专利名称：肟酯化合物、自由基聚合引发剂、聚合性组合物、负型抗蚀剂以及图像图案的制作方法
技术领域：
本发明涉及肟酯化合物、含有它而成的自由基聚合引发剂、使用了它的聚合性组合物、使用了它的负型抗蚀剂以及使用了它的图像图案形成方法。进而，涉及成型树脂、铸塑树脂、光造型用树脂、密封剂、牙科用聚合树脂、印刷油墨、涂料、印刷版用感光性树脂、印刷用彩色校样、滤色器用抗蚀剂、黑矩阵用抗蚀剂、液晶用感光间隙子、背面投影用屏幕材料、光纤、等离子显示器用肋材、干膜抗蚀剂、印刷基板用抗蚀剂、焊料抗蚀剂、半导体用光致抗蚀剂、微电子用抗蚀剂、微型机器的部件制造用抗蚀剂、蚀刻用抗蚀剂、显微透镜阵列、 绝缘材、全息照相材料、光学转换器、波导用材料、外层涂布剂、粉末涂布剂、粘接剂、粘着齐U、脱模剂、光记录介质、粘接着剂、剥离涂布剂、使用了微胶囊的图像记录材料用组合物、 各种装置。
背景技术：
以往某种肟酯化合物具有光引发剂的功能是公知的(参照非专利文献1，专利文献1、2)。另外，作为正或负型的感光性聚酰亚胺前体用组合物的光自由基聚合引发剂公开了 α -酮肟酯化合物(参照专利文献3)。另外，公开了某种α，α ’-二酮肟酯化合物(参照专利文献4 8)。另外，公开了某种邻酰基肟酯化合物(参照专利文献9 13)。近年来为了应对生产率的提高和新提出的各种工艺，普遍地追求聚合引发剂的高敏感度化。对此进行了活跃的研究，结果取得了明显进步，即便如此，还要求进一步提高敏感度来提高生产率。另外，近年来在各种领域中采用了使用感光性树脂的光致抗蚀剂法。光致抗蚀剂法通常采用如下方法例如在要设置所需图像的基板表面通过涂布或从其他基材转印而形成感光性树脂层，接着对该感光性树脂层隔着原图照射能量线，曝光后利用溶剂或碱性水溶液由显影处理除去未曝光部分，从而形成与该原图对应的图像。关于利用该光致抗蚀剂法的例子，例如公开了某种负型抗蚀剂作为用于形成显示面板用间隙子的材料(参照专利文献14 16)。另外，公开了某种负型抗蚀剂作为电气 电子部件制造用、印刷基板制造用材料(参照专利文献17 19)。最近作为更高敏感度的抗蚀剂组合物已知有将某种邻酰基肟酯用作自由基聚合引发剂的抗蚀剂组合物，并公开了某种负型抗蚀剂作为用于形成显示面板用间隙子的材料(参照专利文献20)。另外，公开了某种负型抗蚀剂作为电气·电子部件制造用、印刷基板制造用材料(参照专利文献21)。这些抗蚀剂均作为抗蚀剂组合物发挥功能，但是近年来为了应对生产率的提高和新提出的各种工艺，对抗蚀剂组合物越来越要求具有高的功能和新的功能，特别是要求更高敏感度的抗蚀剂组合物，而积极地进行着各种抗蚀剂组合物的开发。现有技术文献专利文献专利文献1 美国专利第3，558，309号说明书
专利文献2 美国专利第4，255，513号说明书专利文献3 日本特开平7-140，658号公报专利文献4 美国专利第5，019，482号说明书专利文献5 日本特开昭62-184，056号公报专利文献6 日本特开昭62-273，259号公报专利文献7 日本特开昭62-286，961号公报专利文献8 日本特开昭62-201，859号公报专利文献9 日本特开2001-233，842号公报专利文献10 日本特开2000-80，068号公报专利文献11 日本特表2004-5；34，797号公报专利文献12 国际专利2007/062963号公报专利文献13 国际专利2008/078678号公报专利文献14 日本特开平11-174464号公报专利文献15 日本特开2001-2^449号公报专利文献16 日本特开2002-341531号公报专利文献17 日本特开平10-198033号公报专利文献18 日本特开2002-236362号公报专利文献19 日本特开2002-249644号公报专利文献20 日本特开2001-261761号公报专利文献21 日本特开2001-302871号公报非专利文献非专利文献 1 European polymer Journal，1970，6，933-943
发明内容
发明所要解决的课题本发明的目的是提供能够发挥作为高敏感度的自由基聚合引发剂的功能的新型肟酯化合物以及使用该化合物的固化性组合物，所述自由基聚合引发剂通过照射能量线、 特别是光可以有效地产生活性自由基，并在短时间内使自由基聚合性化合物发生聚合。本发明的另一目的是提供负型抗蚀剂材料以及使用了该负型抗蚀剂的图像图案形成方法，所述负型抗蚀剂材料的固化速度极快，并且利用能量线可以很好地用于非常鲜明的图案曝光或者直接绘画，此外与基板的密合性非常优异，特别是具有可以很好地用于光致抗蚀剂材料的碱性显影性。解决课题的方法本发明的发明人考虑了上述的各种问题，并为了解决这些问题而反复进行深入研究，结果完成了本发明。即，本发明的一个方式涉及由下述通式(1)表示的化合物。通式(1)[化1]
权利要求
1.一种由下述通式(1)表示的化合物 [化1]
2.根据权利要求1所述的化合物，其特征在于，所述Rki Rw中的至少一个为硝基、或者取代或未取代的酰基。
3 根据权利要求1或2所述的化合物，其特征在于，所述Rki R14中的至少一个为硝基、或下述通式⑶[化3]
4.根据权利要求3所述的化合物，其特征在于，所述R12为硝基或所述通式(3)。
5.一种自由基聚合引发剂(A)，其特征在于，含有权利要求1 4中任一项所述的化合物。
6.一种聚合性组合物，其特征在于，含有权利要求5所述的自由基聚合引发剂㈧和自由基聚合性化合物(B)。
7.根据权利要求6所述的聚合性组合物，其特征在于，还含有敏化剂(C)。
8.根据权利要求6或7所述的聚合性组合物，其特征在于，还含有着色成分(D)。
9.根据权利要求6 8中任一项所述的聚合性组合物，其特征在于，还含有碱可溶性树脂Φ)。
10.一种负型抗蚀剂，其特征在于，含有权利要求9所述的聚合性组合物。
11.一种聚合物的制造方法，其特征在于，对权利要求6 9中任一项所述的聚合性组合物照射能量线而进行聚合。
12.—种图像图案的形成方法，其特征在于，在基材上层叠权利要求10所述的负型抗蚀剂，局部地照射能量线而进行聚合，利用碱性显影液除去未照射的部分。
13.一种图像图案，其特征在于，由权利要求12所述的图像图案的形成方法形成。
全文摘要
本发明的目的是提供能够作为高敏感度的自由基聚合引发剂而发挥功能的新型肟酯化合物以及使用了它的固化性组合物。本发明的另一目的是提供特别是能够很好地用于光致抗蚀剂材料的负型抗蚀剂材料以及使用了该负型抗蚀剂的图像图案形成方法。一种由下述通式(1)表示的自由基聚合引发剂(A)，式中，R1、R2选自烷基、芳基、杂环基等中；R3～R5选自氢原子、烷基等中；R6～R9选自氢原子、烷基、芳基、杂环基等中；R10～R14选自氢原子、氰基、硝基、卤代烷基、亚磺酰基、磺酰基、或酰基等中，R10～R14不全部同时为氢原子。
文档编号C07D209/86GK102459171SQ20108002640
公开日2012年5月16日 申请日期2010年1月27日 优先权日2009年6月17日
发明者和田宗大, 岩田贯, 菅野真树 申请人:东洋油墨Sc控股株式会社