1.一种石墨烯表面选区改性加工方法，其特征在于，所述方法包括：
用激光扫描衬底样片表面的预设区域，以提高所述预设区域覆盖的石墨烯薄膜材料表面的悬挂键数量；
采用原子层沉积方法，在所述衬底样片表面进行薄膜沉积，以在所述预设区域生长目标薄膜。
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述用激光扫描衬底样片表面的预设区域之前，还包括：
设定所述激光的波长、功率和扫描路径。
3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述激光的波长为极紫外150nm至近红外1500nm。
4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述激光为脉冲激光；所述激光的单脉冲宽度为10-8s～10-12s。
5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述激光通过镜组聚焦；所述激光聚焦光斑的直径为0.1μm～5mm。
6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述石墨烯薄膜材料的原子层数为1～50层。
7.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述目标薄膜为高k栅介质；所述高k栅介质的材料具体为：Al2O3、ZrO2、HfO2、HfSiOx、SiO2、TiN、La2O3、LaAlOx或HfLaOx。
8.如权利要求1-7任一所述的方法，其特征在于，所述用激光扫描衬底样片表面的预设区域之前，还包括：
抽取真空，以使所述衬底样片处于真空度为1×105～1×10-9Pa的真空环境中。
9.如权利要求1-7任一所述的方法，其特征在于，所述用激光扫描衬底样片表面的预设区域之前，还包括：
输入气体，以使所述衬底样片处于所述气体氛围中；所述气体具体为以下任意一种或多种气体的混合：
氧气、氢气、氮气、氦气和氩气。
10.一种石墨烯表面选区改性加工装置，其特征在于，所述装置包括：
激光扫描腔体，所述激光扫描腔体内设置有载片平台；所述激光扫描腔体上设置有光学窗口法兰组件和用于取放衬底样片的进样通道；
激光光源和镜组阵列，所述激光光源发出的激光经所述镜组阵列聚焦后，通过所述光学窗口法兰组件，扫描所述载片平台上放置的衬底样片表面的预设区域，以提高所述预设区域覆盖的石墨烯薄膜材料表面的悬挂键数量；
原子层沉积设备腔体，所述原子层沉积设备腔体通过样片传输管道与所述激光扫描腔体连通；其中，当激光扫描后的所述衬底样片经所述样片传输管道进入所述原子层沉积设备腔体后，采用原子层沉积方法，在所述衬底样片表面进行薄膜沉积，以在所述预设区域生长目标薄膜。