专利名称：硅氧烷组合物及其在控制印刷或模塑图案释放或转印中的用途及其转印方法
技术领域：
本发明涉及硅氧烷组合物，其可用于控制当含组合物的双层或多层结构体作为独立层和夹在其间的不同材料的图案分离时发生释放处的界面。本发明进一步涉及利用这些组合物控制在基片上沉积的图案的转印或释放的方法。
在许多构图方法中，在特定界面处的控制释放是所需的，以便可控制在基片内或基片上生产的图案的类型与位置。应用实例包括大多数软平版印刷法以制备微流体器件，其中一旦固化，聚二甲基硅氧烷必须在预定的界面处释放，以便可控制微通道的形状、尺寸和位置。
William R Childs和Ralph G.Nuzzo在Journal of the AmericanChemical Society，124(45)，pp.13583-13596(2002)中，在标题为“Decal transfer micro lithographyA new soft lithographicpattering method”的文章中公开了Decal TransferMicroprinting(印花釉法转印微印刷)法。在该文章中，Childs和Nuzzo公开了在衬里层上形成的聚二甲基硅氧烷图案，且该图案最终通过工程粘合与释放永久地转印到基片上。通过加热和/或紫外臭氧处理，来实现这种粘合与释放。紫外臭氧处理的性质使得在这一方法中环境暴露条件是重要的变量。这一方法的基本性质是在特定界面处控制的释放。希望具有不需要热或紫外臭氧处理来进行在特定界面处释放的体系。
Weng Sing Beh、In Tae Kim、Dong Qin、Younan Xia和GeorgeM.Whitesides在标题为“Formation of patterned microstructure ofconducting polymers by soft lithography and applications inmicroelectronic device fabrication”的文章，AdvancedMaterials，11(12)，pp.1038-1041(1999)中公开了构图传导聚合物聚苯胺而使用的毛细微接触印刷。该文章公开了通过在主板上模塑，在聚二甲基硅氧烷表面上形成的浮雕图案，并在基片上放置聚二甲基硅氧烷，形成通道网络。当将NMP中的聚苯胺翠绿亚胺基材置于通道的开放端时，溶液通过毛细力引入到通道内。一旦溶剂蒸发、干燥和除去聚二甲基硅氧烷模具，则聚苯胺翠绿亚胺通过用HCl掺杂转化成传导性聚苯胺翠绿亚胺盐。在这一方法中，聚二甲基硅氧烷从聚苯胺表面和基片表面上释放的给定性质使得可在基片上制备电路。然而，诸如该方法之类的方法不能自由地在聚二甲基硅氧烷和聚苯胺的界面处释放以及在聚苯胺与基片之间的界面处释放容易地转换。
Deng等人在标题为“Prototyping of masks，masters，andstamps/molds for soft lithography using an office printer andphotographic reduction”的文章，Analytical Chemistry，72(14)，pp.3176-3180(2000)中公开了一种释放方法。该方法公开了使用低成本的办公激光打印机结合CAD软件在纸张上印刷图案。使用通过在35mm膜或微胶片上使图案成像，从而光致还原图案，以获得主板，来模塑聚二甲基硅氧烷。聚二甲基硅氧烷从膜上和从显影图像中剥离，复制该图案，并用作用于软平版印刷法的印模和模具。
Bottari在美国专利No.6280552中公开了印刷的边缘电极控制释放到触摸显示屏面板上的用途。在这一方法中，在印花纸张上印刷电极并用罩面层覆盖。除去印花纸张，并将电极转印到触摸显示屏上。
在所有这些方法中，在通过材料组成预定的一个特定界面处发生释放。一些释放机理必须通过暴露于热或紫外光下而引发，它们中的一些依赖于根本不同材料的不同表面性能。这些方法的相反方法，例如，从聚苯胺/基片界面处释放，以便在基片顶部在模塑聚合物内提供嵌入的传导路径，而不是从聚二甲基硅氧烷/聚苯胺界面处释放以将它沉积在基片表面上，将要求材料的急剧变化，和因此其它性能的变化。
因此，当模塑聚合物和基片隔开时，需要更好、更方便和可逆地控制在基片和在基片顶部模塑的聚合物之间放置的图案的释放或转印。希望在基片和模塑聚合物的机械、光学、电学和其它性能变化最小的情况下，实现这种控制。
本发明涉及硅氧烷组合物和控制印刷或模塑图案转印的方法。当第三种材料的图案生成并置于这种固化的硅氧烷组合物之间时，仅仅在图案和这对组合物中的一种之间的界面上发生界面释放，当这对组合物被隔开时。这使得可清洁地控制图案的表面特征是否高保真地复制，或者图案清洁地从一种组合物的表面转印到另一种组合物上。熟悉电子、微流体和光学器件制备方法的那些技术人员会意识到，通过该组合物能够实现的这种方法的实用性，以便经济地制备功能电子和光学电路，嵌入的三维结构、二和三维通道网络等等。该组合物主要是硅氧烷基组合物，且当其它性能的变化需要最小化时，特别如此。但有机聚合物也可包括在其内。
因此，本发明涉及硅氧烷涂料组合物，其包含(I)含通过下述方法获得的硅氧烷组合物(X)的第一涂布层，所述方法包括使下述物质反应(A)100重量份每一分子平均含有大于两个链烯基且具有小于1.5mol％与硅键合的羟基的至少一种有机硅氧烷化合物，其中该有机硅氧烷化合物选自(i)含R23SiO1/2单元和SiO4/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R23SiO1/2单元与SiO4/2单元的摩尔比为0.05-4.0，(ii)含R23SiO1/2单元和R1SiO3/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R23SiO1/2单元与R1SiO3/2单元的摩尔比为0.05-3.0，(iii)含R23SiO1/2单元、R1SiO3/2单元和SiO4/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R23SiO1/2单元与R1SiO3/2单元的摩尔比为0.05-3.0，以及R23SiO1/2单元和R1SiO3/2单元的结合与SiO4/2单元的摩尔比为4-99，(iv)含R23SiO1/2单元、R1SiO3/2单元和R22SiO2/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R23SiO1/2单元与R1SiO3/2单元的摩尔比为0.05-3.0，以及R23SiO1/2单元和R1SiO3/2单元的结合与R22SiO2/2单元的摩尔比为0.5-99，(v)含R22SiO2/2单元和R1SiO3/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R22SiO2/2单元与R1SiO3/2单元的摩尔比为0.2-4.0，(vi)含R22SiO2/2单元和R23SiO1/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R22SiO2/2单元与R23SiO1/2单元的摩尔比为0-15,000，和(vii)含R22SiO2/2单元、R23SiO1/2单元和SiO2/2单元的有机硅氧烷化合物，其中SiO2/2单元与结合的R22SiO2/2单元和R23SiO1/2单元的摩尔比为0.005-0.125，其中R1是不含脂族不饱和的烃基，和R2选自R1和链烯基；(B)用量足以交联(A)的至少一种有机氢硅化合物，所述有机氢硅化合物选自(i)具有化学式HR32SiR4SiR32H的有机氢硅烷化合物，其中R3是不含脂族不饱和的烃基，和R4是二价烃基，和(ii)具有化学式(HR3aSiO(3-a)/2)b(R1cSiO(4-c)/2)d的有机氢硅氧烷化合物，其中R1和R3如上所定义，1≤a≤2，0≤c≤3，b+d的数值提供134-75,000的分子量，且条件是每一分子存在至少两个SiH基；(C)催化量的氢化硅烷化催化剂；和任选地(D)无机填料；和(II)与涂布层(I)接触的第二涂布层，该第二涂布层包括通过下述方法获得的硅氧烷组合物(Y)，所述方法包括使下述物质反应(A′)100重量份每一分子平均含有大于两个链烯基且具有小于1.5mol％与硅键合的羟基的至少一种有机硅氧烷化合物，其中该有机聚硅氧烷化合物选自(i)含R22SiO2/2单元和R23SiO1/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R22SiO2/2单元与R23SiO1/2单元的摩尔比为0-15,000，和(ii)含R23SiO1/2单元和SiO4/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R23SiO1/2单元与SiO4/2单元的摩尔比为0.05-4.0，其中R2选自不含脂族不饱和的烃基和链烯基；(B′)用量足以交联(A′)的至少一种有机氢硅化合物，所述有机氢硅化合物选自(i)具有化学式HR32SiR4SiR32H的有机氢硅烷化合物，和
(ii)具有化学式(HR3aSiO(3-a)/2)b(R1cSiO(4-c)/2)d的有机氢硅氧烷化合物，其中R1和R3各自独立地为不含脂族不饱和的烃基，R4是二价烃基，1≤a≤2，0≤c≤3，b+d的数值提供134-75,000的分子量，且条件是每一分子存在至少两个SiH基；(C′)催化量的氢化硅烷化催化剂；和任选地(D′)无机填料，条件是，R22SiO2/2单元与所有其它单元的结合的摩尔比在组合物(Y)中高于在组合物(X)中，和组合物(Y)的表面能低于组合物(X)。
此处所使用的“反应”是指在室温(20-25℃)下，分别混合组分(A)-(C)和(A′)-(C′)以及任何任选的组分，或者加热含组分(A′)-(C′)和任何任选的组分的混合物到高于室温的温度，例如最多200℃的温度。可通过分别混合(或机械搅拌)组分(A)-(C)和(A′)-(C′)以及任何任选的组分，形成均匀的混合物，从而制备组合物(X)和(Y)。这可通过本领域已知的任何常规的混合方法来实现，所述混合方法可例举刮刀、机械搅拌器、含有挡板和/或叶片的在线混合体系、动力在线混合器，均化器、鼓式混合器、三辊研磨机、sigma叶片式混合器、面包用面团混合器和两辊研磨机。认为混合顺序不是关键的。可预混组分(A)-(C)和(A′)-(C′)以及任何任选的组分并施涂，或者若消粘时间短的话，则在施涂过程中混合。
在以上的组合物(X)和(Y)中，不含脂族不饱和的烃基可例举烷基，例如甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、辛基、癸基、十二烷基，和芳基，例如苯基、萘基、苄基、甲苯基、二甲苯基、联苯基、甲基苯基、2-苯乙基、2-苯基-2-甲基乙基、氯代苯基、溴代苯基和氟代苯基。不含脂族不饱和的烃基典型地为甲基。在以上的组合物(X)和(Y)中的链烯基可例举乙烯基、烯丙基、丁烯基、戊烯基、己烯基和癸烯基。链烯基典型地为乙烯基。在以上的组合物(X)和(Y)中的二价烃基例举选自-(CH2)x-(其中x的数值为2-10)、-CH2CH(CH3)-、-CH2CH(CH3)CH2-和-CH2CH2CH(CH2CH3)CH2CH2CH2-中的亚烷基。
组分(A)典型地可例举含ViMe2SiO1/2单元和PhSiO3/2单元的有机硅氧烷化合物，其中ViMe2SiO1/2单元与PhSiO3/2单元的摩尔比为0.05-3.0。组分(A)可例举具有化学式(ViMe2SiO1/2)25(PhSiO3/2)75的有机硅氧烷。
组分(B)典型地可例举具有化学式HMe2Si-Ph-SiMe2H的有机氢硅烷化合物。
组分(A′)典型地可例举含(ViMe2SiO1/2)单元、(Me3SiO1/2)单元、(Me2SiO2/2)单元和(SiO2)单元的有机硅氧烷化合物，其中(ViMe2SiO1/2)单元+(Me3SiO1/2)单元与(Me2SiO2/2)单元之比为1/10000-1/5，和(Me2SiO2/2)单元与(SiO2)单元之比为200/1-1/4。组分(A′)可例举具有化学式(ViMe2SiO1/2)2(Me3SiO1/2)15(Me2SiO2/2)81(SiO2)22的有机硅氧烷化合物。
组分(B′)典型地可例举具有化学式Me3SiO(Me2SiO)x(MeHSiO)ySiMe3的有机氢硅氧烷化合物，其中x+y的数值提供134-75,000的分子量，且每一分子存在至少两个SiH基。组分(B′)可例举具有化学式Me3SiO(Me2SiO)3(MeHSiO)5SiMe3的有机硅氧烷化合物。
组分(C)和(C′)氢化硅烷化催化剂可例举任何含金属的催化剂，所述催化剂促进组分(B)和(B′)中各自与硅键合的氢原子同组分(A)和(A′)中各自与硅键合的链烯基反应。金属可例举钌、铑、钯、锇、铱或铂。
含金属的催化剂典型地为含铂的催化剂，这是因为它们最广泛使用且可获得，且因为对于本发明的组合物来说，在改进反应速度方面它们提供更加有利的效果。含铂的催化剂可以是铂金属的化合物或络合物。
在本发明的组合物中，一类典型的含铂的催化剂是当氯铂酸与脂族不饱和的有机硅化合物例如二乙烯基四甲基二硅氧烷反应时获得的组合物，这是因为它容易分散在有机硅体系中。
优选地，组分(C)和(C′)选自氯铂酸、醇改性的氯铂酸、氯铂酸的烯烃络合物、氯铂酸与二乙烯基四甲基二硅氧烷的络合物、吸附在碳载体上的铂微粒、承载在金属氧化物载体上的铂，例如Pt(Al2O3)、铂黑、乙酰丙酮酸铂、(二乙烯基四甲基二硅氧烷)铂、卤化亚铂(可例举PtCl2和PtCl4)、卤化亚铂与不饱和化合物(可例举乙烯、丙烯和有机乙烯基硅氧烷)的络合物、苯乙烯六甲基二铂和RhCl3(Bu2S)3。
所使用的氢化硅烷化催化剂的用量没有被较窄地限制，只要在室温下，或者在高于室温的温度下，存在促进组分(A)和(B)之间，和组分(A′)和(B′)之间反应的足够用量即可。这一催化剂的确切的必须用量取决于所使用的特定催化剂，且不容易预测。然而，对于含铂的催化剂来说，相对于每100万重量份组分(A)+(B)或者组分(A′)+(B′)，用量可低至1重量份铂。相对于每100万重量份组分(A)+(B)或(A′)+(B′)，可添加用量为10-120重量份的催化剂，但相对于每100万重量份组分(A)+(B)或者组分(A′)+(B′)，典型地添加10-60重量份的用量。
组分(D)和(D′)无机填料是可加入到组合物(X)和/或(Y)中的任选组分。无机填料例举中空微球、煅制氧化硅、沉淀氧化硅、硅酸酐、水合硅酸、炭黑、粉碎石英、碳酸钙、碳酸镁、硅藻土、硅灰石、煅烧粘土、粘土、滑石、高岭土、氧化钛、膨润土、氧化铁、氧化锌、玻璃球、玻璃珠、云母、玻璃粉末、玻璃球、煤灰、丙烯酸树脂粉末、酚醛树脂粉末、陶瓷粉末、沸石、板岩粉末、有机纤维和无机纤维。相对于每100份组分(A)，无机填料典型地为5-30。
本发明还涉及制品的制备方法，该方法包括下述步骤(I)施加硅氧烷组合物(Y)到基片上，形成1-500微米厚的涂层；(II)固化步骤(I)的硅氧烷组合物；(III)在步骤(II)的产物之上形成图案；(IV)在步骤(III)的图案上施加硅氧烷组合物(X)；(V)固化硅氧烷组合物(X)，条件是，R22SiO2/2单元与所有其它单元的结合的摩尔比在硅氧烷组合物(Y)中高于在硅氧烷组合物(X)中，和固化的组合物(Y)的表面能低于固化的硅氧烷组合物(X)；和(VI)从基片上分离步骤(V)的固化的硅氧烷组合物(X)。
一旦分离，则图案将被转印并嵌入在固化的组合物(X)内。两种硅氧烷组合物之间和硅氧烷组合物(Y)与步骤(III)的图案之间的分离是清洁的。
在上述方法中，组合物(X)和(Y)如上所述。典型地通过将组合物暴露于范围为25-150℃，和更典型地60-100℃的温度下来实现在上述方法中硅氧烷组合物的固化。施加硅氧烷组合物的方法对本发明而言不是关键的，可以是施加液体涂层到基片上的本领域已知的任何方法。可通过诸如浸涂、喷涂、擦拭、刷涂、挤出和共挤出之类的方法，施加在上述方法中的硅氧烷组合物。硅氧烷组合物施加到其上的基片可以是任何固体基片，例如玻璃、金属或塑料。
当需要复制图案的表面轮廓且希望最小化或没有将图案转印到模塑层内时，可翻转该方法。在这一情况下，硅氧烷组合物(X)用作涂层，和硅氧烷组合物(Y)是在涂层顶部使用的模塑组合物。因此，本发明还涉及制备制品的方法，该方法包括下述步骤(I)施加硅氧烷组合物(X)到基片上，形成1-500微米厚的涂层；其中通过下述方法获得硅氧烷组合物(X)，所述方法包括使下述物质反应(A)100重量份每一分子平均含有大于两个链烯基且具有小于1.5mol％与硅键合的羟基的至少一种有机硅氧烷化合物，其中该有机聚硅氧烷化合物选自(i)含R23SiO1/2单元和SiO4/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R23SiO1/2单元与SiO4/2单元的摩尔比为0.05-4.0，(ii)含R23SiO1/2单元和R1SiO3/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R23SiO1/2单元与R1SiO3/2单元的摩尔比为0.05-3.0，(iii)含R23SiO1/2单元、R1SiO3/2单元和SiO4/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R23SiO1/2单元与R1SiO3/2单元的摩尔比为0.05-3.0，以及R23SiO1/2单元和R1SiO3/2单元的结合与SiO4/2单元的摩尔比为4-99，(iv)含R23SiO1/2单元、R1SiO3/2单元和R22SiO2/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R23SiO1/2单元与R1SiO3/2单元的摩尔比为0.05-3.0，以及R23SiO1/2单元和R1SiO3/2元的结合与R22SiO2/2单元的摩尔比为0.5-99，
(v)含R22SiO2/2单元和R1SiO3/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R22SiO2/2单元与R1SiO3/2单元的摩尔比为0.2-4.0，(vi)含R22SiO2/2单元和R23SiO1/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R22SiO2/2单元与R23SiO1/2单元的摩尔比为0-15,000，和(vii)含R22SiO2/2单元、R23SiO1/2单元和SiO2/2单元的有机硅氧烷化合物，其中SiO2/2单元与结合的R22SiO2/2单元和R23SiO1/2单元的摩尔比为0.005-0.125，其中R1是不含脂族不饱和的烃基，和R2选自R1和链烯基；(B)用量足以交联(A)的至少一种有机氢硅化合物，所述有机氢硅化合物选自(i)具有化学式HR32SiR4SiR32H的有机氢硅烷化合物，其中R3是不含脂族不饱和的烃基，和R4是二价烃基，和(ii)具有化学式(HR3aSiO(3-a)/2)b(R1cSiO(4-c)/2)d的有机氢硅氧烷化合物，其中R1和R3如上所定义，1≤a≤2，0≤c≤3，b+d的数值提供134-75,000的分子量，且条件是每一分子存在至少两个SiH基；(C)催化量的氢化硅烷化催化剂；和任选地(D)无机填料；和(II)固化硅氧烷组合物(X)；(III)在步骤(II)的产物顶部形成图案；(IV)在步骤(III)的图案上施加硅氧烷组合物(Y)，其中通过下述方法获得硅氧烷组合物(Y)，所述方法包括使下述物质反应(A′)100重量份每一分子平均含有大于两个链烯基且具有小于1.5mol％与硅键合的羟基的至少一种有机硅氧烷化合物，其中该有机聚硅氧烷化合物选自(i)含R22SiO2/2单元和R23SiO1/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R22SiO2/2单元与R23SiO1/2单元的摩尔比为0-15,000和(ii)含R23SiO1/2单元和SiO4/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R23SiO1/2单元与SiO4/2单元的摩尔比为0.05-4.0，其中R2选自不含脂族不饱和的烃基和链烯基；
(B′)用量足以交联(A′)的至少一种有机氢硅化合物，所述有机氢硅化合物选自(i)具有化学式HR32SiR4SiR32H的有机氢硅烷化合物，和(ii)具有化学式(HR3aSiO(3-a)/2)b(R1cSiO(4-c)/2)d的有机氢硅氧烷化合物，其中R1和R3各自独立地为不含脂族不饱和的烃基，R4是二价烃基，1≤a≤2，0≤c≤3，b+d的数值提供134-75,000的分子量，且条件是每一分子存在至少两个SiH基；(C′)催化量的氢化硅烷化催化剂；和任选地(D′)无机填料，(V)固化硅氧烷组合物(Y)，条件是，R22SiO2/2单元与所有其它单元的结合的摩尔比在硅氧烷组合物(X)中高于在硅氧烷组合物(Y)中，和固化的组合物(X)的表面能低于固化的硅氧烷组合物(Y)；和(VI)从基片上分离步骤(V)的固化的硅氧烷组合物(Y)。
翻转该方法的能力来自于两种硅氧烷组合物之间的最小组成差，和采用这些组合物可获得的宽范围的机械性能。对于大多数组合物来说，对它们合适地行驶功能的唯一要求是相对于另一种组合物，在一种组合物中较高的R22SiO2/2单元，以便固化的组合物之一的表面能低于另一种。
同样如下所述重复该方法，制备三维嵌入结构。因此，本发明还涉及制备制品的方法，该方法包括下述步骤(I)施加硅氧烷组合物(Y)到基片上，形成1-500微米厚的涂层；(II)固化步骤(I)的硅氧烷组合物；(III)在步骤(II)的产物之上形成图案；(IV)将图案嵌入在其内的层置于该层顶部，所述层与基片成一条直线但不与基片接触；(V)在基底表面上或者在该层的表面上通过毛细流动施加硅氧烷组合物(X)；(VI)固化硅氧烷组合物(X)；和(VII)从基片上分离步骤(VI)的固化的硅氧烷组合物(X)。硅氧烷组合物(X)和(Y)，硅氧烷组合物的固化，施加硅氧烷组合物的方法和基片全部如上所定义。
附1是在用实施例1中规定的混合物涂布的PET膜上印刷的炭黑油墨图案的光学显微图像。
图2是嵌入在固化的硅氧烷组合物B内的如
图1所示的印刷图案的光学显微图像。
图3是在PET膜上印刷的炭黑油墨图案的SEM图像，其中点的尺寸为直径约5微米。
图4是在与图3一样的确切位置处，在从印刷的图案中分离之后，固化的硅氧烷组合物A的表面的SEM图像。
图5是在固化的硅氧烷组合物B内嵌入的图案的图像。
图6是在固化的硅氧烷组合物B内嵌入的图案的截面的光学显微图像。
图7是在固化的硅氧烷组合物B内嵌入的图案的截面的SEM图像。
实施例使用VCA2500测角器，测量水接触角和表面能。通过在样品上滴落每一液体3滴，并测量与涂层的切线角，从而测量水和二碘甲烷的接触角。获得平均和标准偏差。通过几何平均模型计算分散和极性表面能。
实施例1用含有24重量份含Me3SiO1/2单元、ViMe2SiO1/2单元和SiO2单元的有机硅氧烷化合物(其中Vi表示乙烯基，和Me表示甲基，相对于每摩尔SiO2单元，Me3SiO1/2+ViMe2SiO1/2单元的摩尔比为约0.07mol，和其中该有机硅氧烷化合物含有1.75-2.3wt％乙烯基)和76重量份液体硅橡胶组合物的硅氧烷组合物(下文表示为硅氧烷组合物A)来涂布PET透明膜，其中所述液体硅橡胶组合物含有88重量份含(ViMe2SiO1/2)2(Me3SiO1/2)15(Me2SiO2/2)81(SiO2)22单元的有机硅氧烷化合物和6重量份具有化学式Me3SiO(Me2SiO)3(MeHSiO)5SiMe3的有机氢硅氧烷化合物的混合物。通过手工操作的具有叶片的辊涂机，来施加涂层。施加到刀片上的压力控制涂层的厚度，并调节压力，以便获得2微米厚度的涂层。在125℃下固化涂层2小时，并在使用之前冷却到室温。这一涂层改变PET膜的表面能从29.2到14.0dyne/cm，正如表1所示。
通过激光打印机，在涂布的PET膜上印刷炭黑油墨点图案，正如图1在涂布的PET膜上图案的光学显微图像所示。在该图像中，点的直径为约20微米。通过硅氧烷密封剂，将1英寸高的Teflon棒胶粘在印刷图案周围的四侧上，形成顶部朝空气开放的模具。在室温下静置模具，并在80℃下加热过夜，以固化该硅氧烷密封剂。
通过混合含单元(PhSiO3/2)0.75和(ViMe2SiO1/2)0.25的有机硅氧烷化合物与具有化学式HMe2Si-Ph-SiMe2H的有机硅氧烷化合物，以便SiH/SiVi之比为1.1/1，从而制备硅氧烷组合物(下文称为硅氧烷组合物B)。然后向这一混合物中添加以1000ppm的铂浓度溶解在甲苯内的含铂-(1-乙炔基环己-1-醇)-四甲基二乙烯基二硅氧烷络合物的催化剂。以每100份上述混合物计，以0.5份催化剂的重量比添加该催化剂。然后通过Teflon棒，将硅氧烷组合物B倾倒在印刷的图案上，并在室温下静置过夜以固化。然后在60℃下加热在其上涂布有硅氧烷组合物B的模具2小时，以便完全固化。固化的硅氧烷组合物的表面能为22dyne/cm。
在固化之后，冷却模具到室温，并从模具中剥离含有作为顶层的固化硅氧烷组合物B和作为底层的硅氧烷组合物A的板。正如图2所示，印刷的图案清洁地从涂布的PET膜的表面转印到硅氧烷板上。
实施例2重复实施例1，所不同的是在PET膜上组合物A的涂层厚度从2微米增加到约20微米。可看出，由于这一较厚的涂层，表面能从29.2变化到15.5dyne/cm。随后遵照与实施例1所述相同的工序，同样观察到印刷图案的清洁转印。
对比例1通过激光打印机，在未涂布的PET透明膜上印刷炭黑油墨点图案，正如图3所示。制备模具，以便与实施例1中所使用的模具类似，图案被Teflon棒围绕且类似地固化该模具。将硅氧烷组合物A倾倒在模具内的图案表面上。然后在60℃下固化硅氧烷组合物A2小时。硅氧烷组合物A的表面能低于PET基片。在固化之后，冷却模具到室温，和从模具上剥离固化的硅氧烷组合物A。印刷图案的表面形态特征完全且清洁地复制到固化的硅氧烷组合物A的底部表面上。没有观察到油墨转印。图4是在与图3完全一样的位置处在固化的硅氧烷组合物A的表面上复制的图案的光学显微图像。
实施例3所采用的工序与组合物与实施例1相同，所不同的是施加到PET透明膜上的涂层的组成。在这一实施例中，涂料组合物是50重量份的(47.25重量份含(ViMe2SiO1/2)4(Me3SiO1/2)39(SiO2)57单元的有机硅氧烷化合物和3.72重量份含(ViMe2SiO1/2)2(Me2SiO2/2)740单元的有机硅氧烷化合物)的混合物和50重量份含(ViMe2SiO1/2)2(Me2SiO2/2)140单元的有机硅氧烷化合物的混合物(下文称为硅氧烷组合物C)。固化的涂层使PET膜的表面能从29.2变化到15.1dyne/cm。在PET膜上具有这一涂层的情况下，同样观察到印刷的炭黑油墨图案清洁地转印到固化的组合物B内。
实施例4代替使用实施例3中所述的50/50混合物作为涂层，将100重量份的(47.25重量份含(ViMe2SiO1/2)4(Me3SiO1/2)39(SiO2)57单元的有机硅氧烷化合物和3.72重量份含(ViMe2SiO1/2)2(Me2SiO2/2)740单元的有机硅氧烷化合物)的混合物(硅氧烷组合物D)用作在透明PET膜上的涂层。根据表1看出，固化涂层的表面能为20.4dyne/cm，这比实施例3中的混合物高得多。这一涂层不适合于将印刷的图案转印或嵌入在硅氧烷组合物B内。
实施例5组合物与工序同实施例1相同。代替炭黑油墨点图案，将与RFID天线的特定设计相同的炭黑油墨图案印刷在涂布的PET膜上。这些图案清洁地转印到固化的硅氧烷组合物B内，图5。
嵌入图案的截面的精密检验表明，通过从油墨图案和涂布的PET之间的界面处控制释放，图案被转印到硅氧烷组合物内。在图6，嵌入图案的截面的光学显微图像中，看到油墨图案残留在硅氧烷组合物B上。这还通过SEM得到证实。具有图案的硅氧烷组合物B本身被嵌入在环氧树脂内并固化。对截面切片并在SEM下观察。再次表明油墨图案的位置在硅氧烷组合物的表面上，正如图7所示。
表1具有和不具有涂层的PET基片的表面能
权利要求
1.一种硅氧烷涂料组合物，其包含(I)含通过下述方法获得的硅氧烷组合物(X)的第一涂布层，所述方法包括使下述物质反应(A)100重量份每一分子平均含有大于两个链烯基且具有小于1.5mol％与硅键合的羟基的至少一种有机硅氧烷化合物，其中该有机硅氧烷化合物选自(i)含R23SiO1/2单元和SiO4/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R23SiO1/2单元与SiO4/2单元的摩尔比为0.05-4.0，(ii)含R23SiO1/2单元和R1SiO3/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R23SiO1/2单元与R1SiO3/2单元的摩尔比为0.05-3.0，(iii)含R23SiO1/2单元、R1SiO3/2单元和SiO4/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R23SiO1/2单元与R1SiO3/2单元的摩尔比为0.05-3.0，以及R23SiO1/2单元和R1SiO3/2单元的结合与SiO4/2单元的摩尔比为4-99，(iv)含R23SiO1/2单元、R1SiO3/2单元和R22SiO2/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R23SiO1/2单元与R1SiO3/2单元的摩尔比为0.05-3.0，以及R23SiO1/2单元和R1SiO3/2单元的结合与R22SiO2/2单元的摩尔比为0.5-99，(v)含R22SiO2/2单元和R1SiO3/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R22SiO2/2单元与R1SiO3/2单元的摩尔比为0.2-4.0，(vi)含R22SiO2/2单元和R23SiO1/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R22SiO2/2单元与R23SiO1/2单元的摩尔比为0-15,000，和(vii)含R22SiO2/2单元、R23SiO1/2单元和SiO2/2单元的有机硅氧烷化合物，其中SiO2/2单元与结合的R22SiO2/2单元和R23SiO1/2单元的摩尔比为0.005-0.125，其中R1是不含脂族不饱和的烃基，和R2选自R1和链烯基；(B)用量足以交联(A)的至少一种有机氢硅化合物，所述有机氢硅化合物选自(i)具有化学式HR32SiR4SiR32H的有机氢硅烷化合物，其中R3是不含脂族不饱和的烃基，和R4是二价烃基，和(ii)具有化学式(HR3aSiO(3-a)/2)b(R1cSiO(4-c)/2)d的有机氢硅氧烷化合物，其中R1和R3如上所定义，1≤a≤2，0≤c≤3，b+d的数值提供134-75,000的分子量，且条件是每一分子存在至少两个SiH基；(C)催化量的氢化硅烷化催化剂；和任选地(D)无机填料；和(II)与涂布层(I)接触的第二涂布层，该第二涂布层包括通过下述方法获得的硅氧烷组合物(Y)，所述方法包括使下述物质反应(A′)100重量份每一分子平均含有大于两个链烯基且具有小于1.5mol％与硅键合的羟基的至少一种有机硅氧烷化合物，其中该有机聚硅氧烷化合物选自(i)含R22SiO2/2单元和R23SiO1/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R22SiO2/2单元与R23SiO1/2单元的摩尔比为0-15,000，和(ii)含R23SiO1/2单元和SiO4/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R23SiO1/2单元与SiO4/2单元的摩尔比为0.05-4.0，其中R2选自不含脂族不饱和的烃基和链烯基；(B′)用量足以交联(A′)的至少一种有机氢硅化合物，所述有机氢硅化合物选自(i)具有化学式HR32SiR4SiR32H的有机氢硅烷化合物，和(ii)具有化学式(HR3aSiO(3-a)/2)b(R1cSiO(4-c)/2)d的有机氢硅氧烷化合物，其中R1和R3各自独立地为不含脂族不饱和的烃基，R4是二价烃基，1≤a≤2，0≤c≤3，b+d的数值提供134-75,000的分子量，且条件是每一分子存在至少两个SiH基；(C′)催化量的氢化硅烷化催化剂；和任选地(D′)无机填料，条件是，R22SiO2/2单元与所有其它单元的结合的摩尔比在组合物(Y)中高于在组合物(X)中，和组合物(Y)的表面能低于组合物(X)。
2.权利要求1的硅氧烷涂料组合物，其中不含脂族不饱和的烃基独立地选自甲基和苯基，以及所述链烯基是乙烯基。
3.权利要求1的硅氧烷涂料组合物，其中(A)是含ViMe2SiO1/2单元和PhSiO3/2单元的有机硅氧烷化合物，其中ViMe2SiO1/2单元与PhSiO3/2单元的摩尔比为0.05-3.0；(B)是具有化学式HMe2Si-Ph-SiMe2H的有机氢硅烷化合物；(A′)是含(ViMe2SiO1/2)单元、(Me3SiO1/2)单元、(Me2SiO2/2)单元和(SiO2)单元的有机硅氧烷化合物，其中(ViMe2SiO1/2)单元+(Me3SiO1/2)单元与(Me2SiO2/2)单元之比为1/10000-1/5，和(Me2SiO2/2)单元与(SiO2)单元之比为200/1-1/4；(B′)是具有化学式Me3SiO(Me2SiO)x(MeHSiO)ySiMe3的有机氢硅氧烷化合物，其中x+y的数值提供134-75,000的分子量，且每一分子存在至少两个SiH基；(C)和(C′)是含铂的氢化硅烷化催化剂；和(D)和(D′)选自中空微球、煅制氧化硅、沉淀氧化硅、硅酸酐、水合硅酸、炭黑、粉碎石英、碳酸钙、碳酸镁、硅藻土、硅灰石、煅烧粘土、粘土、滑石、高岭土、氧化钛、膨润土、氧化铁、氧化锌、玻璃球、玻璃珠、云母、玻璃粉末、玻璃球、煤灰、丙烯酸树脂粉末、酚醛树脂粉末、陶瓷粉末、沸石、板岩粉末、有机纤维和无机纤维。
4.一种制备制品的方法，该方法包括下述步骤(I)施加硅氧烷组合物(Y)到基片上，形成1-500微米厚的涂层；其中硅氧烷组合物(Y)通过下述方法获得，所述方法包括使下述物质反应(A′)100重量份每一分子平均含有大于两个链烯基且具有小于1.5mol％与硅键合的羟基的至少一种有机硅氧烷化合物，其中该有机硅氧烷化合物选自(i)含R22SiO2/2单元和R23SiO1/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R22SiO2/2单元与R23SiO1/2单元的摩尔比为0-15,000，和(ii)含R23SiO1/2单元和SiO4/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R23SiO1/2单元与SiO4/2单元的摩尔比为0.05-4.0，其中R2选自不含脂族不饱和的烃基和链烯基；(B′)用量足以交联(A′)的至少一种有机氢硅化合物，所述有机氢硅化合物选自(i)具有化学式HR32SiR4SiR32H的有机氢硅烷化合物，和(ii)具有化学式(HR3aSiO(3-a)/2)b(R1cSiO(4-c)/2)d的有机氢硅氧烷化合物，其中R1和R3各自独立地为不含脂族不饱和的烃基，R4是二价烃基，1≤a≤2，0≤c≤3，b+d的数值提供134-75,000的分子量，且条件是每一分子存在至少两个SiH基；(C′)催化量的氢化硅烷化催化剂；和任选地(D′)无机填料，(II)固化硅氧烷组合物(Y)，(III)在步骤(II)的产物之上面形成图案；(IV)在步骤(III)的图案上施加硅氧烷组合物(X)；其中硅氧烷组合物(X)通过下述方法获得，所述方法包括使下述物质反应(A)100重量份每一分子平均含有大于两个链烯基且具有小于1.5mol％与硅键合的羟基的至少一种有机硅氧烷化合物，其中该有机硅氧烷化合物选自(i)含R23SiO1/2单元和SiO4/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R23SiO1/2单元与SiO4/2单元的摩尔比为0.05-4.0，(ii)含R23SiO1/2单元和R1SiO3/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R23SiO1/2单元与R1SiO3/2单元的摩尔比为0.05-3.0，(iii)含R23SiO1/2单元、R1SiO3/2单元和SiO4/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R23SiO1/2单元与R1SiO3/2单元的摩尔比为0.05-3.0，以及R23SiO1/2单元和R1SiO3/2单元的结合与SiO4/2单元的摩尔比为4-99，(iv)含R23SiO1/2单元、R1SiO3/2单元和R22SiO2/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R23SiO1/2单元与R1SiO3/2单元的摩尔比为0.05-3.0，以及R23SiO1/2单元和R1SiO3/2单元的结合与R22SiO2/2单元的摩尔比为0.5-99，(v)含R22SiO2/2单元和R1SiO3/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R22SiO2/2单元与R1SiO3/2单元的摩尔比为0.2-4.0，(vi)含R22SiO2/2单元和R23SiO1/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R22SiO2/2单元与R23SiO1/2单元的摩尔比为0-15,000，和(vii)含R22SiO2/2单元、R23SiO1/2单元和SiO2/2单元的有机硅氧烷化合物，其中SiO2/2单元与结合的R22SiO2/2单元和R23SiO1/2单元的摩尔比为0.005-0.125，其中R1是不含脂族不饱和的烃基，和R2选自R1和链烯基；(B)用量足以交联(A)的至少一种有机氢硅化合物，所述有机氢硅化合物选自(i)具有化学式HR32SiR4SiR32H的有机氢硅烷化合物，其中R3是不含脂族不饱和的烃基，和R4是二价烃基，和(ii)具有化学式(HR3aSiO(3-a)/2)b(R1cSiO(4-c)/2)d的有机氢硅氧烷化合物，其中R1和R3如上所定义，1≤a≤2，0≤c≤3，b+d的数值提供134-75,000的分子量，且条件是每一分子存在至少两个SiH基；(C)催化量的氢化硅烷化催化剂；和任选地(D)无机填料；(V)固化硅氧烷组合物(X)；条件是，R22SiO2/2单元与所有其它单元的结合的摩尔比在硅氧烷组合物(Y)中高于在硅氧烷组合物(X)中，和固化的组合物(Y)的表面能低于固化的硅氧烷组合物(X)；和(VI)从基片上分离步骤(V)的固化的硅氧烷组合物(X)。
5.权利要求4的方法，其中不含脂族不饱和的烃基独立地选自甲基和苯基，且所述链烯基是乙烯基。
6.权利要求4的方法，其中(A)是含ViMe2SiO1/2单元和PhSiO3/2单元的有机硅氧烷化合物，其中ViMe2SiO1/2单元与PhSiO3/2单元的摩尔比为0.05-3.0；(B)是具有化学式HMe2Si-Ph-SiMe2H的有机氢硅烷化合物；(A′)是含(ViMe2SiO1/2)单元、(Me3SiO1/2)单元、(Me2SiO2/2)单元和(SiO2)单元的有机硅氧烷化合物，其中(ViMe2SiO1/2)单元+(Me3SiO1/2)单元与(Me2SiO2/2)单元之比为1/10000-1/5，和(Me2SiO2/2)单元与(SiO2)单元之比为200/1-1/4；(B′)是具有化学式Me3SiO(Me2SiO)x(MeHSiO)ySiMe3的有机氢硅氧烷化合物，其中x+y的数值提供134-75,000的分子量，且每一分子存在至少两个SiH基；(C)和(C′)是含铂的氢化硅烷化催化剂；和(D)和(D′)选自中空微球、煅制氧化硅、沉淀氧化硅、硅酸酐、水合硅酸、炭黑、粉碎石英、碳酸钙、碳酸镁、硅藻土、硅灰石、煅烧粘土、粘土、滑石、高岭土、氧化钛、膨润土、氧化铁、氧化锌、玻璃球、玻璃珠、云母、玻璃粉末、玻璃球、煤灰、丙烯酸树脂粉末、酚醛树脂粉末、陶瓷粉末、沸石、板岩粉末、有机纤维和无机纤维。
7.一种制备制品的方法，该方法包括下述步骤(I)施加硅氧烷组合物(X)到基片上，形成1-500微米厚的涂层；其中通过下述方法获得硅氧烷组合物(X)，所述方法包括使下述物质反应(A)100重量份每一分子平均含有大于两个链烯基且具有小于1.5mol％与硅键合的羟基的至少一种有机硅氧烷化合物，其中该有机硅氧烷化合物选自(i)含R23SiO1/2单元和SiO4/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R23SiO1/2单元与SiO4/2单元的摩尔比为0.05-4.0，(ii)含R23SiO1/2单元和R1SiO3/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R23SiO1/2单元与R1SiO3/2单元的摩尔比为0.05-3.0，(iii)含R23SiO1/2单元、R1SiO3/2单元和SiO4/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R23SiO1/2单元与R1SiO3/2单元的摩尔比为0.05-3.0，以及R23SiO1/2单元和R1SiO3/2单元的结合与SiO4/2单元的摩尔比为4-99，(iv)含R23SiO1/2单元、R1SiO3/2单元和R22SiO2/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R23SiO1/2单元与R1SiO3/2单元的摩尔比为0.05-3.0，以及R23SiO1/2单元和R1SiO3/2单元的结合与R22SiO2/2单元的摩尔比为0.5-99，(v)含R22SiO2/2单元和R1SiO3/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R22SiO2/2单元与R1SiO3/2单元的摩尔比为0.2-4.0，和(vi)含R22SiO2/2单元和R23SiO1/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R22SiO2/2单元与R23SiO1/2单元的摩尔比为0-15,000，其中R1是不含脂族不饱和的烃基，和R2选自R1和链烯基；(B)用量足以交联(A)的至少一种有机氢硅化合物，所述有机氢硅化合物选自(i)具有化学式HR32SiR4SiR32H的有机氢硅烷化合物，其中R3是不含脂族不饱和的烃基，和R4是二价烃基，和(ii)具有化学式(HR3aSiO(3-a)/2)b(R1cSiO(4-c)/2)d的有机氢硅氧烷化合物，其中R1和R3如上所定义，1≤a≤2，0≤c≤3，b+d的数值提供134-75,000的分子量，且条件是每一分子存在至少两个SiH基；(C)催化量的氢化硅烷化催化剂；和任选地(D)无机填料；(II)固化硅氧烷组合物(X)；(III)在步骤(II)的产物之上面形成图案；(IV)在步骤(III)的图案上施加硅氧烷组合物(Y)，其中通过下述方法获得硅氧烷组合物(Y)，所述方法包括使下述物质反应(A′)100重量份每一分子平均含有大于两个链烯基且具有小于1.5mol％与硅键合的羟基的至少一种有机硅氧烷化合物，其中该有机硅氧烷化合物选自(i)含R22SiO2/2单元和R23SiO1/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R22SiO2/2单元与R23SiO1/2单元的摩尔比为0-15,000，和(ii)含R23SiO1/2单元和SiO4/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R23SiO1/2单元与SiO4/2单元的摩尔比为0.05-4.0，其中R2选自不含脂族不饱和的烃基和链烯基；(B′)用量足以交联(A′)的至少一种有机氢硅化合物，所述有机氢硅化合物选自(i)具有化学式HR32SiR4SiR32H的有机氢硅烷化合物，和(ii)具有化学式(HR3aSiO(3-a)2)b(R1cSiO(4-c)/2)d的有机氢硅氧烷化合物，其中R1和R3各自独立地为不含脂族不饱和的烃基，R4是二价烃基，1≤a≤2，0≤c≤3，b+d的数值提供134-75,000的分子量，且条件是每一分子存在至少两个SiH基；(C′)催化量的氢化硅烷化催化剂；和任选地(D′)无机填料，(V)固化硅氧烷组合物(Y)，条件是，R22SiO2/2单元与所有其它单元的结合的摩尔比在硅氧烷组合物(X)中高于在硅氧烷组合物(Y)中，和固化的组合物(X)的表面能低于固化的硅氧烷组合物(Y)；和(VI)从基片上分离步骤(V)的固化的硅氧烷组合物(Y)。
8.权利要求7的方法，其中不含脂族不饱和的烃基独立地选自甲基和苯基，且所述链烯基是乙烯基。
9.权利要求7的方法，其中(A)是含ViMe2SiO1/2单元和PhSiO3/2单元的有机硅氧烷化合物，其中ViMe2SiO1/2单元与PhSiO3/2单元的摩尔比为0.05-3.0；(B)是具有化学式HMe2Si-Ph-SiMe2H的有机氢硅烷化合物；(A′)是含(ViMe2SiO1/2)单元、(Me3SiO1/2)单元、(Me2SiO2/2)单元和(SiO2)单元的有机硅氧烷化合物，其中(ViMe2SiO1/2)单元+(Me3SiO1/2)单元与(Me2SiO2/2)单元之比为1/10000-1/5，和(Me2SiO2/2)单元与(SiO2)单元之比为200/1-1/4；(B′)是具有化学式Me3SiO(Me2SiO)x(MeHSiO)ySiMe3的有机氢硅氧烷化合物，其中x+y的数值提供134-75,000的分子量，且每一分子存在至少两个SiH基；(C)和(C′)是含铂的氢化硅烷化催化剂；和(D)和(D′)选自中空微球、煅制氧化硅、沉淀氧化硅、硅酸酐、水合硅酸、炭黑、粉碎石英、碳酸钙、碳酸镁、硅藻土、硅灰石、煅烧粘土、粘土、滑石、高岭土、氧化钛、膨润土、氧化铁、氧化锌、玻璃球、玻璃珠、云母、玻璃粉末、玻璃球、煤灰、丙烯酸树脂粉末、酚醛树脂粉末、陶瓷粉末、沸石、板岩粉末、有机纤维和无机纤维。
10.一种制备制品的方法，该方法包括下述步骤(I)施加硅氧烷组合物(Y)到基片上，形成1-500微米厚的涂层；其中硅氧烷组合物(Y)通过下述方法获得，所述方法包括使下述物质反应(A′)100重量份每一分子平均含有大于两个链烯基且具有小于1.5mol％与硅键合的羟基的至少一种有机硅氧烷化合物，其中该有机硅氧烷化合物选自(i)含R22SiO2/2单元和R23SiO1/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R22SiO2/2单元与R23SiO1/2单元的摩尔比为0-15,000，和(ii)含R23SiO1/2单元和SiO4/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R23SiO1/2单元与SiO4/2单元的摩尔比为0.05-4.0，其中R2选自不含脂族不饱和的烃基和链烯基；(B′)用量足以交联(A′)的至少一种有机氢硅化合物，所述有机氢硅化合物选自(i)具有化学式HR32SiR4SiR32H的有机氢硅烷化合物，和(ii)具有化学式(HR3aSiO(3-a)/2)b(R1cSiO(4-c)/2)d的有机氢硅氧烷化合物，其中R1和R3各自独立地为不含脂族不饱和的烃基，R4是二价烃基，1≤a≤2，0≤c≤3，b+d的数值提供134-75,000的分子量，且条件是每一分子存在至少两个SiH基；(C′)催化量的氢化硅烷化催化剂；和任选地(D′)无机填料，(II)固化硅氧烷组合物(Y)，(III)在步骤(II)的产物之上面形成图案；(IV)将图案嵌入在其内的层置于该层顶部，所述层与基片成一条直线但不与基片接触；(V)在基底表面上或者在该层的表面上通过毛细流动施加硅氧烷组合物(X)；其中硅氧烷组合物(X)通过下述方法获得，所述方法包括使下述物质反应(A)100重量份每一分子平均含有大于两个链烯基且具有小于1.5mol％与硅键合的羟基的至少一种有机硅氧烷化合物，其中该有机硅氧烷化合物选自(i)含R23SiO1/2单元和SiO4/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R23SiO1/2单元与SiO4/2单元的摩尔比为0.05-4.0，(ii)含R23SiO1/2单元和R1SiO3/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R23SiO1/2单元与R1SiO3/2单元的摩尔比为0.05-3.0，(iii)含R23SiO1/2单元、R1SiO3/2单元和SiO4/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R23SiO1/2单元与R1SiO3/2单元的摩尔比为0.05-3.0，以及R23SiO1/2单元和R1SiO3/2单元的结合与SiO4/2单元的摩尔比为4-99，(iv)含R23SiO1/2单元、R1SiO3/2单元和R22SiO2/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R23SiO1/2单元与R1SiO3/2单元的摩尔比为0.05-3.0，以及R23SiO1/2单元和R1SiO3/2单元的结合与R22SiO2/2单元的摩尔比为0.5-99，(v)含R22SiO2/2单元和R1SiO3/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R22SiO2/2单元与R1SiO3/2单元的摩尔比为0.2-4.0，和(vi)含R22SiO2/2单元和R23SiO1/2单元的有机硅氧烷化合物，其中R22SiO2/2单元与R23SiO1/2单元的摩尔比为0-15,000，其中R1是不含脂族不饱和的烃基，和R2选自R1和链烯基；(B)用量足以交联(A)的至少一种有机氢硅化合物，所述有机氢硅化合物选自(i)具有化学式HR32SiR4SiR32H的有机氢硅烷化合物，其中R3是不含脂族不饱和的烃基，和R4是二价烃基，和(ii)具有化学式(HR3aSiO(3-a)/2)b(R1cSiO(4-c)/2)d的有机氢硅氧烷化合物，其中R1和R3如上所定义，1≤a≤2，0≤c≤3，b+d的数值提供134-75,000的分子量，且条件是每一分子存在至少两个SiH基；(C)催化量的氢化硅烷化催化剂；和任选地(D)无机填料；(VI)固化硅氧烷组合物(X)；条件是，R22SiO2/2单元与所有其它单元的结合的摩尔比在硅氧烷组合物(Y)中高于在硅氧烷组合物(X)中，和固化的组合物(Y)的表面能低于固化的硅氧烷组合物(X)；和(VII)从基片上分离步骤(VI)的固化的硅氧烷组合物(X)。
全文摘要
本发明涉及一种硅氧烷组合物，其可用于控制当含组合物的双层或多层结构体作为独立层和夹在其间的不同材料的图案分离时发生释放处的界面。本发明进一步涉及利用这些组合物控制在基片上沉积的图案的转印或释放的方法。
文档编号B32B27/08GK1898349SQ200480038515
公开日2007年1月17日 申请日期2004年10月22日 优先权日2003年12月22日
发明者R·埃克兰, D·卡佐利斯, 朱弼忠 申请人:陶氏康宁公司