基板处理装置及基板处理装置监控方法
【技术领域】
[0001]本发明系关于基板处理装置及基板处理装置监控方法。
【背景技术】
[0002]为制造半导体组件及平板显示设备，执行显影、蚀刻以及清洁等各种制程。此等各种制程系藉助于具有加载互锁腔室、制程腔室等以及向其之间移送基板的机器人之基板处理装置而执行。
[0003]基板处理装置在开始使用后，各组件随着时间的经过而老化。当各组件之老化程度严重时，若置之不理，则基板处理装置可能错误操作或停止操作。
【发明内容】
[0004][欲解决之课题]
[0005]本发明旨在提供一种能够高效地处理基板的基板处理装置及基板处理装置监控方法。
[0006]另外，本发明旨在提供一种能够在归因于装置之老化或破损等而发生操作故障之前感知是否发生问题的基板处理装置及基板处理装置监控方法。
[0007]另外，本发明旨在提供一种能够以标准时间为基础感知是否发生问题的基板处理装置及基板处理装置监控方法。
[0008][解决课题之技术方案]
[0009]根据本发明之一个态样，可提供一种基板处理装置，包括:制程腔室，其对基板进行处理；以及控制部，其监控作为该基板于该制程腔室中处理之时间的处理制程时间，且藉由该处理制程时间之长度变化来监控该制程腔室之操作状态。
[0010]另外，该控制部可利用比较该处理制程时间长度与预先设置的标准时间的方法来监控该制程腔室。
[0011]另外，该标准时间可测定为多次量测该处理制程时间之数据的平均值。
[0012]另外，该标准时间可以设计值来提供。
[0013]另外，该控制部可在该处理制程时间超出设置成包含该标准时间之时段时，判定为该制程腔室有发生异常之可能性。
[0014]另外，该控制部可在该处理制程时间超出设置成包含该标准时间之时段时，判定为该制程腔室有发生异常之可能性，且根据该等资料测定的该时段之范围为该标准时间前后的3 σ范围。
[0015]另外，该控制部可在该处理制程时间超出设置成包含该标准时间之时段时，判定为该制程腔室有发生异常之可能性，且根据该等资料测定的该时段之范围为该标准时间前后的2 σ范围。
[0016]另外，该控制部可在该处理制程时间超出设置成包含该标准时间之时段时，判定为该制程腔室有发生异常之可能性，且根据该等资料测定的该时段之范围为该标准时间前后的1 σ范围。
[0017]另外，该时段之范围可测定为设计值。
[0018]另外，该时段可以该标准时间为基准，左侧与右侧之宽度做不同地设置。
[0019]根据本发明之另一态样，可提供一种基板处理装置，包括:设备前端模块，其供基板搬入；加载互锁腔室，其配置来邻接该设备前端模块以提供该基板临时备用之空间；制程腔室，其对该基板进行处理；传送腔室，其四周配置有该制程腔室以在该制程腔室与该加载互锁腔室之间移送该基板；以及控制部，其监控该基板在该设备前端模块、该加载互锁腔室、该制程腔室或该传送腔室停留的制程时间，藉由该制程时间之长度来感知发生异常之可能性。
[0020]另外，该控制部可利用比较该制程时间长度与预先设置的标准时间的方法来感知发生异常之可能性。
[0021]另外，该标准时间可测定为多次量测该制程时间之数据的平均值。
[0022]另外，该标准时间可以设计值来提供。
[0023]另外，该控制部可在该处理制程时间超出设置成包含该标准时间之时段时，判定为有发生异常之可能性。
[0024]根据本发明之又一态样，可提供一种基板处理装置监控方法，包括:监控步骤，监控基板在腔室中停留的制程时间；比较步骤，比较该制程时间与预先设置的标准时间；判断步骤，若该制程时间超出包含该标准时间之时段范围，则判定为该腔室有发生异常之可能性。
[0025]另外，该标准时间可测定为多次量测该制程时间之数据的平均值。
[0026]另外，该时段可根据该等资料测定为该标准时间前后的3 σ范围。
[0027]另外，该时段可根据该等资料测定为该标准时间前后的2 σ范围。
[0028]另外，该时段可根据该等资料测定为该标准时间前后的1 σ范围。
[0029]另外，该标准时间可以设计值来提供。
[0030][发明效果]
[0031]根据本发明之一个实施例，可提供能够高效地处理基板的基板处理装置及基板处理装置监控方法。
[0032]另外，根据本发明之一个实施例，可提供能够在归因于装置老化或破损等而发生操作故障之前感知是否发生问题的基板处理装置及基板处理装置监控方法。
[0033]另外，根据本发明之一个实施例，可提供能够以标准时间为基础感知是否发生问题的基板处理装置及基板处理装置监控方法。
【附图说明】
[0034]图1为展示本发明之实施例的基板处理装置之平面图。
[0035]图2为展示基板处理装置之控制关系图。
[0036]图3为展示能够在图1之制程模块中提供的制程腔室之图。
[0037]图4为比较基板于基板处理装置中之处理过程中需要的总制程时间之曲线图。
[0038]图5为比较图4之总制程时间中的处理制程时间之曲线图。
[0039]图6为展示藉由制程时间来感知基板处理装置异常的过程之流程图。
[0040]图7为展示另一实施例的制程时间监控方法之图。
[0041]图8为展示处理制程时间之分布的曲线图。
【具体实施方式】
[0042]以下参照附图，更详细地描述本发明之实施例。本发明之实施例可以变更为多种形态，本发明之范围不得解释为限定于以下实施例。该等实施例系提供用于向熟习此项技术者更完全地阐释本发明。因此，附图中之要素的形状出于突出更明确描绘的目的而进行夸示。
[0043]图1为展示本发明之实施例的基板处理装置之平面图。
[0044]如图1所示，基板处理装置⑴具有设备前端模块(equipment front endmodule, EFEM) (20)及制程处理部(30)。设备前端模块(20)与制程处理部(30)向一个方向配置。下面，把设备前端模块(20)与制程处理部(30)排列的方向定义为第一方向(X)，把从上部观察时垂直于第一方向(X)的方向定义为第二方向(Y)。
[0045]设备前端模块(20)具有加载埠(load port, 10)及移送框架(21)。加载埠(10)沿第一方向(11)配置于设备前端模块(20)之前方。加载埠(10)具有多个支撑部出)。各个支撑部(6)沿第二方向(Y)配置成一列，该等支撑部置放有承载装置(4)(例如，小盒、F0UP等)，该等承载装置收纳将提供至制程之基板(W)及制程处理完成之基板(W)。承载装置(4)中收纳有将提供至制程之基板(W)及制程处理完成之基板(W)。移送框架(21)配置于加载端口(10)与制程处理室(30)之间。移送框架(21)于其内部配置有包含向加载埠
(10)与制程处理部(30)之间移送基板(W)之第一移送机器人(25)。第一移送机器人(25)沿着向第二方向⑴配备的移送轨道(27)移动，向承载装置⑷与制程处理室(30)之间移送基板(W)。
[0046]制程处理室(30)包括加载互锁腔室(40)、传送腔室(50)以及制程腔室(60)。
[0047]加载互锁腔室(40)邻接移送框架(21)配置。作为一个示例，加载互锁腔室(40)可配置于传送腔室(50)与设备前端模块(20)之间。加载互锁腔室(40)提供将提供至制程之基板(W)于移送至制程腔室￠0)之前，或完成制程处理之基板(W)于移送至设备前端模块(20)之前备用的空间。
[0048]传送腔室(50)邻接加载互锁腔室(40)配置。传送腔室(50)自上部观察时具有多边形主体。如图1所示，传送腔室(50)自上部观察时具有五边形主体。在主体外侧，力口载互锁腔室(