一种半导体器件的封装结构及其制造方法_2

文档序号:9868159阅读:来源:国知局
更小。芯片载体包括一组相互分离的指状金属结构,指状金属结构的形状可以是规则的或者不规则的几何形状。在该实施例中,电连接结构为一组金属凸块,例如,焊锡球或者铜柱等结构。芯片331和332的电极通过金属凸块34连接至对应的指状金属结构,以使指状金属结构具有相应的电极性。芯片33的数目可以为多个,并且可以安装在指状金属结构的同一表面或者分别安装至指状金属结构的相对的两个表面,例如,芯片331连接至指状金属结构32的下表面,芯片332连接至指状金属结构32的上表面。指状金属结构32—方面给芯片提供电性连接,另一方面也提供对芯片的机械支撑。
[0044]散热片31由具有散热性能的金属构成,例如铜或者铝金属。该组合结构与散热片相互分离,并位于散热片31的上方,并且两者之间的间距D不小于0.2mm。
[0045]具有绝缘性能的塑封材料部分包覆散热片31和指状金属结构32,以及全部包覆芯片331和332和金属凸块34,并填充该组合结构和散热片31之间的间隔空隙,以形成塑封体35,使得散热片31裸露于塑封体35外,以提供散热通道;同时,指状金属结构32裸露于塑封体35外,以提供外部电性连接。指状金属结构32可以沿着塑封体35的一侧边延伸或者沿着多个侧边延伸。散热片的底部和/或侧边可以裸露于塑封体35外,以向外部媒介或者环境散热。
[0046]通过上述依据本发明实施例的半导体器件的封装结构,由于散热片和组合结构之间是分离的,相对于现有技术中散热片和管脚的一体化的结构,避免了大面积的金属框架在封装结构容易产生分层甚至剥离等可靠性问题;并且,散热片可以选择散热性能更佳的金属,同时,同样的封装尺寸下,散热片的面积可以设置的更大,提高了封装结构的散热性能;另一方面,通过具有绝缘性能的塑封材料来填充散热片和组合结构之间的间隙,可以保证散热片和组合结构之间良好的绝缘性能。在与外部散热装置进行连接时,不再需要增加一绝缘结构来将两者进行隔离;再者,散热片和组合结构之间的绝缘隔离,芯片的安装方式和数目可以更加灵活;采用芯片倒装的封装方式,管脚的排列可以更加灵活,封装体积可以更小,封装结构的电学性能和可靠性也更加好。
[0047]参考图4,所示为依据本发明一实施例的半导体器件的封装结构的制造方法,包括以下步骤:
[0048]步骤1:利用模具制造具有导电性能的金属组成的芯片载体;
[0049]该芯片载体用以给芯片提供机械支撑,以及通过该芯片载体的至少一个外延管脚实现与外部电路的电性连接;
[0050]步骤2:将至少一个芯片通过一组电连接结构连接至该芯片载体,以形成一组合结构;
[0051 ]步骤3:取包封模具的上模具和下模具,将散热片放置在所述下模具;
[0052]步骤4:将组合结构放置于散热片上方,并且两者之间的间距不小于0.2mm;
[0053]步骤5:将具有绝缘性能的塑封材料加热至熔融状态,并注入到所述包封模具内,所述上模具冲压所述下模具,使得塑封材料包覆散热片的第一部分,芯片,芯片载体的第一部分和电连接结构,并填充组合结构和散热片之间的间隔空隙,经冷却后形成塑封体;
[0054]所述散热片裸露于所述塑封体外,以提供散热通道;
[0055]所述外延管脚裸露于所述塑封体外,以提供外部电性连接。
[0056]通过上述半导体器件的封装结构的制造方法,散热片和组合结构之间是分离的,相对于现有技术中散热片和管脚的一体化的结构,避免了大面积的金属框架在封装结构容易产生分层甚至剥离等可靠性问题;并且,散热片可以选择散热性能更佳的金属,同时,同样的封装尺寸下,散热片的面积可以设置的更大,提高了封装结构的散热性能;另一方面,通过具有绝缘性能的塑封材料来填充散热片和组合结构之间的间隙,可以保证散热片和组合结构之间良好的绝缘性能。在与外部散热装置进行连接时,不再需要增加一绝缘结构来将两者进行隔离;再者,散热片和组合结构之间的绝缘隔离,芯片的安装方式和数目可以更加灵活。
[0057]依据上述本发明实施例的半导体器件的封装结构的制造方法中,电连接结构可以为金属引线,用以将芯片的电极引至对应的外延管脚,实现芯片的正装安装方式。
[0058]依据上述本发明实施例的半导体器件的封装结构的制造方法中,电连接结构可以为金属凸块,芯片通过所述金属凸块倒装连接至芯片载体,实现芯片的倒装安装方式。其中,芯片载体可以包括一组指状金属结构,芯片的电极通过所述金属凸块连接至对应的所述指状金属结构。
[0059]依照本发明的实施例如上文所述,这些实施例并没有详尽叙述所有的细节,也不限制该发明仅为所述的具体实施例。显然,根据以上描述,可作很多的修改和变化。本说明书选取并具体描述这些实施例,是为了更好地解释本发明的原理和实际应用,从而使所属技术领域技术人员能很好地利用本发明以及在本发明基础上的修改使用。本发明仅受权利要求书及其全部范围和等效物的限制。
【主权项】
1.一种半导体器件的封装结构,其特征在于,包括:散热片,组合结构和塑封体;其中, 所述散热片由具有散热性能的金属构成; 所述组合结构包括至少一个芯片,芯片载体和电连接结构; 所述芯片载体由具有导电性能的金属组成,以给所述芯片提供机械支撑;以及所述芯片的电极通过所述电连接结构连接至所述芯片载体,以通过所述芯片载体的至少一个外延管脚实现与外部电路的电性连接; 所述组合结构位于所述散热片的上方,并且两者之间的间距不小于0.2mm; 具有绝缘性能的塑封材料包覆所述散热片的第一部分,所述芯片,所述芯片载体的第一部分和所述电连接结构,并填充所述组合结构和所述散热片之间的间隔空隙,以形成所述塑封体; 所述散热片裸露于所述塑封体外,以提供散热通道; 所述外延管脚裸露于所述塑封体外,以提供外部电性连接。2.根据权利要求1所述的半导体器件的封装结构,其特征在于,所述电连接结构为金属引线,用以将所述芯片的电极引至对应所述外延管脚。3.根据权利要求2所述的半导体器件的封装结构,其特征在于,所述芯片载体还包括载片台,用以承载所述芯片;所述外延管脚与所述载片台相连接或者断开。4.根据权利要求3所述的半导体器件的封装结构,其特征在于,还包括一粘胶层;所述粘胶层的第一表面连接至所述芯片的下表面,相对的另一表面连接至所述载片台。5.根据权利要求1所述的半导体器件的封装结构,其特征在于,所述电连接结构为金属凸块,所述芯片通过所述金属凸块倒装连接至所述芯片载体。6.根据权利要求5所述的半导体器件的封装结构,其特征在于,所述芯片载体包括一组指状金属结构,所述芯片的电极通过所述金属凸块连接至对应的所述指状金属结构。7.根据权利要求6所述的半导体器件的封装结构,其特征在于,所述芯片位于所述指状金属结构的正面或者背面。8.—种制造如权利要求1所述的半导体器件的封装结构的制造方法,其特征在于,包括以下步骤: 利用模具制造具有导电性能的金属组成的芯片载体,所述芯片载体用以给所述芯片提供机械支撑,以及通过所述芯片载体的至少一个外延管脚实现与外部电路的电性连接;将至少一个芯片通过一组电连接结构连接至所述芯片载体,以形成一组合结构; 取包封模具的上模具和下模具,将散热片放置在所述下模具; 将所述组合结构放置于所述散热片上方,并且两者之间的间距不小于0.2mm; 将具有绝缘性能的塑封材料加热至熔融状态,并注入到所述包封模具内,所述上模具冲压所述下模具,使得所述塑封材料包覆所述散热片的第一部分,所述芯片,所述芯片载体的第一部分和所述电连接结构,并填充所述组合结构和所述散热片之间的间隔空隙,经冷却后形成所述塑封体; 所述散热片裸露于所述塑封体外,以提供散热通道; 所述外延管脚裸露于所述塑封体外,以提供外部电性连接。9.根据权利要求8所述的半导体器件的封装结构的制造方法,其特征在于,所述电连接结构为金属引线,用以将所述芯片的电极引至对应所述外延管脚。10.根据权利要求8所述的半导体器件的封装结构的制造方法,其特征在于,所述电连接结构为金属凸块,所述芯片通过所述金属凸块倒装连接至所述芯片载体。11.根据权利要求10所述的半导体器件的封装结构的制造方法,其特征在于,所述芯片载体包括一组指状金属结构,所述芯片的电极通过所述金属凸块连接至对应的所述指状金属结构。
【专利摘要】本发明公开了一种半导体器件的封装结构及其制造方法。半导体器件的封装结构包括散热片,由芯片,芯片载体和电连接结构组成的组合结构和塑封体;芯片的电极通过电连接结构连接至芯片载体,以通过芯片载体的至少一个外延管脚实现与外部电路的电性连接;组合结构位于散热片的上方,并且两者之间的间距不小于0.2mm;具有绝缘性能的塑封材料包覆所述散热片的第一部分,所述芯片,所述芯片载体的第一部分和所述电连接结构,并填充所述组合结构和所述散热片之间的间隔空隙,以形成所述塑封体;散热片和外延管脚裸露于塑封体。
【IPC分类】H01L23/14, H01L23/31, H01L23/367, H01L21/56
【公开号】CN105632947
【申请号】CN201511007961
【发明人】尤文胜
【申请人】合肥祖安投资合伙企业(有限合伙)
【公开日】2016年6月1日
【申请日】2015年12月24日
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