率。当描述特殊的示例性材料时，可以理解，可选的适合材料将落入这些实施例的范围。参考图10，光敏高分子有机材料PP涂在具有形成在其上的光阻挡层222的第二基础基板221的整个区域上。光敏高分子有机材料PP的厚度优选地与图5所示的支持图案226的第一长度al相同。参考图11，曝光掩模MASK设置在光敏高分子有机材料PP上部预定的距离b上。光源设置在曝光掩模MASK上方，然后曝光光敏高分子有机材料PP。曝光掩模MASK包括例如铬(Cr)的屏蔽材料来屏蔽光。另外，曝光掩模具有形成在其上的第一掩模图案MPl与第二掩模图案MP2，光屏蔽区域LCA形成在第一与第二掩模图案MPl与MP2之外。第一掩模图案MPl是形成第二基础基板221上的支持图案226的掩模图案，第二掩模图案MP2是形成第二基础基板221上的突起图案225的掩模图案。另外，第一掩模图案MPl具有与第二掩模图案MP2基本相同的外围形状，但比第二掩模图案MP2相对较大。例如，当第一与第二掩模图案MPl与MP2具有环形形状时，第一掩模图案MPl的直径比第二掩模图案MP2的直径更长。参考图12，当光敏高分子有机材料PP由邻近型(proximitytype)曝光工艺利用曝光掩模MASK曝光时，在对第一与第二掩模图案MPl与MP2相对应的区域中的光敏高分子有机材料PP将被曝光，但是与光屏蔽区域LCA相对应的光敏高分子有机材料PP将不被曝光。依据第一与第二掩模图案MPl与MP2的尺寸，光衍射将改变，并因而曝光面积变化。换句话说，具有较第二掩模图案MP2相对更大尺寸的第一掩模图案MPl具有较小的衍射量。因此，在与第一掩模图案MPl相对应的区域中的光敏高分子有机材料PP将比在与第二掩模图案MP2相对应的区域中的光敏高分子有机材料PP曝光得更多。对具有不同曝光量的光敏高分子有机材料进行焙烘工艺与显影工艺。然后，消除与光屏蔽区域LCA相对应的光敏高分子有机材料PP。因此，依据不同的曝光量，几乎维持了光敏高分子有机材料PP的初始涂层厚度以及具有第一长度al的支持图案226形成在第一掩模图案MPl的下部上。另外，依据不同的曝光量，突起图案225形成在第二掩模图案MP2的下部上，突起图案225从光敏高分子有机材料PP的初始涂层厚度上消除预定的厚度并具有第二长度a2。光敏高分子有机材料PP与曝光掩模MASK之间的分隔距离b可控制支持图案226的第一长度al与突起图案225的第二长度a2。换句话说，在邻近型曝光工艺中，由于曝光工艺通过控制分隔距离b的装置来完成，支持图案226与突起图案225的长度可以得到控制。就是说，当分隔距离b增大时具有90°的入射角减小且由此曝光量减小，以及当分隔距离b减小时具有90°的入射角减大且由此曝光量增加的原理，可用来控制光敏高分子有机材料PP的曝光量。如图17所示，利用形成在曝光掩模MASK的掩模图案MPl与MP2来完成曝光与显影工艺，那么，正比于掩模图案MPl与MP2的尺寸来决定光敏高分子有机材料PP的保留厚度。另外，如图18所示，反比于曝光掩模MASK与光敏高分子有机材料PP之间的分隔距离b来决定光敏高分子有机材料PP的保留厚度。参考图13，滤色器层223形成在具有形成在其上的支持图案226与突起图案225的第二基础基板221的上部上。滤色器层223形成在滤色器图案R、G与B例如，与沿着光阻挡层222的像素单元相对应的位置上。滤色器层223通过例如为了获得均勻厚度的旋涂工艺来形成。在旋涂工艺中，形成滤色器的颜料从相对于支持图案226与突起图案225的上部分的较低的部分喷出，因而滤色器层223不在支持图案226与突起图案225的上部上形成。参考图14，平面化层224形成在具有形成在其上的滤色器层223的第二基础基板221的上部。平面化层224保护滤色器层223并使相对基板220平面化。平面化层224可包括丙稀或聚酰亚胺树脂。参考图15，共用电极层227形成在具有形成在其上的平面化层224的第二基础基板221的上部上。共用电极层227涂布在平面化层224以及突起图案225与支持图案226上。用于将共用电压Vcom施加到液晶材料中的共用电极层227，通过溅射与沉积例如ITO的具有高透射率、导电率、化学稳定性以及热稳定性的透明导电材料来形成。突起图案225与共用电极层227形成突起电极ER，并且突起电极ER与图5中所示的信号线SL通过外力PO电接触。电接触如图7中所述改变了初始驱动电压Vid的电压水平，并因而检测到了施加到其上的外力的坐标。参考图16，通过附加的工艺来从支持图案226消除共用电极层227并形成非导电的支持图案226。因此，由于如图5所示的阵列基板210的电连接，阻止了施加到共用电极层227上的共用电压Vcom的改变，并因此没有出现由于共用电压Vcom而对于在阵列基板210上形成的元件的电效应。在这个示例性实施例中，当已经描述了负型(negativetype)曝光工艺，其中光敏高分子有机材料PP通过显影工艺进行保留，可以理解，正性曝光工艺也可运用到这个可选的实施例中。如之前所提到的，图17为示出了形成在曝光掩模上的示例性掩模图案的尺寸与在示例性显影工艺之后的保留层的厚度之间的关系的曲线图。参考图17，可以看到，掩模图案具有越大的尺寸，在显影工艺后的保留层的厚度也越大。图18为示出了依据示例性曝光掩模与光敏高分子有机材料之间的分隔距离的，在示例性显影工艺之后的保留层的厚度变化的曲线图。参考图18，可以看到，掩模与光敏高分子有机材料PP之间的分隔距离越大，在显影工艺后的保留层的厚度也越大。图19为沿着图4的线1-1’并示出了依据本发明另一个实施例的示例性显示面板的部分横截面视图。参考图19，显示面板600包括阵列基板210、相对基板620、以及设置在阵列基板210与相对基板620之间的液晶层(未显示)。参考图5与19，图19的显示面板600包括与图5的显示面板200同样结构的阵列基板210。因此，将省略对图19所示的阵列基板210的具体描述。相对基板620包括基础基板621、黑矩阵622、滤色器层623、平面化层624、突起图案625、支持图案626以及共用电极层627。基础基板621、黑矩阵622与滤色器层623可形成具有与依据本发明的实施例的显示面板200的相对基板220相同的结构。因此，将省略这些元件的任何进一步的描述。平面化层624形成在滤色器层623上，包括使相对基板620平面化的有机绝缘层。突起图案625与支持图案626可通过包括在平面化层624上涂覆光敏高分子有机材料PP、在光敏高分子有机材料PP的上部设置掩模并曝光掩模的光刻工艺形成。突起图案625与支持图案626可在与在依据本发明的实施例的显示面板200上形成突起图案225与支持图案226的相同位置上形成。突起图案625形成在基础基板621上。突起图案625朝着阵列基板210的方向以预定的突起高度突起。形成的突起图案625的突起高度比阵列基板210与相对基板620之间的单元间隙小。支持图案626与突起图案625同时形成，并具有较突起图案625更大的直径。另夕卜，形成的支持图案626的高度与阵列基板210与相对基板620之间的单元间隙相同。因此，支持图案626维持阵列基板210与相对基板620之间的单元间隙并支持阵列基板210与相对基板620。优选地，支持图案626形成在黑矩阵上方，从而不影响显示面板600的光透射率。另外，由于共用电极层627形成在支持图案626上，支持图案626优选形成在黑矩阵区域中，其中支持图案626不与形成在阵列基板210上的像素电极PE或者第一感测电极ESl电接触。支持图案626可形成在每个像素或每个具有预定数目像素的像素单元上。优选地，支持图案626以均勻的密度形成在整个显示面板600上。共用电极层627包括例如氧化铟锡(“ΙΤ0”)、氧化锌铟(“ΙΖ0”)等的透明导电材料，并形成在基础基板621的前表面上来覆盖突起图案625与支持图案626。从基础基板621朝着阵列基板210的方向突起的第一突起电极ER1，通过形成在突起图案625的上部分上的突起图案625与共用电极层627形成。图20与21为示出了图19中的示例性突起图案与示例性支持图案的示例性制造工艺的横截面视图。参考图20，相对基板620的平面化层624具有形成在其上的厚度均勻的光敏高分子有机材料PP。曝光光敏高分子有机材料PP的曝光掩模MASK设置在光敏高分子有机材料PP上方。曝光掩模MASK包括屏蔽材料。曝光掩模MASK包括第一掩模图案MPl与第二掩模图案MP2。第二掩模图案MP2的直径比第一掩模图案MPl的直径大。光屏蔽区域LCA形成在第一与第二掩模图案MPl与MP2之外。当光敏高分子有机材料PP被曝光时，在与第一与第二掩模图案MPl与MP2相对应的区域中的光敏高分子有机材料PP被曝光，但是在与光屏蔽区域LCA相对应的区域中的光敏高分子有机材料PP没有被曝光。参考图20与21，当曝光的光敏高分子有机材料PP被显影时，消除了没有被曝光的光敏高分子有机材料PP，均具有柱状间隔物形状的突起图案部分625a与支持图案部分626a形成在基础基板621上。突起图案部分625a通过第一掩模图案MPl曝光并形成。支持图案部分626a通过第二掩模图案MP2曝光并形成。突起图案部分626a与支持图案部分625a具有同样高度。支持图案部分626a具有比突起图案部分625a更宽的直径。例如，突起图案部分625a的直径大约为ΙΟμπι，支持图案部分626a的直径大约为17μm。突起图案部分625a与支持图案部分626a的两个表面侧可为具有沿着阵列基板的方向直径减小的阶梯形状。与阵列基板接触的边缘部分可为圆形。图22与23示出了示例性显示面板的典型装配工艺的步骤图。参考图22，密封剂通过密封剂分配器SD沿着阵列基板210的周围分布，并与阵列基板210的外围相邻形成密封图案SP。密封剂，例如，包括热固性树脂，并且密封图案SP的宽度与高度可是基本均勻的。然后，参考图23，阵列基板210与相对基板620彼此相对设置，然后密封图案SP中的密封剂通过热压工艺硬化。通过热压工艺，阵列基板210与相对基板620彼此组合并具有均勻的距离，通过热压工艺的外力使形成在相对基板620中的突起图案部分625a与支持图案部分626a变形。图24为示出了当其上施加持续的外力时依据示例性支持图案的截面面积的应变的变化的曲线图。参考图24，可以发现，当增大支持图案(柱状间隔物)的横截面面积时，固定的外力导致的应变减小，并且当减少支持图案(柱状间隔物)的横截面面积时，应变增大。因此，在将阵列基板与相对基板压在一起的热压工艺中，具有比支持图案部分小的直径的突起图案部分具有更大的压缩应变比。表1展示了在具有不同支持图案的显示面板施加了相同外力后液晶的单元间隙。表1<table>tableseeoriginaldocumentpage20</column></row><table>样品1包括具有ΙΟμπι直径的支持图案的显示面板，样品2包括具有17μm直径的支持图案的显示面板。在样品1与样品2中支持图案的高度与在施加外力前的单元间隙相等。考虑到表1的结果，样品1具有大约3.27μm的平均单元间隙而样品2为大约3.35μm。换句话说，具有较小直径的支持图案样品1中的液晶的单元间隙要比样品2的小。因此，可以注意到，与支持图案的直径减小相一致，压缩应变比增大了。图25A至25C为示出了示例性突起图案以及示例性支持图案的应变工艺的概念图。图25A为示出了在执行热压工艺前的显示面板600的横截面视图，图25B为示出了在执行热压工艺中的显示面板600的横截面视图，以及图25C为示出了执行了热压工艺后的显示面板600的横截面视图。参考图25A与25B，在执行热压工艺之前以及形成密封图案SP之后的突起图案部分625a与支持图案部分626a具有相同的第一高度a。在热压工艺期间，由于热压工艺的外力，突起图案部分625a与支持图案部分626a具有相同的第二高度b，其中a>b。参考图25B与25C，由于突起图案部分625a具有与支持图案部分626a相比较小的直径以及较大的压缩应变比，突起图案部分625a的高度在热压工艺后将无法重新恢复。然而，由于支持图案部分626a具有与突起图案部分625a相比较大的直径以及较小的压缩应变比，支持图案部分626a的高度几乎可以恢复到第一高度a。因此，出现了突起图案部分625a与支持图案部分626a之间的高度差，同时出现支持图案部分626a的高度比突起图案部分625a更大。因而，突起图案部分625a变成在施加外力PO期间具有足够高度来接触阵列基板的突起支持图案625。突起图案625通过形成在相对基板的整个表面上的包括覆盖了突起图案625的共用电极层627，成为具有触摸屏功能的突起电极ER。因为支持图案部分626a由于其较低的压缩应变比经历了高度上的微小变化，支持图案部分626a成为支持图案626来维持阵列基板210与相对基板620之间的分隔距离。具有不同功能的突起图案625与支持图案626可通过阵列基板210与相对基板620的热压工艺同时形成。图26为沿着图4的线1-1’并示出了依据本发明另一个实施例的示例性显示面板的部分横截面视图。参考图26，显示面板700包括阵列基板210、相对基板720、以及设置在阵列基板210与相对基板720之间的液晶层(未显示)。参考图5与26，依据本发明给出的实施例的显示面板700，可包括与图5的依据本发明的实施例的显示面板200具有基本相同的阵列基板。因而，相同的参考标记将用来指代那些在图5的实施例中描述的相同的或类似的部分。阵列基板210包括第一基础基板211、TFT阵列层212、第一突起电极ER1、支持图案226以及像素电极PE。虽然没有示出，但可以理解，阵列基板210进一步包括第二突起电极ER2。第一基础基板211包括例如玻璃的透明材料。TFT阵列层212形成在第一基础基板211上。TFT阵列层212包括多个TFT、保护层213以及第一信号线SL1。虽然没有示出，但可以理解，TFT阵列层212进一步包括第二信号线SL2。多个TFT的每个包括栅电极212a、栅绝缘层212b、有源层212c、欧姆接触层212d、源电极212f以及漏电极212e。保护层213包括，例如，覆盖TFT的有机绝缘层。另外，为了使TFT的漏电极212e暴露，接触孔CTH3穿过保护层213形成。保护层213可进一步包括使阵列基板210平面化的平面化层。由于第一信号线SLl形成在与栅电极212a形成的同一层上，栅绝缘层212b与保护层213覆盖了第一信号线SLl的上部。TFT阵列层212具有形成在其上的突起图案225以及支持图案226。突起图案225以及支持图案226利用图20与21中所述的基本相同的光刻法形成，但在这个实施例中，突起图案225以及支持图案226形成在阵列基板210上。换句话说，光敏高分子有机材料PP涂覆在其上形成有保护层213的阵列基板210上，利用曝光掩模完成光刻工艺，然后形成突起图案225以及支持图案226。多个突起图案225与第一信号线SLl相对应形成，多个突起图案225与第二信号线SL2(未显示)相对应形成。突起图案225从阵列基板210朝着相对基板720的方向以预定的突起高度突起。形成的突起图案225的突起高度比阵列基板210与相对基板720之间的单元间隙小。支持图案226与突起图案225同时形成，并具有比突起图案225更大的直径。另外，形成的支持图案226具有与阵列基板210与相对基板720之间的单元间隙相同的高度。因此，支持图案226在与相对基板720相隔一定分隔距离的位置上设置阵列基板210，并支持阵列基板210与相对基板720。优选地，支持图案226形成在黑矩阵722之下，从而不由于支持图案226的形状而影响显示面板700的光透射率。支持图案226可形成在每个像素或每个具有预定数目像素的像素单元上。优选地，支持图案226在整个显示面板700上以均勻的密度形成。像素电极层PE包括例如氧化铟锡(“ΙΤ0”)的透明导电材料，并相应于每个像素形成在保护层213上。在形成像素电极层PE的光刻工艺中，第一感测电极ESl形成在突起图案225上。在施加外力PO时，第一感测电极ESl使第一信号线SLl与形成在相对基板720中的共用电极727电连接。第一感测电极ESl包括与像素电极PE相同的材料并形成在与像素电极PE形成的同一层上。第二感测电极ES2(未显示)可形成在与像素电极PE形成的同一层上。第一突起电极ERl通过突起图案225与形成在突起图案225上表面上的第一感测电极ESl从阵列基板210朝着相对基板720的方向突起。栅绝缘层212b与保护层213具有穿其而过的接触孔CTHl(未显示)，接触孔CTHl暴露第一信号线SLl使第一感测电极ESl与第一信号线SLl电连接。相对基板720包括基础基板721、黑矩阵722、滤色器层723、平面化层724、以及共用电极层727。基础基板721包括例如玻璃或聚碳酸酯(“PC”)的透明绝缘材料。在施加小的外力下基础基板721可弯曲，来赋予显示面板200触摸屏功能，从而基础基板721可包括例如聚碳酸酯(“PC”)的塑料材料。黑矩阵722与TFT、数据线DL、栅线(未显示)、第一信号线SLl与第二信号线(未显示)相对应形成。滤色器层723，例如，包括红色滤色器图案、绿色滤色器图案以及蓝色滤色器图案，与像素相对应形成。滤色器层723优选与黑矩阵722的小部分重叠。平面化层724形成在滤色器层723与黑矩阵722的暴露部分的上部上，并包括使第二基板120平面化的有机绝缘层。共用电极层727包括例如氧化铟锡(“ΙΤ0”)或氧化锌铟(“ΙΖ0”)的透明导电材料，并形成在平面化层724上。虽然已经描述了第一突起电极ERl与第一信号线SL1，但是可以理解，如图4所示的第二突起电极ER2与第二信号线SL2可利用基本相同的方法形成。图27A与27B为示出了图26的示例性突起图案与示例性支持图案的典型制造工艺的横截面视图。参考图27A，光敏高分子有机材料PP在阵列基板210的保护层213上以均勻厚度形成。曝光掩模MASK设置在光敏高分子有机材料PP上方来构图光敏高分子有机材料PP。曝光掩模MASK包括屏蔽材料来屏蔽光。另外，曝光掩模MASK具有形成在其上的第一掩模图案MPl与第二掩模图案MP2，并且光屏蔽区域LCA形成在第一与第二掩模图案MPl与MP2之外。第一掩模图案MPl是在阵列基板210上形成支持图案226的掩模图案，第二掩模图案MP2是在阵列基板210上形成突起图案225的掩模图案。另外，第一掩模图案MPl具有与第二掩模图案MP2基本相同的形状，并具有比第二掩模图案MP2相对较大的尺寸。例如，当第一与第二掩模图案MP1、MP2以圆形形状形成时，第一掩模图案MPl的直径要比第二掩模图案MP2的直径长。当光敏高分子有机材料PP被曝光时，与第一与第二掩模图案MPl与MP2相对应的光敏高分子有机材料PP的上表面将完全被曝光，但是与光屏蔽区域LCA相对应的光敏高分子有机材料PP没有被曝光。如图27B所示，当曝光的光敏高分子有机材料PP被显影时，就消除了没有被曝光的光敏高分子有机材料PP。因此，有源层213具有突起图案部分225a与支持图案部分226a，这两者都具有形成在其上的柱状间隔物的形状。突起图案部分以及支持图案部分225a与226a具有同样的高度。支持图案部分226a具有比突起图案部分225a更宽的直径。例如，突起图案部分225a的直径可大约为10μm,而支持图案部分226a的直径可大约为17μm。虽然在附图中未显示，通过光刻工艺，相对应于每个像素部分的像素电极PE以及相对应于突起图案部分225a的第一感测电极ES1，形成在其上形成有突起图案部分225a以及支持图案部分226a的保护层213上。那么，阵列基板210与相对基板720利用如图22与23所述的组装工艺进行热压。形成在阵列基板上的突起图案部分225a与支持图案部分226a通过在如图22与23所述的组装工艺中的外力而变形。在这种情况下，如图24与表1所述，由于具有较小直径的突起图案部分225a具有较大的压缩应变比，突起图案部分225a的应变比支持图案部分226a的应变更大。因此，参考图26与27B，当通过施加在显示面板700上的外力使相对基板弯曲时，突起图案部分225a成为具有足够高度来接触相对基板720的突起图案225。突起图案225通过形成在突起图案225上部上的第一感测电极ES1，成为具有触摸屏功能的第一突起电极ER1。由于支持图案部分226a具有较小的压缩应变比以及在组装工艺期间经历高度上的微小变化，支持图案部分226a成为在距离相对基板720—定分隔距离的位置上设置阵列基板210的支持图案226。依据本发明，显示面板的相对基板与具有第一与第二信号线的阵列基板电连接来检测触摸点，并具有触摸功能来确定触摸点的定位坐标。在这种情况下，制造显示基板的工艺总数可以通过在一个工艺中形成突起图案以及支持部件来减少工艺。突起图案与第一与第二信号线电连接，并检测触摸点的定位坐标。支持部件保持阵列基板与相对基板之间的分隔距离。因此，制造显示基板的工艺总数可以简化，提高了制造的便利性以及降低了成本价格。已经描述了本发明的实施例及其优势，可以注意到，在不脱离权利要求定义的本发明的精神与范围的情况下，本发明可以作出多种改变、替换以及变化。权利要求一种显示面板的显示基板，该面板具有触摸屏功能来检测触摸点的坐标，显示基板在触摸点上与阵列基板电连接，阵列基板具有由形成在其上的多个像素部分，第一线与第二线，该多个像素部分由多条栅线和多条数据线确定，该多个像素部分的每个包括像素电极，第一和第二线检测触摸点，该显示基板包括基础基板；直接形成在基础基板上具有第一长度的支持图案，其维持与阵列基板均匀分隔距离；以及形成在基础基板上具有第二长度的第一和第二突起图案，第一突起图案和第二突起图案的每个包括第一电极层，当外部压力施加到所述显示基板时，该第一电极层在触摸点上分别与第一和第二线电连接，其中所述第一电极层具有与所述像素电极相对的延伸部分。2.根据权利要求1的显示基板，其中第一长度比第二长度长。3.根据权利要求2的显示基板，其中第一与第二突起图案彼此间以预定的距离分隔开。4.根据权利要求2的显示基板，其中第一与第二突起图案彼此相邻形成。5.根据权利要求2的显示基板，进一步包括形成在基础基板上的光阻挡层，该光阻挡层相对应于像素部分将基础基板定义成多个区域，其中支持图案以及第一与第二突起图案形成在光阻挡层上。6.根据权利要求1的显示基板，其中支持图案以及第一与第二突起图案通过单一曝光工艺形成。7.根据权利要求1的显示基板，其中所述第一线在第一方向上延伸，所述第二线与所述第一线绝缘并在第二方向上延伸，所述第二方向与所述第一方向基本垂直。8.—种制造显示面板的显示基板的方法，该显示面板具有触摸屏功能来检测触摸点的坐标，显示基板与阵列基板在触摸点上电连接，阵列基板具有形成在其上的多个像素部分、第一线和第二线，该多个像素部分由多条栅线和多条数据线确定，第一和第二线检测触摸点，该方法包括在基础基板上涂上有机材料层；在有机材料层上部上方设置曝光掩模，从而曝光掩模与有机材料层分离，曝光掩模包括形成支持图案的第一掩模图案以及形成第一突起图案与第二突起图案的第二掩模图案；曝光有机材料层，同时维持曝光掩模与有机材料层之间的均勻的分隔距离；以及显影曝光的有机材料层形成支持图案以及第一与第二突起图案。9.根据权利要求8的方法，进一步包括在基础基板上形成光阻挡层，该光阻挡层对应于确定多个像素部分的区域。10.根据权利要求9的方法，其中维持曝光掩模与有机材料层之间的分隔距离控制支持图案与突起图案的长度。11.根据权利要求8的方法，进一步包括消除与支持图案以及第一与第二突起图案不相对应的有机材料层；形成滤色器层；在基础基板上形成其上形成了滤色器层的导电层；构图导电层；以及消除相对应于支持元件的区域中的导电层。12.根据权利要求11的方法，其中形成滤色器层包括利用旋涂步骤。13.根据权利要求8的方法，其中支持图案以及第一与第二突起图案通过邻近型曝光工艺形成。14.一种制造显示基板的方法，该显示基板与具有形成在其上的多个像素部分以及信号线的阵列基板相应，其中多个像素部分由多条栅线与多条数据线确定，信号线检测触摸点，该方法包括相对应于像素部分在基础基板上形成滤色器图案；在其上形成有滤色器图案的基础基板上形成有机材料层；构图有机材料层，以及分别形成具有不同直径的支持图案以及突起图案；在其上形成有突起图案的基础基板上形成透明电极层来形成覆盖了突起图案的突起电极；以及通过热压步骤在其上形成了透明电极层的基础基板上形成具有彼此不同高度的支持图案以及突起图案。15.根据权利要求14的方法，其中支持图案的直径比突起图案大，并且在热压步骤前支持图案的高度与突起图案的基本相同。16.根据权利要求14的方法，其中阵列基板与显示基板通过热压步骤利用密封剂组合o17.根据权利要求14的方法，其中在热压步骤后突起图案的高度比支持图案的高度低。18.根据权利要求14的方法，其中支持图案维持阵列基板与显示基板之间的间隙，并且其中在施加了外部触摸力时突起电极与信号线电连接。19.一种显示面板，包括阵列基板，其具有形成在其上的多个像素部分、第一信号线与第二信号线，多个像素部分由多条栅线和多条数据线确定，所述多个像素部分的每个包括像素电极，第一与第二信号线检测触摸点并分别形成在与栅线以及数据线相同的方向上；以及与阵列基板相组合的相对基板，并容纳液晶材料，其中相对基板包括在基础基板上与栅线与数据线相对应的区域中形成光阻挡层；以第一长度形成在光阻挡层上的支持图案，该支持图案维持与阵列基板均勻的分隔距离；以及以第二长度形成在光阻挡层上的第一突起图案与第二突起图案，第一突起图案和第二突起图案的每个包括第一电极层，当外部压力施加到所述显示基板时，所述第一电极层在所述触摸点分别电连接所述第一信号线和所述第二信号线，其中所述第一电极层具有与所述像素电极相对的延伸部分。20.权利要求19的显示面板，其中第一与第二突起图案形成在与数据线相对应的光阻挡层的区域上。21.权利要求20的显示面板，其中第一与第二突起图案彼此间以预定的距离分开。22.权利要求20的显示面板，其中第一与第二突起图案彼此相邻形成。23.权利要求19的显示面板，其中阵列基板进一步包括第一检测电极与第二检测电极，第一与第二检测电极分别形成在第一与第二信号线上，并且其上形成了所述第一电极层的第一与第二突起图案在触摸点上分别与第一与第二信号线电连接。24.权利要求19的显示面板，其中支持图案以及第一与第二突起图案通过邻近型曝光工艺形成。25.权利要求24的显示面板，其中第一长度比第二长度长。26.权利要求19的显示面板，所述第一信号线在第一方向上延伸，所述第二信号线与所述第一信号线绝缘并在第二方向上延伸，所述第二方向与所述第一方向基本垂直，当外部压力施加到所述相对基板时所述第一和第二信号线检测触摸点。全文摘要一种通过简单工艺来降低成本价格以及方便地制造的显示基板，包括基础基板、支持图案以及第一与第二突起图案。该显示基板具有触摸屏功能来检测触摸点并在触摸点上与其上形成了多个像素部分以及第一与第二信号线的阵列基板电连接。该支持图案以第一长度形成在基础基板上，并维持其与阵列基板的分隔距离。第一与第二突起图案以第二长度形成在基础基板上，并分别与第一与第二信号线电连接。同时形成突起图案与支持图案，因而简化了制造工艺。文档编号G02F1/133GK101833188SQ20101016760公开日2010年9月15日申请日期2006年11月3日优先权日2005年11月3日发明者全珍,卢水贵,朴商镇,李知恩申请人:三星电子株式会社