的中央区域被刻蚀成为可能，即使在第一处理溶液部分四溅到中央区域时。
[0052]根据先前描述的实施例，第一喷嘴391和第二喷嘴392可固定结合至第二臂384。然而，在某些实施例中，多个连接端口 385可提供在第二臂384中。连接端口 385可沿第二臂384的长度方向布置。第一喷嘴391和第二喷嘴392的每一个可结合至相应的连接端口385中的一个。这使得改变第一喷嘴391和第二喷嘴392之间的距离成为可能。
[0053]以下将描述溶液供给单元380的另一例子。图6是示出了图4的溶液供给单元的另一例子的俯视图。参照图6，第二臂384可从第一臂383的对置端部这样延伸:在俯视图中观察时，支撑臂382为“T”形。第二臂384这样被提供:其中央部分被连接至第一臂383的对置端部。第一喷嘴391和第二喷嘴392可分别提供在第二臂384的两个端部。
[0054]根据溶液供给单元380的另一例子，第二臂384可固定结合至第一臂383的对置端部的底表面。图7是示出了图4的溶液供给单元的另一例子的俯视图。参照图7，第二臂384可这样构造:它的位置相对于第一臂383可进行改变。第二臂384可绕结合至第二臂384的第一臂383的端部旋转。因此，可以绕旋转轴386旋转第一臂383，也可以不仅绕旋转轴386而且还绕第一臂383的对置端部旋转第二臂384。
[0055]根据溶液供给单元380的另一个例子，支撑臂382可具有棒状结构，且可具有平行于特定方向的长度方向。图8是示出了图4的溶液供给单元的另一个例子的俯视图。参照图8，第一喷嘴391可固定结合至支撑臂392，但可构造为在处理位置和等待位置之间移动，而第二喷嘴392可固定结合至处理容器的上部，并可以是固定的。在此，第二喷嘴392可构造为允许操作者控制经由第二喷嘴提供的第二处理溶液的流速和喷射角度，这使得将第二处理溶液提供至基板W的中央区域成为可能。
[0056]根据溶液供给单元380的又一个例子，基板处理装置300可包括至少两个喷嘴移动元件381。图9是示出了图4的溶液供给单元的又一个例子的俯视图。例如，如图9所示，基板处理装置300可包括两个喷嘴移动元件381a和381b，喷嘴移动元件381a和381b分别配有第一喷嘴391和第二喷嘴392。喷嘴移动元件381a和381b的每一个可包括支撑臂382，支撑臂382具有棒状结构，且具有平行于特定方向的长度方向。
[0057]根据本发明构思的示例性实施例，在向基板的边缘区域提供刻蚀溶液期间，可将防刻蚀溶液提供至基板的中央区域。因此，可以防止基板的中央区域变干。
[0058]根据本发明构思的其它示例性实施例，可以防止基板的中央区域被从基板的边缘区域溅出的刻蚀溶液刻蚀。
[0059]虽然本发明构思的示例性实施例已被详细示出和描述，但本领域技术人员应当理解的是，在不脱离所附上的权利要求书的精神和范围的情况下，可得到形式和细节上的变型。
【主权项】
1.一种基板处理装置，其特征在于，包括: 处理容器，所述处理容器提供有处理空间； 基板支撑单元，所述基板支撑单元提供在所述处理容器中以支撑基板；和 溶液供给单元，所述溶液供给单元将处理溶液提供至由所述基板支撑单元支撑的基板上; 其中，所述溶液供给单元包括: 刻蚀溶液供给喷嘴，所述刻蚀溶液供给喷嘴将刻蚀溶液提供至由所述基板支撑单元支撑的基板的边缘区域；和 防刻蚀溶液EPS供给喷嘴，所述防刻蚀溶液供给喷嘴将防刻蚀溶液提供至由所述基板支撑单元支撑的基板的中央区域。2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述溶液供给单元进一步包括: 支撑臂，所述支撑臂支撑所述刻蚀溶液供给喷嘴和所述EPS供给喷嘴； 旋转轴，所述旋转轴支撑所述支撑臂；和 驱动单元，所述驱动单元旋转所述旋转轴， 其中，所述支撑臂包括: 结合至所述旋转轴的第一臂，所述第一臂的长度方向平行于特定方向；和 结合至所述第一臂的第二臂，所述第二臂的长度方向在俯视图中不同于所述特定方向， 其中，所述刻蚀溶液供给喷嘴和所述EPS供给喷嘴提供在所述第二臂上。3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，所述第二臂提供为具有多个连接端口，所述多个连接端口允许所述刻蚀溶液供给喷嘴和所述EPS供给喷嘴连接至此，和 所述多个连接端口沿所述第二臂的长度方向排列。4.根据权利要求2或3任一项所述的装置，其特征在于，所述第二臂被提供为相对于所述第一臂是可移动的。5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述溶液供给单元进一步包括: 支撑臂，所述支撑臂支撑所述刻蚀溶液供给喷嘴； 旋转轴，所述旋转轴支撑所述支撑臂；和 驱动单元，所述驱动单元旋转所述旋转轴， 其中，所述EPS供给喷嘴结合至所述处理容器以相对于所述处理容器是固定的。6.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述溶液供给单元进一步包括: 第一支撑臂，所述第一支撑臂支撑所述刻蚀溶液供给喷嘴； 第一旋转轴，所述第一旋转轴支撑所述第一支撑臂； 第一驱动单元，所述第一驱动单元旋转所述第一旋转轴； 第二支撑臂，所述第二支撑臂支撑所述EPS供给喷嘴； 第二旋转轴，所述第二旋转轴支撑所述第二支撑臂；和 第二驱动单元，所述第二驱动单元旋转所述第二旋转轴。7.一种刻蚀基板表面的处理方法，其特征在于，包括:通过刻蚀溶液供给喷嘴将刻蚀溶液提供至基板的边缘区域，以及通过防刻蚀溶液(EPS)供给喷嘴将防刻蚀溶液提供至基板的中央区域。8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，将所述刻蚀溶液和所述防刻蚀溶液同时提供至所述基板。9.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，通过所述EPS供给喷嘴将所述防刻蚀溶液提供至所述基板上，之后，通过所述刻蚀溶液供给喷嘴将所述刻蚀溶液提供至所述基板上， 其中，在提供所述刻蚀溶液的过程中，连续不断地将所述防刻蚀溶液提供至所述基板上。10.根据权利要求7-9任一项所述的方法，其特征在于，所述刻蚀溶液供给喷嘴和所述EPS供给喷嘴均结合至支撑臂。11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，所述刻蚀溶液供给喷嘴和所述EPS供给喷嘴之间的距离大体上等于所述基板的半径。12.根据权利要求7-9任一项所述的方法，其特征在于，所述刻蚀溶液供给喷嘴由第一臂支撑，而所述EPS供给喷嘴由连接至所述第一臂的第二臂支撑，且 所述第二臂构造为相对于所述第一臂是可移动的。
【专利摘要】在根据本发明构思的示例性实施例的装置和方法中，可使用两种或多种处理溶液处理基板。基板处理装置可包括：处理容器，所述处理容器提供有处理空间；基板支撑单元，所述基板支撑单元提供在所述处理容器中以支撑基板；和溶液供给单元，所述溶液供给单元将处理溶液提供至由所述基板支撑单元支撑的基板上。溶液供给单元可包括：刻蚀溶液供给喷嘴，所述刻蚀溶液供给喷嘴将刻蚀溶液提供至由所述基板支撑单元支撑的基板的边缘区域；和防刻蚀溶液(EPS)供给喷嘴，所述防刻蚀溶液供给喷嘴将防刻蚀溶液提供至由所述基板支撑单元支撑的基板的中央区域。因此，可以防止基板的中央区域变干。
【IPC分类】H01L21/306, H01L21/67
【公开号】CN105470123
【申请号】CN201510642420
【发明人】李瑟, 郑煐宪, 崔从洙
【申请人】细美事有限公司
【公开日】2016年4月6日
【申请日】2015年9月30日
【公告号】US20160089686