专利名称：：带有罩面层的光致聚合物印刷版的加工方法带有罩面层的光致聚合物印刷版的加工方法
技术领域：
：本发明涉及加工具有罩面层的依图像曝光平版印刷版的方法，特别是其中罩面层的去除、显影和涂胶在无任何中间洗涤步骤的情况下在单一步骤中进行的方法。平版印刷基于油和水的不混溶性，其中图像区域优选接受油性材料或印刷油墨，非图像区域优选接受水或润版液。当适当制成的表面被水润湿并施加印刷油墨时，背景或非图像区域接受水并推斥印刷油墨，而图像区域接受印刷油墨并推斥水。图像区域中的印刷油墨随后转移到要在其上形成图像的如纸、织物之类的材料表面上。但是，通常，首先将印刷油墨转移到被称作垫带(blanket)的中间材料上，其随后将印刷油墨转移到要在其上形成图像的材料表面上；这种技术被称作胶版印刷。常用类型的平版印刷版前体包含施加到铝基基底上的光敏涂层。该涂层可以对辐射起反应以致曝光的部分变得如此可溶以便在显影过程中除去。这种版被称作正性工作。另一方面，如果涂层的曝光部分通过辐射硬化，版被称作负性工作。在这两种情况下，留下的图像区域接受印刷油墨，即是亲油的，且非图像区域(背景)接受水，即是亲水的。图像和非图像区域之间的差异在曝光过程中发生，胶片(film)在真空下粘贴到印刷版前体上以确保良好的接触。然后借助辐射源使该版曝光，该辐射源的一部分由UV辐射构成。当使用正性版时，胶片上的与版上的图像对应的区域如此不透明以致光不会到达该版，而胶片上的与非图像区域对应的区域是透明的并允许光透过涂层，该涂层的溶解度提高。在负性版的情况下，发生相反情况胶片上的与版上的图像对应的区域是透明的，而非图像区域不透明。透明胶片区域下方的涂层由于入射光而硬化(例如通过光致聚合)，同时在显影过程中除去不受光影响的区域。因此，负性工作版的光硬化表面是亲油的并接受印刷油墨，而要被通过显影剂除去的涂层涂布的非图像区域的感光性降低并因此亲水。或者，该版也可以在无胶片的情况下以数字方式依图像曝光。根据最近的开发，使用带有热敏层的版前体，其中通过依图像直接加热或用转化成热的红外线辐射，产生涂层的加热和未加热区域的显影剂溶解度4的差异。有时，使用水溶性聚合物作为具有氧敏涂层如可光致聚合涂层的平版印刷版前体上的临时涂层(有时被称作"罩面层")。水溶性聚合物具有在储存、曝光过程中，特别是在曝光和进一步加工(显影和类似加工)之间的期间保护该涂层免受大气氧作用的功能。在此期间，临时涂层必须表现出与光敏基底的充足粘合性以便在层不撕裂的情况下确保安全操作(制造、包装、运输、曝光等)。在显影前，优选通过用水洗涤，除去罩面层。对整洁的印刷图像而言，图像区域(即依图像留下的涂层)必须很好地接受印刷油墨，而非图像区域(即依图像曝光出的基底，如铝基底)不应该接受印刷油墨。为了保护依图像曝光出的基底，如铝基底免于出现指印、形成氧化铝、腐蚀和机械侵蚀，如划痕，在将印刷版安装在印刷机中时，即为了保持和可能改进非图像区域的亲水性，通常对显影的印刷版施以"涂胶"处理(也称作"精加工")。在储存之前或在印刷机长期静置之前将版涂胶确保非图像区域保持亲水。在印刷开始时，涂胶溶液必须能够用润版液从版上迅速洗除，以便图像区域能够立即接受油墨。涂胶溶液长期已知并例如公开在DE2926645、DE2042217A1、US4,880，555Al、US4,033,919Al和US4,162,920Al中。现有技术中所述的涂胶组合物的共同点在于，它们包含水溶性胶体或粘合剂，如阿拉伯树胶、聚乙烯醇、聚乙烯基吡咯烷酮、羧曱基纤维素、山梨醇或聚丙烯酰胺，且它们通常调节至pH值<6。在DE10345388Al中公开了用优选含有tetraborat的水溶性淀粉或淀粉衍生物的碱性溶液涂胶；在涂胶步骤之前进行洗除罩面层和显影的单独步骤。具有罩面层的平版印刷版前体的加工是耗时的并产生大量废水，因为在曝光和任选预热步骤后通常需要下列步骤。(1)通过用水洗涤来除去罩面层(2)通过用水性碱性显影剂处理来除去非图像区域(3)用水漂洗(4)用通常酸性的涂胶组合物涂胶。在US6,482,578B2、US6,383,717Bl和WO02/31599A2中描述了负性工作前体的水性显影剂；但是，在漂洗显影的版后进行显影和涂胶之前，在处理器的预洗段中洗除罩面层。适用于负性工作前体的显影剂也描述在US4,370,406和US4,350,756中；但是这些专利不涉及具有罩面层的前体。在US5,155,011中，描述了带有罩面层的再生层用的水性显影剂，其包含有机溶剂、碱试剂、阴离子型表面活性剂、链烷酸、乳化剂、络合剂和緩沖物质；该专利没有涉及涂胶。在GB1,148,362中，公开了带有罩面层的可光致聚合的元件；该元件通过用显影剂处理曝光的元件，用水漂洗并任选涂胶来加工。US2003/0165777Al和US2004/0013968Al公开了用于负性前体的非碱性的水性显影剂。对于无罩面工艺的前体，在现有技术中描述了同时显影和涂胶的方法。例如，DE2530502Al公开了用于可光固化层的同时显影和涂胶的方法和装置；所用液体包含水、有机溶剂和水溶性胶体。其中没有公开带有罩面层的负性前体的处理。US4,200，688涉及可用于除去非图像区域和用于在显影后保留非图像部分的具有水相和水不混溶相的乳状液；这些乳状液容易在加载过程中变不稳定，且没有描述带有罩面层的负性前体。在US4,381,340中，描述了可用于同时显影和整理(finishing)的包含2-丙氧基乙醇、HLB值大于17的非离子型表面活性剂、无机盐和聚合成膜剂的组合物；没有描述带有罩面层的前体的处理。WO02/101469描述了用包含特定多羟基化合物的水性碱性显影-涂胶溶液的前体加工；没有描述带有罩面层的负性工作前体。在US4,873,174中公开了含有特定醇、磷酸盐、特定聚合物、柠檬酸或苯甲酸、辛基硫酸盐、苯曱酸盐、柠檬酸盐和溶剂合物作为必要组分的显影和整理组合物；没有公开带有罩面层的前体。在WO2005/111727Al中公开了用pH值最多9的胶料溶液显影带有可光致聚合层的前体。本发明的目的是提供简化具有罩面层的负性工作前体的加工并由此节省时间和金钱(由于使用小和便宜的处理机)并减少废水量同时不影响可显影性、光敏性和巻起(roll叩)(也称作启动(startup))的方法。令人惊讶地通过下列方法实现该目的，该方法包括(a)用可自由基聚合涂层对其敏感的辐射依图像曝光负性工作的平版印刷版前体，该前体包含(i)具有亲水表面的基底(ii)可自由基聚合涂层和(111)不透氧的水溶性或分散性罩面层，(b)用水性石咸性加工液处理依图像曝光的前体，该加工液包含(i)水(ii)至少一种表面活性剂(lii)至少一种水溶性成膜亲水聚合物(iv)至少一种碱性试剂，其量足以获得pH9.5至14,和(v)任选一种或多种选自有机溶剂、抗微生物剂、络合剂、緩冲物质、滤光染料、防沫剂、防腐蚀剂和自由基抑制剂的添加剂，(c)从步骤(b)中获得的处理过的前体中除去任何过量的加工液，(d)任选干燥，(e)任选烘烤，(f)将步骤(c)、(d)或(e)中获得的前体安装在印刷机上并随后使其同时或接连与润版液和印刷油墨接触，前提是在步骤(a)至(f)任意之间没有洗涤步骤，进一步前提是步骤(c)不是洗涤步骤且进一步前提是在步骤(b)后没有涂胶步骤。负性工作的平版印刷版前体根据本发明的方法成像的前体是负性工作的并包含具有亲水表面的基底、可自由基聚合涂层和不透氧罩面层。基底用于前体的基底优选为尺寸稳定的板或箔形材料，如已经用作印刷品基底的材料。此类基底的实例包括纸、涂有塑料材料(如聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯)的纸、金属板或箔，如铝(包括铝合金)、锌和铜板、由例如二乙酸纤维素、三乙酸纤维素、丙酸纤维素、乙酸纤维素、乙酸丁酸纤维素、硝酸纤维素、聚对苯二曱酸乙二酯、聚乙烯、聚苯乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯和聚乙酸乙烯酯制成的塑料薄膜，和由纸或塑料薄膜和上述金属之一制成的层压材料，或已经通过气相沉积法金属化的纸/塑料薄膜。在这些基底中，铝板或箔尤其优选，因为其表现出显著程度的尺寸稳定性、便宜并且还表现出与辐射敏感涂层的优异粘合性。此外，可以使用复合薄膜，其中铝箔层压到塑料薄膜，例如聚对苯二甲酸乙二酯薄膜，或纸张，或已通过气相沉积法在其上施加了铝的塑料薄膜上。7金属基底，特别是铝基底，优选经过表面处理，例如通过在干状态下刷擦或用磨料悬浮液刷擦来颗粒化，或电化学颗粒化，例如借助盐酸电解质或HN03,和任选阳极化，例如在硫酸或磷酸中。优选具有0.1至0.7毫米，更优选0.15至0.5毫米厚度的铝箔是尤其优选的基底。该箔优选颗粒化(优选电化学方式)，并随后表现出0.2至1微米，尤其优选0.3至0.8微米的平均粗糙度。根据尤其优选的实施方案，颗粒化的铝箔进一步阳极化。所得氧化铝的层重量优选为1.5至5克/平方米，尤其优选2至4克/平方米。此外，为了改进已经颗粒化和任选阳极化的金属基底的表面的亲水性质，可以用例如硅酸钠、氟化钙锆、聚乙烯基膦酸或磷酸的水溶液对该金属基底施以后处理。上述基底处理的细节是本领域技术人员公知的。可自由基聚合涂层(UV/VIS和IR)负性工作的涂层包含，作为必要要素，(a)至少一种选自光引发剂和敏化剂/共引发剂体系的吸收剂组分，其吸收波长250至1200纳米的辐射并且能够引发自由基聚合，和(b)至少一种可自由基聚合的单体、低聚物和/或预聚物。吸收剂组分吸收剂组分选自光引发剂和敏化剂/共引发剂体系。选择吸收剂组分以使其能够在随后成像过程中使用的辐射源发出的范围内显著吸收；优选地，吸收剂表现出在此范围内的最大吸收。因此，如果辐射敏感元件例如要借助红外激光成像，吸收剂应该基本吸收在大约750至1200纳米范围内的辐射并优选表现出在此范围内的最大吸收。另一方面，如果成像要借助UV/VIS辐射进行，吸收剂应该基本吸收在大约250至750纳米范围内的辐射并优选表现出在此范围内的最大吸收。合适的光引发剂和/或敏化剂是本领域技术人员已知的，或可以容易地通过简单试验确定在所需波长范围内是否发生显著吸收(例如记录吸收谱)。在本发明中，光引发剂是在曝光时能够吸收辐射并且能够单独，即在不添加共引发剂的情况下形成自由基的化合物。合适的吸收UV或VIS辐射的光引发剂的实例包括带有1至3个CX3基团(其中每个X独立地选自氯或溴原子，优选为氯原子)的三嗪衍生物、六芳基双咪唑化合物、安息香醚、偶苯酰缩酮、肟醚、肟酯、a-羟基-或a-氨基-苯乙酮、酰基膦、酰基膦氧化物、酰基膦硫化物、金属茂、过氧化物等。合适的三嗪衍生物包括2-苯基-4,6-双(三氯甲基)-均三嗪、2,4,6-三(三氯曱基)-均三嗪、2-曱基-4,6-双(三氯曱基)-均三嗪、2-(苯乙烯基-4,6-双(三氯甲基)-均三嗪、2-(对曱氧基苯乙烯基)-4，6-双(三氯甲基)-均三嗪、2-(4-曱氧基-萘酚_1_基)_4,6-双(三氯曱基)-均三。秦、和2-(4-乙氧基-萘酚-l-基)-4,6-双(三氯曱基)-均三嗪和2-[4-(2-乙氧基乙基)-萘盼-1-基]-4,6-双(三氯甲基)-均三。秦。合适的肟醚和肟酯是例如衍生自苯偶姻的那些。优选的金属茂是例如具有两个五元环二烯基(如环戊二烯基)与一个或两个含至少一个邻位氟原子的六元芳基与任选的一个吡咯基的二茂钛；最优选的金属茂是双(环戊二烯基)-双-[2,6-二氟-3-(吡咯-1-基)-苯基]钛和二环戊二烯-双-2,4，6-三氟苯基-钛或锆。在本发明中，可以使用单一光引发剂或两种或更多种的混合物。光引发剂可以单独使用或与一种或多种共引发剂结合使用；共引发剂的添加可以提高光引发效率。对光引发剂的量没有特别限制；但是，如果存在光引发剂，其优选在干层重量的0.2至25重量％，尤其优选0.5至15重量％的范围内。本发明中提到的敏化剂是在曝光时可吸收辐射但其自身不能，即在不添加共引发剂的情况下形成自由基的化合物。可光致氧化或光致还原或能够将其激发能转移到受体分子中的所有光吸收化合物是适用在本发明中的敏化剂。此类染料的实例包括花青染料、部花青染料、氧镜醇类染料、二芳基曱烷染料、三芳基曱烷染料、口占吨染料、香豆素衍生物、香豆素酮类染料、吖啶染料、吩。秦染料、喹喔啉染料、p比咯镥染料或石危代他咯输染料(thiapyrryliumdyes)、azaanulene染料(如酞菁染料和紫菜碱)、靛蓝染料、蒽醌染料、聚芳撑、聚芳基多烯、2,5-二苯基异苯并呋喃、2,5-二芳基呋喃、2,5-二芳基硫代呋喃、2,5-二芳基吡咯、2,5-二芳基环戊二烯、聚芳基亚苯基、聚芳基-2-吡唑啉、羰基化合物，如芳族酮或醌，例如二苯曱酮衍生物、米贵酮、噻吨酮衍生物、蒽醌衍生物和药酮衍生物。式(I)的香豆素敏化剂例如适用于电磁语的UV范围其中R1、R16、R"和R"独立地选自-H、卤素原子、C广C2o烷基、-OH、-0-I^和-NRSr6,其中！^是C广C2o烷基、Cs-Co芳基或。6-(:30芳烷基(优选d-C6烷基)，RS和RS独立地选自氢原子和CrC2o烷基，或W和R16、R"和R"或R"和R"—起形成在与式(I)中所示的苯环相邻的一个或两个位置上具有选自N和O的杂原子的5-或6-元杂环，或R"或R"与其两个相邻取代基的每一个一起形成在与式(I)中所示的苯环相邻的一个或两个位置上具有选自N和O的杂原子的5-或6-元杂环，其中每个形成的5-或6-元杂环可以独立地被一个或多个C广C6烷基取代，条件是R1、R16、R"和Ris的至少一个不同于氢和CrC加烷基，112是氢原子、d-C2。烷基、C5-d。芳基或C6-C3o芳烷基，且R3是氢原子或选自下列的取代基-COOH、-COOR7、-COR8、-CONR9R1Q、-CN、C5-C1()芳基、C6-C3o芳烷基、任选苯并稠合的5-或6-元杂环基团、基团-CHK:H-R"和<formula>formulaseeoriginaldocumentpage10</formula>其中R是d-C2o烷基，118是d-C2o烷基或5-或6-元杂环基团，119和R"独立地选自氬原子和CrC2。烷基，RU是d-d2烷基或链烯基、杂环非芳族环或任选具有选自O、S和N的杂原子的CVC2。芳基，且1112是CVCk)芳基或5-或6-元杂环，任选为芳环；或112和W和与它们键合的碳原子一起形成5-或6-元环，任选为芳环。例如在WO2004/049068Al中更详细描述了它们。此外，如WO2004/074929A2中更详细描述的式(II)的二哺唑衍生物及类似物和如WO2004/074930A2中详细描述的式(III)的-恶唑化合物适用于UV范围，其中X是包含至少一个与杂环共轭的C-C双键的间隔基，Y和Z独立地代表任选被取代的稠合芳环，且V和W独立地选自O、S和NR，其中R是任选可被单取代或多取代的烷基、芳基或芳烷基，其中R1、112和R各自独立地选自卣素原子、任选被取代的烷基、可以也稠合的任选被取代的芳基、任选被取代的芳烷基、基团-忖114115和基团-OR6,其中R"和RS独立地选自氢原子、烷基、芳基或芳烷基，W是任选被取代的烷基、芳基或芳烷基，或氢原子，且k、m和n独立地为0或1至5的整数。如WO2004/111731Al中所述的式(IV)的1,4-二氢吡啶化合物是另一类适用于UV范围的敏化剂的实例ii<formula>formulaseeoriginaldocumentpage12</formula>(IV)其中Ri选自氢原子、-C(O)OR7、任选被取代的烷基、任选被取代的芳基和任选被取代的芳烷基，r和r独立地选自任选被取代的烷基、任选被取代的芳基、cn和氩原子，R4和R5独立地选自-C(O)OR7、-C(O)R7、-C(0)NR8R9和CN,或112和R"—起形成任选被取代的苯环或5-至7-元碳环或杂环，其中单元存在于与该二氢吡啶环的位置5相邻的该碳环或杂环中，且其中该碳环或杂环任选包含附加的取代基，或R2和R4以及R3和R5都形成任选被取代的苯环或5-至7-元碳环或杂环，其中单元<formula>formulaseeoriginaldocumentpage12</formula>存在于与该二氢吡啶环的位置3和5相邻的该碳环或杂环中，且其中该碳环或杂环任选包含附加的取代基，或成对的R"R"和RVW之一形成5-至7-元碳环或杂环，其中单元<formula>formulaseeoriginaldocumentpage12</formula>存在于与该二氢吡啶环的位置5或3相邻的该碳环或杂环中，且其中该碳环或杂环任选包含附加的取代基，且另一对形成任选被取代的苯环，或R与W或113与W形成可任选包含一个或多个取代基且除了与1,4-二氢吡啶环共享的氮原子外还任选包含附加的氮原子、-NR13基团、-S-或-O-的5-至7-元杂环，R"选自氢原子、烷基、芳基和芳烷基，R6选自任选被由素原子或-C(O)基团取代的烷基、任选被取代的芳基、任选被取代的芳烷基、任选被取代的杂环基和基团Y是亚烷基或亚芳基，W是氢原子、芳基、芳烷基或烷基，其中该烷基和芳烷基的烷基单元任选包含一个或多个C-C双键和/或C-C三键，且118和119独立地选自氬原子、任选被取代的烷基、任选被取代的芳基和任选被取代的芳烷基。下列化合物也是适用于UV-敏感元件的敏化剂DE102004051810中更详细描述的式(V)的敏化剂(v)其中@和各个@独立地代表芳族或杂芳族单元，13各个R1和f独立地选自卣素原子、烷基、芳基或芳烷基、基团^114115或基团-0116,R4、115和116独立地选自烷基、芳基和芳烷基，n是至少为2的整数，且k和m独立地代表0或1至5的整数，以及DE102004055733中更详细描述的式(VI)的低聚或聚合化合物(vi)其中(5)是芳族或杂芳族单元或两者的组合，使得在结构(i)中的两个基团z之间存在共轭兀-体系，各个Z独立地代表连接间隔基AS和共轭体系的杂原子，各个W和R独立地选自卣素原子、烷基、芳基、烷芳基或芳烷基、基团-NRI^和基团-OR5,各个R3、114和115独立地选自烷基、芳基、烷芳基和芳烷基，a和b独立地代表0或1至4的整数，n具有M的值，且AS是脂族间隔基。如果辐射-敏感元件被VIS激光二极管照射，如WO03/069411Al中所述的氰基吡啶酮衍生物例如适合作为敏化剂。对于IR-敏感元件而言，敏化剂例如选自炭黑、酞菁颜料/染料和聚噻吩、方酸(squarylium)、噻唑镎、克酮酸酯(croconate)、部花青、花青、舊、吡喃镄(pyrylium)或metaldithiolin类的颜料/染料，尤其优选选自花青类。例如US6,326,122的表1中提到的化合物是合适的IR吸收剂。在US4,327,169、US4,756,993、US5,156,938、WO00/29214、US6,410,207和EP1176007Al中可以找到进一步的实例。根据一个实施方案，使用式(VII)的花青染料其中各个Z^虫立地代表S、O、NRa或C(烷基)2;各个R'独立地代表烷基、烷基磺酸根或烷基铵基团；R"代表卣素原子、SRa、ORa、S02Ra或NRa2(优选为卤素原子、SRa或NRa2);各个R'"独立地代表氬原子、烷基、-COORa、-ORa、-SRa、-NRa2或卣素原子；R'"也可以是苯并稠环；A—代表阴离子；Rb和Re均代表氢原子，或和与它们键合的碳原子一起形成五元或六元碳环；Ra代表氢原子、烷基或芳基(在SRa中，Ra优选为以S为芳环中的一员的芳基；在NR、中，各RM尤选为芳基)；各个b独立地为0、1、2或3。如果R'代表烷基磺酸根，可以形成内盐，这样阴离子A—不是必需的。如果R'代表烷基铵基团，需要与A—相同或不同的第二抗衡离子。在式(VII)的IR染料中，具有对称结构的染料尤其优选。尤其优选的染料的实例包括2-[2-[2-苯基磺酰基-3-[2-(l,3-二氢-l,3,3-三曱基-2H-吲哚-2-亚基)-亚乙基]-l-环己烯-l-基]-乙烯基]-l,3，3-三曱基-3H-吲哚错氯化物，2-[2-[2-苯硫基-3-[2-(l,3-二氢-l,3，3-三曱基-2H-吲哚-2-亚基)-亚乙基]-l-环己烯-l-基]-乙烯基]-l,3,3-三甲基-3H-吲哚错氯化物，2-[2-[2-苯硫基-3-[2-(l,3-二氢-l,3,3-三曱基-2H-吲哚-2-亚基)-亚乙基]-l-环戊烯-l-基]-乙烯基]-l，3,3-三曱基-3H-吲哚错曱苯磺酸盐，2-[2-[2-氯-3-[2-(l,3-二氢-U,3-三甲基-2H-苯并[e]-吲哚-2-亚基)-亚乙基]-l-环己烯-l-基]-乙烯基]-l,3,3-三甲基-lH-苯并[e]-吲哚镎曱苯磺酸盐，5-氯-2腸(2-{3-[2-(5-氯-1-乙基-3,3曙二甲基-1,3-二氢-口引哚-2-亚基)誦亚乙基]-2-二苯基氨基-环戊-1-烯基}-乙烯基)-l-乙基-3,3-二甲基-3H-吲哚镜盐(例如，四氟硼酸盐)和2-[2-[2-氯-3-[2-乙基-(311-苯并噻唑-2-亚基)-亚乙基]-1-环己烯-1-基]-乙烯基]-3-乙基-苯并噻唑镎甲苯磺酸盐。下列化合物也是适用于本发明的IR吸收剂<formula>formulaseeoriginaldocumentpage16</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage17</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage18</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage19</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage20</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage21</formula>在本发明中，可以使用一种敏化剂或两种或更多种的混合物。敏化剂与一种或多种共引发剂结合使用。另夕卜，可以使用光引发剂；但是，这不是优选的。对敏化剂的量没有特别限制；但是，如果存在敏化剂，其优选为干层重量的0.2至15重量％,尤其优选为0.5至10重量％。如果涂层中存在光引发剂和敏化剂，它们的总量优选为干层重量的0.5至30重量％，尤其优选为1至15重量％。本发明中被称作共引发剂的是在被照射时基本不能吸收但与本发明中所用的吸收辐射的敏化剂一起形成自由基的化合物。该共引发剂例如选自镛类化合物，例如这样的错类化合物——其中的错阳离子选自碘铮(如三芳基碘镎盐)、锍(如三芳基锍盐)、磷铬、氧基氧化锍(oxylsulfoxonium)、氧基锍(oxysulfonium)、氧化锍、铵、重氮(diazonium)、硒错、砷错和N-取代N-杂环镎阳离子，其中N被任选被取代的烷基、链烯基、链炔基或芳基取代；N-芳基甘氨酸及其衍生物(例如N-苯基甘氨酸)；芳族磺酰卣；三卣代甲基芳基砜；酰亚胺，如N-苯甲酰氧基邻苯二曱酰亚胺；重氮磺酸盐；9,10-二氬蒽衍生物；具有至少两个羧基(其中至少一个键合到芳基单元的氮、氧或硫原子上)的N-芳基、S-芳基或O-芳基多羧酸(例如苯胺二乙酸及其衍生物和US-A-5,629,354中所述的其它共引发剂)；六芳基联咪唑；硫醇化合物(例如巯基苯并噻唑、巯基苯并咪唑和巯基三唑)；具有1至3个CX3基团的1,3,5-三嗪衍生物(其中每个X独立地选自氯或溴原子，优选为氯原子)，如2-苯基-4,6-双(三氯甲基)-均三嗪、2,4,6-三(三氯曱基)-均三嗪、2-曱基-4,6-双(三氯曱基)-均三溱、2-苯乙烯基-4,6-双(三氯曱基)-均三嗪、2-(对曱氧基苯乙烯基)-4,6-双(三氯甲基)-均三嗪、2-(4-甲氧基-萘酚-l-基)-4,6-双(三氯甲基)-均三嗪、2-(4-乙氧基-萘酚-l-基)-4,6-双(三氯曱基)-均三嗪和2-[4-(2-乙氧基乙基)-萘盼-l-基]-4,6-双(三氯曱基)-均三嗪；肟醚和肟酯，如衍生自苯偶姻的那些；金属茂(优选二茂钛，尤其优选具有两个5元环二烯基(如环戊二烯基)和一个或两个含至少一个邻位氟原子和任选吡咯基的六元芳基的那些，如双(环戊二烯基)-双-[2,6-二氟-3-(吡咯-l-基)-苯基]钛和二环戊二烯-双-2,4,6-三氟苯基-钛或锆)；酰基膦氧化物、二酰基膦氧化物和过氧化物(例如EP1035435Al中作为有冲几过氧化物型活化剂列出的那些)；a-羟基或a-氨基苯乙酮、酰基膦、酰基膦硫化物、羰基化合物，如芳族酮或醌，例如二苯甲酮衍生物、米蚩酮、噻吨酮衍生物、蒽醌衍生物和药酮衍生物。合适的2,2',4,4',5,5'-六芳基联咪唑(下文中简称为六芳基联咪唑)表示为下式(VIII):A2A3A5A6NNa1(vm)A4其中A^八S是取代的或未取代的C5-C20芳基，它们彼此相同或不同，并且在其环中一个或多个碳原子可以任选被选自O、N和S的杂原子取代。适用于该芳基的取代基是不会抑制光诱发离解成三芳基咪唑基的那些，例如卤素原子(氟、氯、溴、碘)、-CN、CrCs烷基(任选具有一个或多个选自卣素原子、-CN和-OH的取代基)、d-C6烷氧基、C广C6烷基硫代、(d-C6烷基)磺酰基。优选的芳基是取代的和未取代的苯基、联苯基、萘基、吡啶基、呋喃基和噻吩基。尤其优选的是取代的和未取代的苯基，特别优选的是卤素取代的苯基。实例包才套2,2'-双(溴苯基)-4,4',5，5'-四苯基联咪唑，2,2'-双(对羧基苯基)-4,4',5,5"-四苯基联咪唑，2,2'-双(邻氯笨基)-4,4',5,5'-四(对曱氧基苯基)联咪唑，2,2'-双(对氯苯基)-4,4',5,5'-四(对曱氧基苯基)联咪唑，2,2'-双(对氰基苯基)-4,4'5,5'-四(对曱氧基苯基)联咪唑，232,2'-双(2,4-二氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基联咪唑，2,2'-双(2,4-二甲氧基苯基)-4,4'，5,5'-四苯基联咪唑，2,2'-双(邻乙氧基苯基)-4,4'，5,5'-四苯基联咪嗤，2,2'-双(间氟苯基)-4,4',5,5'-四苯基联咪唑，2,2'-双(邻氟苯基)-4,4',5,5'-四苯基联咪唑，2,2'-双(对氟苯基)-4,4',5,5'-四苯基联咪唑，2,2'-双(邻己氧基苯基)-4,4',5,5'-四苯基联咪唑，2,2'-双(邻己基苯基)-4,4',5，5'-四(对甲氧基苯基)联咪唑，2,2'-双(3,4-亚甲二氧基苯基)-4,4',5,5'-四苯基联咪唑，2,2'-双(邻氯苯基)-4,4',5,5'-四(间曱氧基苯基)联咪唑，2,2'-双(邻氯苯基)-4,4',5,5'-四[间(p苯氧基-乙氧基苯基)]联咪唑，2,2'-双(2,6-二氯苯基)-4,4',5，5'-四苯基联咪唑，2,2'-双(邻曱氧基苯基)-4,4',5,5'-四苯基联咪唑，2,2'-双(对曱氧基苯基)-4,4'-双(邻曱氧基苯基)-5,5'-二苯基联咪唑,2，2'-双(邻硝基苯基)-4,4',5,5'-四苯基联咪唑，2,2'-双(对苯基磺酰基苯基)-4，4',5,5'-四苯基联咪唑，2,2'-双(对氨磺酰基苯基)-4，4',5,5'-四苯基联咪唑，2,2'-双(2,4,5-三甲基苯基)-4,4',5,5'-四苯基联咪唑，2,2'-二-4-联苯基-4,4',5,5'-四苯基联咪唑，2,2'-二-1-萘基-4,4',5,5'-四(对甲氧基苯基)联咪唑，2,2'-二-9-菲基-4,4',5,5'-四(对曱氧基苯基)联咪唑，2,2'-二苯基-4,4',5,5'-四-4-联苯基联咪唑，2,2'-二苯基-4,4'，5,5'-四-2,4-二甲苯基联咪唑，2,2'-二-3-吡啶基-4,4',5,5'-四苯基联咪唑，2,2'-二-3-p塞吩基-4,4',5,5'-四苯基联咪唑，2,2'-二-邻曱苯基-4,4',5,5'-四苯基联咪唑，2,2'-二-对曱苯基-4,4'-二-邻曱苯基-5,5'-二苯基联咪唑，2,2'-二-2,4-二曱苯基-4,4',5,5'-四苯基联咪唑，2,2'，4,4'，5,5'-六(对千基苯硫基)联咪唑，2,2',4,4',5,5'-六-1-萘基联咪唑，2,2',4,4',5,5'-六苯基联咪唑，2,2'-双(2-硝基-5-曱氧基苯基)-4,4'，5,5'-四苯基联咪唑，2,2'-双(邻硝基苯基)-4，4',5,5'-四(间曱氧基苯基)联咪唑，和2,2'-双(2-氯-5-磺苯基)-4,4',5,5'-四苯基联咪唑，尤其优选的是2,2'-双(邻氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基联咪唑，2，2'-双(邻氯苯基)-4,4',5，5'-四(对氟苯基)联咪唑，2,2'-双(邻溴苯基)-4,4',5,5'-四(对碘苯基)联咪唑，2,2'-双(邻氯苯基)-4,4',5,5'-四(对氯萘基)联咪唑，2,2'-双(邻氯苯基)-4,4',5,5'-四(对氯苯基)联咪唑，2,2'-双(邻溴苯基)-4,4',5,5'-四(对氯-对甲氧基苯基)联咪唑，2,2'-双(邻氯苯基)-4,4',5,5'-四(邻,对二氯苯基)联咪唑，2,2'-双(邻氯苯基)-4,4',5,5'-四(邻,对二溴苯基)联咪唑，2，2'-双(邻溴苯基)-4,4'，5,5'-四(邻,对二氯苯基)联咪唑或2，2'-双(邻,对二氯苯基)-4,4',5,5'-四(邻,对二氯苯基)联咪唑；但本发明不限于这些化合物。可以根据已知方法制备合适的六芳基联咪唑(参见例如US-A-3,445,232)。优选方法是相应的三芳基咪唑与铁-(III)-六氰基高铁酸盐(II)在碱溶液中的氧化二聚。对本发明目的而言，使用哪种六芳基联咪唑异构体(或异构体混合物)是无关紧要的(例如1,2'-,l,r-,1,4',2,2'-,2,4'陽和4,4'-异构体),只要其是可光离解的并在该方法中提供三芳基咪唑基自由基。适合用作共引发剂的三卣甲基化合物能够形成自由基。三卤曱基取代的三。秦和三卣甲基-芳基砜是优选的。作为实例可以提到下列化合物(本发明不限于这些化合物)2-(4-曱氧基苯基)-4,6-双(三氯曱基)-均三嗪，2-(4-氯苯基)-4,6-双-(三氯甲基)-均三嗪，2-苯基-4,6-双(三氯曱基)-均三嗪，2,4,6-三-(三氯甲基)-均三嗪，2,4,6-三-(三溴甲基)-均三嗪和三溴曱基苯基砜。许多共引发剂当暴露在其吸收谱带中时也可以充当光引发剂。由此，可以获得例如在宽的光谱范围内敏感的光敏层，因为光引发剂或敏化剂覆盖长波长的光谙范围(IR和/或可见光范围)且共引发剂覆盖短波长的光谙范围(例如UV范围)。如果用户想要用不同的辐射源照射相同的材料，这种效果可能是有利的。在这种情况下，共引发剂在上文对IR或可见光范围给出的定义的意义上充当实际共引发剂，同时其充当UV范围的光引发剂。在本发明中，可以使用一种共引发剂或共引发剂混合物。对共引发剂的量没有特别限制；但是其优选为干层重量的0.2至25重量％，尤其优选0.5至15重量％。在WO2004/041544、WO2000/48836和DE102004003143中也提到适用于IR-光敏涂层的敏化剂和共引发剂的进一步实例。可自由基聚合的组分可以使用包含至少一个非芳族C-C双键的所有单体、低聚物和聚合物作为可自由基聚合的单体、低聚物和聚合物。也可以使用带有C-C三键的单体/低聚物/聚合物，但是它们不优选。合适的化合物是本领域技术人员公知的并可以没有任何特别限制地用在本发明中。单体、低聚物或预聚物形式的含有一个或多个不饱和基团的丙烯酸和甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸和异巴豆酸、马来酸和富马酸的酯是优选的。它们可以以固体或液体形式存在，其中固体和高粘形式是优选的。适合作为单体的化合物包括例如三羟甲基丙烷三丙烯酸酯和三甲基丙烯酸酯、三丙烯酸季戊四醇酯或三曱基丙烯酸季戊四醇酯、双季戊四醇单羟基五丙烯酸酯和五曱基丙烯酸酯、双季戊四醇六丙烯酸酯和六曱基丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯和四甲基丙烯酸酯、双三幾曱基丙烷四丙烯酸酯和四甲基丙烯酸酯、二乙二醇二丙烯酸酯和二曱基丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯和二曱基丙烯酸酯或四乙二醇二丙烯酸酯和二甲基丙烯酸酯。合适的低聚物和/或预聚物是例如聚氨酯丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯和曱基丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯和曱基丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯和曱基丙烯酸酯或不饱和聚酯树脂。除单体和/或低聚物外，也可以使用在主链或侧链中包含可自由基聚合的c-c双键的聚合物。其实例包括马来酸酐共聚物与(甲基)丙烯酸羟烷基酯的反应产物(参见例如DE4311738Cl);用烯丙醇部分或全部酯化的(甲基)丙烯酸聚合物(参见例如DE3332640Al);聚合多元醇与异氰酸根合烷基(甲基)丙烯酸酯的反应产物；不饱和聚酯；(曱基)丙烯26酸酯封端的聚苯乙烯、聚(曱基)丙烯酸酯、聚(曱基)丙烯酸、聚(甲基)丙烯酰胺；用包含可自由基聚合基团的环氧化物部分或全部酯化的(曱基)丙烯酸聚合物；例如可通过(曱基)丙烯酸烯丙酯(任选与其它共聚单体)的聚合获得的具有烯丙基侧基的聚合物；用乙烯醇部分酯化的(甲基)丙烯酸聚合物；和用(曱基)丙烯酸乙二醇酯部分酯化的(曱基)丙烯酸聚合物。本发明中可用的可自由基聚合化合物也包括分子量为3，000或更低的化合物，并且是通过使二异氰酸酯与(i)含一个羟基的烯键式不饱和化合物和同时与(ii)含一个NH基团和一个OH基团的饱和有机化合物反应获得的反应产物，其中反应物以符合下列条件的量使用异氰酸酯基团的摩尔数《OH+NH基团的摩尔数二异氰酸酯的实例如下式所示0=C=N-(CR92)a-D-(CR92)b-N=C=0(IX)其中a和b独立地代表0或1至3的整数，各个R"虫立地选自H和C广C3烷基，且D是饱和或不饱和的间隔基，其可以任选包含除两个异氰酸酯基团外的其它取代基。D可以是链型或环型单元。本发明中所用的术语"二异氰酸酯"是指包含两个异氰酸酯基团但不含OH基团和仲氨基和伯氨基的有机化合物。D可以例如是亚烷基(CH2)w,其中w是1至12的整数，优选1至6，且一个或多个氢原子任选被如烷基(优选CrC6)的取代基替代；环亚烷基；亚芳基或饱和或不饱和二价杂环基。包含羟基的烯键式不饱和化合物(i)包含至少一个非芳族C-C双键，其任选为端基。该羟基优选不键合到双重键合的碳原子上；该羟基不是羧基的一部分。除一个OH基团外，该烯键式不饱和化合物(i)不含任何可以与异氰酸酯反应的其它官能团，例如NH。烯键式不饱和化合物(i)的实例包括(曱基)丙烯酸羟基(Crd2)烷基酯(例如(曱基)丙烯酸2-羟乙基酯、(甲基)丙烯酸2-或3-羟丙基酯、(曱基)丙烯酸2-、3-或4-羟丁基酯)、羟基(Crd2)烷基-(曱基)丙烯酰胺(例如2-羟乙基(曱基)丙烯酰胺、2-或3-羟丙基(曱基)丙烯酰胺、2-、3-或4-羟丁基(曱基)丙烯酰胺)、低聚或聚合的乙二醇或丙二醇的单(甲基)丙烯酸酯(例如聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇单(甲基)丙烯酸酯)、烯丙醇、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、4-羟基(d-Cu)烷基苯乙烯(例如，4-羟曱基苯乙烯)、4-羟基苯乙烯、羟基环己基(甲基)丙烯酸酯。本发明通篇使用的术语"(曱基)丙烯酸酯"及类似术语表示甲基丙烯酸酯和丙烯酸酯等。饱和有机化合物(ii)是具有一个OH和一个NH基团的化合物。该饱和有机化合物(ii)例如可以由下式(X)或(XI)表示其中R"是直链(优选C广d2、尤其优选d-C4)、支链(优选C3-Cu、尤其优选C3-C6)或环状(优选CrCs、尤其优选Cs-C6)烷基，E是直链(优选CrC6、尤其优选CrC2)、支链(优选CVd2、尤其优选C3-C6)或环状(优选C3-C8、尤其优选C5-C6)亚烷基，Y代表含5至7个环原子的饱和杂环，其除如上所示的氮原子外任选还包含另一个选自S、O的杂原子和NR12,其中R^是任选被OH基团取代的烷基，R"是OH或被OH基团取代的直链、支链或环状烷基，且如果该杂环包含NR12且1112是被OH取代的烷基，z=0，且如果该饱和杂环不含NR^或如果该饱和杂环包含NR"且1112是未取代的烷基，z=1。异氰酸酯基团的摩尔数必须不超过OH基团和NH基团的总摩尔数，因为该产物不应该再包含自由异氰酸酯基团。在例如EP1176007A2中描述了其它合适的C-C不饱和可自由基聚合化合物。Rlu—N-E~OH当然可以使用不同类型的单体、低聚物或聚合物的混合物；此外，在本发明中可以使用单体和低聚物和/或聚合物的混合物，以及低聚物和聚合物的混合物。可自由基聚合的组分优选以干层重量的5至95重量％,尤其优选10至85重量％的量使用。无论该元件是UV/VIS-还是IR-敏感的，可光致聚合的涂层除了基本组分外还可以包含一种或多种下列任选组分。如果该涂层由几层构成，任选组分可以存在于一层、几层或所有层中。可以存在在可见光语范围内具有高吸收的染料或颜料以提高对比度("对比染料和颜料")。特别合适的染料和颜料是在用于涂布的溶剂或溶剂混合物中充分溶解或容易以颜料分散体形式引入的那些。合适的对比染料尤其包括若丹明染料、三芳基曱烷染料，如Victoria蓝R和Victoria蓝BO、结晶紫和甲基紫、蒽醌颜料、偶氮颜料和酞菁染料和/或颜料。着色剂优选以干层重量的0至15重量％，更优选0.5至10重量％,特别优选1.5至7重量％的量存在。此外，该层可以包含表面活性剂(例如阴离子型、阳离子型、两性的或非离子型表面活性剂或其混合物)。合适的实例包括含氟聚合物、具有环氧乙烷和/或环氧丙烷基团的聚合物、山梨糖醇-三-硬脂酸酯和烷基-二-(氨基乙基)-甘氨酸。它们优选以干层重量的0至10重量％,更优选0.1至5重量％,尤其优选0.2至1重量％的量存在。该层还可以包含印出染料，如结晶紫内酯或光致变色染料(例如螺环吡喃等)。它们优选以干层重量的0至15重量％,尤其优选0.5至5重量％的量存在。此外，层中可以存在流动改进剂，例如聚(甘醇)醚-改性的硅氧烷；它们优选以干层重量的0至1重量％的量存在。该层可以进一步包含抗氧化剂，例如巯基化合物(2-巯基-苯并咪唑、2-巯基苯并噻唑、2-巯基苯并嗜唑和3-巯基-l,2,4-三唑)和磷酸三苯酯。它们优选以干层重量的0至15重量％,尤其优选0.5至5重量％的量存在。当然也可以存在其它涂料添加剂。可自由基聚合涂层的任选组々29是在可光致聚合涂层上施加罩面层以便在储存、曝光过程中，特别在曝光和进一步加工之间的期间保护该涂层免受大气氧作用。在此期况下确保安全操作(制造y包装、运输、、曝光等)。、、除了作为氧阻隔层的功能外，该罩面层也保护可光致聚合的涂层免受指印和机械破坏如划痕。文献中描迷了大量适合用于此类罩面层的水溶性聚合物。合适的实例是聚乙烯醇、也可以含有乙烯基醚和乙烯基缩醛单元的部分皂化的聚乙酸乙烯酯、聚乙烯基吡咯烷酮及其与乙酸乙烯酯和乙烯基醚的共聚物、羟烷基纤维素、明胶、聚丙烯酸、阿拉伯树胶、聚丙烯酰胺、糊精、环糊精、烷基乙烯基醚和马来酸酐的共聚物以及分子量高于5,000的环氧乙烷的水溶性高分子聚合物是特别合适的。聚乙烯醇是优选的罩面层聚合物。也可以使用如WO99/06890中所述的与聚(l-乙烯基咪唑)或1-乙烯基-咪唑和至少一种其它单体的共聚物结合的聚乙烯醇。聚乙烯醇也可以与作为粘合剂的聚乙烯基吡咯烷酮结合使用。在US3,458,311、US4,072，527、US4,072，528、EP275147A1、EP403096Al、EP354475Al、EP465034Al和EP352630Al中也描述了罩面层。在优选实施方案中，该罩面层包含聚乙烯醇或与聚(l-乙烯基咪唑)结合的聚乙烯醇(或其共聚物)。合适的聚乙烯醇可以以不贵的价格购得。它们通常具有0.1至30重量％的乙酸根残留量。尤其优选的是由残留乙酸根含量为1.5至22重量%的聚乙酸乙烯酯获得的聚乙烯醇。通过所用聚乙烯醇的分子量，可以控制本发明的罩面层的粘合性和水溶性。较低分子量有利于用水溶液除去罩面层。可以通过熟练从业者已知的表面涂布法，如刮涂、辊涂、狭缝涂布、幕涂、喷涂或浸渍法施加水溶性罩面层。0.05至10克/平方米，更优选0.2至3克/平方米，最优选0.3至1克/平方米的干层重量是合适的。在许多情况下，在水溶液中施加水溶性罩面层是有利的。这对环境和人体具有最不有害的影响。但是，对一些用途而言，使用有机溶剂也有利。在一些基底中，在30涂布水溶液中加入0.5至60重量％的有机溶剂改进了粘合性。通过要被罩面的表面的轻微溶剂化，进一步提高本发明的罩面层的聚合物的粘合作用。这类充当溶剂的添加剂可以是例如醇或酮。为了均匀和迅速地润湿要涂布的表面，可以在涂布溶液中加入阴离子型、阳离子型或非离子型润湿剂。罩面层可以进一步包含稳定剂、防腐剂、染料、泡沫分离剂和流变添加剂。》"濕本发明的方法中所用的加工液是pH值为9.5至14的碱性水溶液。,A可以使用自来水、去离子水或蒸馏水。水的量优选为加工液总重量的45至95重量％,尤其优选50至90重量％且特别优选55至85重量％。减/擅为、石威性组分选自》咸金属硅酸盐、；威金属氢氧化物、Na3P04、K3P04、NR4OH，其中各个R独立地选自d-C4烷基和CrQ羟烷基，及其2种或更多种的混合物。选择碱性组分的量(或在混合物的情况下，碱性组分的总量)以使加工液的pH值为9.5至14,优选地，pH值为10.5至13。本发明中所用的术语"碱金属硅酸盐"还包括偏硅酸盐和水玻璃。硅酸钠和硅酸钾是优选的硅酸盐。当使用碱金属硅酸盐时，硅酸盐的量优选为加工液的至少1重量％(按Sl02计算)。在石咸金属氢氧化物中，NaOH和KOH尤其优选。通常，使用碱金属偏硅酸盐容易在不用其它碱性添加剂如碱金属氢氧化物的情况下提供大于12的pH值。当使用水玻璃时，如果需要高于12的pH值，还要使用碱金属氢氧化物。优选的季铵氢氧化物NR4OH包括例如四甲基氢氧化铵、三甲基乙醇氢氧化铵、曱基三乙醇氢氧化铵及其混合物；尤其优选的氢氧化铵是四曱基氢氧化铵。对表面活性剂没有具体限制，只要其与加工液的其它组分相容，并且可溶于pH值为9.5至14的碱性水溶液。该表面活性剂可以是阳离子型、阴离子型、两性型或非离子型的。阴离子型表面活性剂的实例包括aliphates、松香盐、羟基链烷磺酸盐、烷基磺酸盐、二烷基磺基丁二酸盐、直链烷基苯磺酸盐、支链烷基苯磺酸盐、烷基萘磺酸盐、烷基苯氧基聚氧乙烯丙基磺酸盐、聚氧乙烯烷基磺苯基醚的盐、N-曱基-N-油烯基牛磺酸钠、N-烷基磺基琥珀酸单酰胺二钠、石油磺酸盐、硫酸化蓖麻油、硫酸化牛油、脂族烷基酯的硫酸酯的盐、烷基硫酸酯的盐、聚氧乙烯烷基醚的硫酸酯、脂族甘油单酸酯的硫酸酯的盐、聚氧乙烯烷基苯基醚的硫酸酯的盐、聚氧乙烯苯乙烯基苯基醚的硫酸酯的盐、烷基磷酸酯的盐、聚氧乙烯烷基醚的磷酸酯的盐、聚氧乙烯烷基苯基醚的磷酸酯的盐、苯乙烯马来酸酐共聚物的部分鬼化的化合物、烯烃-马来酸酐共聚物的部分皂化的化合物、萘磺酸酯-曱醛缩合物、十二烷基苯氧基苯二磺酸钠、烷基化萘磺酸钠盐、亚甲基-二萘-二磺酸的二钠盐、十二烷基苯磺酸钠、(二)磺酸化烷基二苯醚、全氟烷基磺酸的铵盐或钾盐、以及二辛基-磺基丁二酸钠。这些阴离子型表面活性剂中特别优选的是烷基萘磺酸盐、二磺酸化烷基二苯醚和烷基磺酸盐。非离子型表面活性剂的合适实例包括聚氧乙烯烷基醚、聚氧乙烯烷基苯基醚、聚氧乙烯聚苯乙烯基苯基醚、聚氧乙烯聚氧丙烯烷基醚、聚氧乙烯聚氧丙烯嵌段聚合物、甘油脂族酸的偏酯、脱水山梨醇脂族酸的偏酯、季戊四醇脂族酸的偏酯、丙二醇单脂族酸酯、蔗糖脂族酸的偏酯、聚氧乙烯脱水山梨醇脂族酸的偏酯、聚氧乙烯山梨糖醇脂族酸的偏酯、聚乙二醇脂族酯、聚-甘油脂族酸的偏酯、聚氧乙烯化蓖麻油、聚氧乙烯甘油脂族酸的偏酯、脂族二乙醇酰胺、N,N-双-2-羟基烷基胺、聚氧乙烯烷基胺、三乙醇胺脂族酯、和三烷基胺氧化物。这些非离子型表面活性剂中特别优选的是聚氧乙烯烷基苯基醚和聚氧乙烯-聚氧丙烯嵌段聚合物。此外，类似地可以使用氟类(fluorinic)和硅类(siliconic)阴离子型和非离子型表面活性剂。优选的非离子型表面活性剂是聚氧乙烯和/或聚氧丙烯烷基醚。两性表面活性剂是例如N-烷基氨基酸三乙醇铵盐、椰油酰氨基丙基甜菜碱、椰油酰氨基烷基甘氨酸盐、短链烷基氨基羧酸的钠盐、N-2-羟乙基-N-2-羧基乙基脂肪酸酰氨基乙胺钠盐和羧酸酰氨基醚丙酸盐；优选的是椰油酰氨基丙基甜菜碱。阳离子型表面活性剂的实例是四烷基氯化铵，如四丁基氯化铵和四曱基氯化铵，以及聚丙氧基化氯化季铵。非离子型、阴离子型和两性表面活性剂及其混合物是优选的。可以联合使用两种或更多种上述表面活性剂。对表面活性剂的量(或如果使用多于一种，则是表面活性剂的总量)没有具体限制，但优选为加工液总重量的0.01至20重量％,更优选2至8重量％。加工液的另一基本组分是水溶性成膜亲水聚合物。合适的聚合物的实例是阿拉伯树胶、支链淀粉、纤维素衍生物如羧甲基纤维素、羧乙基纤维素或曱基纤维素，淀粉衍生物如(环)糊精，聚(乙烯醇)、聚(乙烯基吡咯烷酮)、多羟基化合物如多糖，丙烯酸、曱基丙烯酸或丙烯酰胺的均聚物和共聚物、乙烯基曱基醚与马来酸肝的共聚物、乙酸乙烯酯与马来酸酐的共聚物或苯乙烯与马来酸肝的共聚物。优选的聚合物是含有羧酸、磺酸或膦酸基团或其盐的单体(例如(曱基)丙烯酸、乙酸乙烯酯、苯乙烯磺酸、乙烯基磺酸、乙烯基膦酸和丙烯酰氨基丙烷磺酸)的均聚物或共聚物、多羟基化合物和淀粉衍生物。多羟基化合物和淀粉衍生物尤其优选。淀粉衍生物应当是水溶性的，优选可溶于冷水，并选自如糊精和环糊精的淀粉水解产物、如磷酸酯和氨基甲酸酯的淀粉酯、如阳离子型淀粉醚和羟丙基醚的淀粉醚，羧曱基淀粉和乙酰化淀粉；上述衍生物中糊精(包括含有四硼酸钠并可以硼砂糊精为名购自EmslandStarkeGmbH的糊精)是优选的。用作淀粉衍生物的原材料的淀粉可以是各种来源的，其可以获自例如玉米、马铃薯、黑麦、小麦、水稻、木薯、木薯淀粉、栗子或橡子；玉米淀粉和马铃薯淀粉是优选的。合适的水溶性多羟基化合物可以表示为下列结构R乂CHOH)nR233其中n是4至7;且或者(i)W是氢、芳基或CH20H;且W是氢、具有1至4个碳原子的烷基、其中的W是氢或具有1至4个碳原子的烷基的CH2OR3,其中的R4和RS各自独立地为氢或具有1至4个碳原子的烷基的CH2N(R4R5),或C02H,或者(ii)R^和W—起形成碳-碳单键。在一组多羟基化合物中，Ri是氢或CH20H,且W是氢。在这些多羟基化合物的优选组中，n是5或6。该组包括糖醇，结构为H(CHOH)nH的化合物，其不含游离醛或酮基团，并且没有表现出还原性。糖醇可以获自天然来源，或通过还原糖的氢化制备。优选的糖醇包括甘露醇、山梨糖醇、木糖醇、核糖醇和阿拉伯糖醇。其它糖醇包括例如塔罗糖醇(ta固)、卫矛醇和异卫矛醇(allodulcitol)。在另一组多羟基化合物中，1^和112—起形成碳-碳单键。包括以下结构的碳环化合物(CHOH)n，其中n是4至7。在这些多羟基化合物的优选组中，n是5或6，更优选为6。1,2,3,4,5,6-六羟基环己烷有九种可能的立体异构体，其中几种是天然存在的。优选的多羟基化合物是内消旋-肌醇(顺式-l,2,3,5-反式-4,6-六羟基环己烷)。内消旋-肌醇可以从玉米浸渍液体中分离。在另一组多羟基化合物中，W是氢、芳基或CH20H;且R是具有1至4个碳原子的烷基、其中的W是具有1至4个碳原子的烷基的CH2OR3、其中的I^和RS各自独立地为H或具有1至4个碳原子的烷基的CH2N(R4R5)、或C02H。在另一组多羟基化合物中，W是氢或CH20H;且RS是C02H。更优选地，W是H且n是4或5。该组包括结构H(CHOH)nC02H的多羟基化合物，其中n是4或5。概念上，这些多羟基化合物可以通过相应已糖或戊糖的氧化来制造，即己糖(如葡萄糖、半乳糖、阿洛糖、甘露糖等)的醛基的氧化，或戊糖(如阿拉伯糖、核糖、木糖等)的醛的氧化。特别优选的多羟基化合物是上文提到的糖醇，如山梨糖醇。对成膜聚合物的量没有具体限制；其优选为加工液总重量的1至30重量％，更优选5至20重量％。分(即表面活性剂、成膜亲水聚合物和碱性化合物)夕卜，本发明中所用的加工液可以含有其它添加剂，如有才几溶剂、抗微生物剂、络合剂、緩沖物质、染料、防沫剂、添味剂、防腐蚀剂和自由基抑制剂。合适的防沫剂包括例如市售SiliconeAntifoamEmulsionSE57(Wacker)、TRITONCF32(Rohm&Haas)、AKYPOLF(醚羧酸ChemY)、Agitan190(MiinzingChemie)、TEGOFoamese825(改性聚硅氧烷，TEGOChemieServiceGmbH,Germany)。有机硅基(Silicone-based)防沫剂是优选的。它们可以分散或溶解在水中。加工液中防沫剂的量优选为加工液重量的0至1重量％,尤其优选0.01至0.5重量％。可以^使用一种防沫剂或两种或多种防沫剂的混合物。合适的緩冲物质包括例如三(羟曱基)-氨基曱烷(TRIS)、磷酸氢盐、甘氨酸、3-(环己氨基)-丙烷磺酸(CAPS)、碳酸氢盐、包括硼砂的硼酸盐、2-氨基-2-曱基-l-丙醇(AMP)、3-(环己氨基)-2-羟基-l-丙烷磺酸(CAPSO)、和2-(N-环己氨基)乙烷磺酸(CHES)。抗微生物剂应有效对抗细菌、真菌和/或酵母。合适的抗微生物剂包括例如N-羟曱基-氯乙酰胺、苯曱酸、苯酚或其衍生物、福尔马林、咪唑衍生物、异噻唑啉酮衍生物、苯并三唑衍生物、脒类、胍衍生物、季铵盐、吡咬、喹啉衍生物、二。秦、三唑衍生物、哺唑和哺。秦衍生物及其混合物。对它们的量没有特殊限制，优选在加工液中占该溶液总重量的0至10重量％,尤其优选0.1至1重量％。可以^使用一种抗;徵生物剂或两种或多种抗微生物剂的混合物。合适的络合剂的实例包括氨基多羧酸及其盐，如乙二胺四乙酸及其钟或钠盐、二亚乙基三胺五乙酸及其钾或钠盐、三亚乙基四氨基-六乙酸及其钾或钠盐、羟乙基乙二胺三乙酸及其钾或钠盐、次氮基三乙酸及其钾或钠盐、1,2-二氨基环己烷-四乙酸及其钟或钠盐和1,3-二氨基-2-丙醇-四乙酸及其钾或钠盐以及有机膦酸、膦酰基链烷三羧酸或其盐，如2-膦酰基丁烷-l,2,4-三羧酸及其钾或钠盐、膦酰基丁烷-2,3,4-三羧酸及其钾或钠盐、膦酰基乙烷-2,2,2-三羧酸及其钾或钠盐、氨基三-(亚甲基膦酸)及其钾或钠盐、以及葡萄糖酸钠。该络合剂可以单独使用，或两种或多种混合使用。可以使用上述络合剂的有机胺盐代替其钾或钠盐。络合剂的量优选在加工液中占该溶液总重量的0至5重量％,尤其优选0.01至351重量％。该加工液还可以包含有机溶剂或有机溶剂的混合物。该加工液为单相。因此，有机溶剂必须可以与水混溶，或至少在加工液中可以溶解到将其添加到加工液中时不会发生相分离的程度。下列溶剂和这些溶剂的混合物适用在加工液中苯酚与环氧乙烷和环氧丙烷的反应产物，如乙二醇苯醚；千醇；乙二醇和丙二醇与具有六个或更少碳原子的酸的酯，和乙二醇、二乙二醇和丙二醇与具有六个或更少碳原子的烷基的醚，如2-乙基乙醇和2-丁氧基乙醇。可以使用单一有机溶剂或有机溶剂的混合物。该有机溶剂通常在加工液中以加工液重量的大约0重量％至大约15重量％的浓度存在，优选为加工液重量的大约3重量％至大约5重量％。如在US6，383,717Bl和US6,482,578B2中详细描述的那样，由于可自由基聚合材料的累积，在显影剂浴中可能形成淤渣。在加工液中存在至少一种选自滤光染料和自由基抑制剂的材料可以防止生成淤渣。滤光染料吸收环境紫外线和可见光辐射，并降低加载的加工液中存在的辐射敏感引发剂体系吸收的辐射量。自由基抑制剂抑制加载的加工液中单体的自由基聚合。滤光染料的吸收与辐射敏感的引发剂体系的吸收相配合，此外，滤光染料应该在加工液中稳定并且不应该与加工液或辐射敏感层的组分发生任何化学反应或相互作用。在曰光或类似条件下产生稳定化作用所需的滤光染料的浓度取决于许多因素；但是，滤光染料的浓度优选为加工液重量的大约0至2重量％,优选为加工液重量的大约0.4至2重量％。滤光染料必须充分可溶于加工液以使足够的滤光染料可溶解在加工液中以吸收光"i普的大约350纳米至大约650纳米区域内的辐射。净皮一个或多个磺酸根取代的染料通常在显影剂中具有足够的可溶性。优选的染料包括被磺酸根取代的淡黄色、黄色、橙色和红色染料。尤其优选的是磺化偶氮染料。合适的染料包括例如间胺黄(C丄13065)和其它类似的水溶性偶氮染料，例如曱基橙(C丄13025)、金莲橙O(C.I.14270)、金莲橙00(C.I.13080)、酒石黄(C.I.19140);氧镎醇黄(OxonolYellow)K(Riedel誦de-Haen);酸性黄类型的染料，如C.I.13900、C.I.14170、C.I.18835、C.I.18965、C.I.18890、C.I.18900、C.I.18950(普拉黄)、C.I.3622910和C丄25135;以及酸性红类型的染料，如C.I.14710、C.I.14900、C丄17045、C.I.18050、C.I.18070和C.I.22890。其它合适的染料是本领域技术人员显而易见的。可以使用单一滤光染料，或滤光染料的混合物。合适的自由基抑制剂(也称为聚合物稳定剂或自由基捕集剂)在单体和聚合物稳定化领域是公知的。有可能可以使用能够与自由基反应形成不会引发单体聚合，在加工液中具有足够溶解度和稳定性并且不会不利地影响加工液或印刷版的性质的产物的任何材料。它们包括例如含有醌或氢醌部分的化合物，尤其是苯醌和取代苯醌，以及氬醌和取代氬醌，如氢醌单甲醚(4-曱氧基酚)、叔丁基氬醌(4-叔丁基酚，TBHQ)和叔丁基羟基苯甲醚(BHA);recorcinol、pyrrogallol、磷酸酯；以及受阻盼和双酚，如2,6-二叔丁基-4-曱基酚(BHT)和2,6-二叔丁基-4-甲氧基酚、2,4,6-三叔丁基酚；稳定的自由基，如二叔丁基硝基氧和2,2,6,6-四甲基-4-p比啶酮硝基氧；硝基取代的芳族化合物；氨基酚；吩噻嗪；和仲二芳基胺，如取代二苯胺、N,N'-二苯基-对苯二胺和N-苯基-萘基胺。优选的自由基抑制剂是醌、氢醌、氩醌的醚以及受阻酚。更优选的是氬醌类的醚，尤其是氢醌的醚，以及受阻酚。优选的化合物是氢醌单甲醚(4-曱氧基酚)、2,6-二叔丁基-4-甲基酚和2,4,6-三叔丁基酚。可以使用单一的自由基抑制剂，或自由基抑制剂的混合物。该自由基抑制剂或自由基抑制剂混合物通常在加工液中以加工液重量的大约0重量％至大约3.0重量％的浓度存在，优选为加工液重量的大约0.5重量％至大约1.5重量％。防腐蚀剂的实例是膦酸及其盐，如羟乙基膦酸及其盐、氨基三亚曱基膦酸及其盐和二乙三胺五亚曱基膦酸及其盐；磷酸盐，如磷酸三钠；硼酸盐，如硼砂、；以及甘油和具有下式的甘醇R20"CH《CH2)Z-CH-R2'OHOH(其中z是0、1或2,R^和R"独立地为氢或d-C3烷基)。防腐蚀剂或此类试剂的混合物通常在加工液中以加工液重量的大约0至10重量％的浓度存在，优选为0.1至5重量％,在甘油或甘醇的情况下为5至10重量％。依图像曝光如果可光致聚合涂层中所用的吸收剂组分吸收UV/VIS辐射，以本领域技术人员已知的方式用波长250至750纳米的UV/VIS辐射将前体依图像曝光。为此，可以使用普通灯，如碳孤灯、汞灯、氙灯和金属卤化物灯，或激光器或激光二极管。发射在大约405纳米范围内(例如405±IO纳米)的UV辐射的UV激光二极管、发射可见光范围U88纳米或514纳米)的氩离子激光器和发射大约532纳米的频率加倍fd:Nd:YAG激光器特别可用作辐射源。激光辐射可以经由电脑数字控制，即其可以经由电脑中存储的数字化信息开启或切断以便可以实现版的依图像曝光；由此，可以获得所谓的电脑制版(ctp)印刷版。如果吸收剂组分吸收IR辐射，即显著吸收波长在大于750至1200纳米范围内的辐射，并优选在其吸收语中在此范围内表现出最大吸收，可以用IR辐射源进行依图像曝光。合适的辐射源是例如半导体激光器或在750至1200纳米范围内发光的激光二极管，例如Nd:YAG激光器(1,064纳米)，在790至990纳米之间发光的激光二极管，和Ti:蓝宝石激光器。该激光辐射可以经由电脑数字控制，即其可以经由电脑中存储的数字化信息开启或切断以便可实现版的依图像曝光；由此，可以获得所谓的电脑制版(ctp)印刷版。可以使用本领域技术人员已知的配有IR激光器的任何图像照排机(image-setters)。依图像曝光的前体包含曝光和未曝光的涂层区域。曝光前体的力口工在曝光后，在没有任何预洗步骤(其通常用于除去罩面层)的情况下将前体用加工液处理。一艮据一个实施方案，在曝光和用加工液处理之间进行预热步骤。通过用加工液处理曝光的前体，在曝光和未曝光区域中除去罩面层，在单一步骤中除去辐射敏感涂层的未曝光区域和为显影的前体提供保护性胶料。尽管在用碱性显影剂处理之后在施加通常酸性涂胶溶液之前通常将前体用水漂洗，但根据本发明的方法不进行这种漂洗步骤。此外，根据本发明的方法，在已经用加工液处理曝光前体后不进行涂胶步骤。38通常，通过用含这种液体的涂施器摩擦或擦拭可成像层，使曝光的前体与加工液接触。或者，可以用加工液刷拭曝光前体或可以将加工液通过喷涂施加到前体上。也可以通过将曝光前体浸在加工液浴中来用加工液进行处理。在任一情况下，制造无罩面层的显影和涂胶的版。优选地，可以在仅含一个加工液浴和干燥段的市售加工机，如TDP60(KodakPolychromeGraphics)中进行加工。另外，可以在加工机中并入电导率测量装置。尽管可以使用配有浸渍型显影浴、水漂洗段、涂胶段和干燥段的传统加工机，但漂洗步骤和涂胶步骤不根据本发明的方法进行。本发明的优点在于，可以使用仅含一个浴和干燥段的简单加工机，因为这类加工机比带有漂洗和涂胶段的加工机小和便宜得多，并因此节省空间和成本。另外，可以在加工机中并入电导率测量装置以控制加工液的显影剂活性。曝光的前体通常用加工液在18。C至大约28"下处理大约5秒至大约60秒。在已经加工了一定数量的曝光前体后，加工液浴的显影活性(例如通过滴定或电导率测量法测得)降至低于预定水平。在加工浴中加入新鲜加工液(也称作"注满"法)。通常每1平方米加工的前体必需大约30毫升至大约100毫升，通常大约50-80毫升的新鲜加工液以保持加工液的体积及其活性/电导率值常数。加工过的平版印刷版包含已经除去可成像层以暴露出下方亲水基底表面的区域，和没有除去可成像层的补充(complimentary)区域。尚未除去可成像层的区域是接受墨的。可以加入补充剂来代替添加新鲜加工液，以使加工浴的活性保持恒定。补充剂合适地与新鲜加工液的不同之处在于，碱性试剂的浓度高于所用新鲜加工液中石咸性试剂的浓度；其它组分的浓度可以与新鲜加工液中相同或更高。在前体已经与加工液接触后，除去留在前体上的任何过量的所述加工液(例如借助挤压辊)；这种除去步骤不在于或包含用液体(如水等)洗涤/漂洗前体。在后继任选干燥步骤后，将加工过的前体转移到印刷机。在印刷才几上，4吏加工过的前体同时或接连(以任何次序，卩旦优选先润版液，再油墨)与润版液和印刷油墨接触。通过使前体与润版液和油墨接触，此后与纸接触，除去通过用加工液处理尚未除去的任何残留的多余39涂层(非图像区域和/或罩面层中的辐射敏感涂层)。因此，本发明的方法可以被解释为通过用加工液处理而进行的"传统显影"(即通过显影剂水溶液除去辐射敏感涂层的未曝光区域)与在印刷机上(on-press)显影的组合；在本发明中，用加工液处理不仅除去辐射敏感涂层的未曝光区域，还在单个步骤中也除去罩面层，并提供了涂胶，从而避免了罩面层洗除、漂洗和单独涂胶的单独步骤。在下列实施例中更详细描述本发明；但是，它们不是要以任何方式限制本发明。使用下列缩写Desmodur100<formula>formulaseeoriginaldocumentpage40</formula>实施例三官能异氰酸酯(己二异氰酸酯的缩二脲)，可获自Bayer来自BASF的三芳基曱烷染料(2-羟乙基)丙烯酸酯(2-羟乙基)甲基丙烯酸酯2-(2-羟乙基)-哌啶六亚曱基二异氰酸酯来自SCJohnson&SonInc.USA的丙烯酸树脂，酸值=162毫克KOH/克可获自FEWChemicalsGmbH的IR吸收花青染料ciQ1摩尔磷酸和1.5摩尔羟乙基甲基丙烯酸酯的酉旨,可获自NipponKayaku阴离子型表面活性剂(烷基萘磺酸，钠盐)，NKEsterBPE500NKEsterBPE-200PETAPCI199RenolblueB2G-HWREWOPOL⑧NLS28TEXAPON842AmphotensidB5Dowfax2A1Surfynol465Dowfax8390MergalK7Sorbidex200Emdex30AN45可获自BASF乙氧基化双酚A二甲基丙烯酸酯，可获自ShinNakamuraLtd.乙氧基化双酚A二曱基丙烯酸酯，可获自ShinNakamuraLtd.季戊四醇三丙烯酸酯非离子型表面活性剂(乙氧基化/丙氧基化Cw-Cu醇)，可获自Polygon分散在聚乙烯醇缩丁醛中的铜酞菁颜料，可获自Clariant阴离子型表面活性剂(十二烷基硫酸钠)，可获自REWO阴离子型表面活性剂(辛基硫酸钠)，可获自Henkel两性表面活性剂(椰油酰氨基丙基甜菜碱)，可获自Zschimmer&SchwarzGmbH阴离子型表面活性剂(十二烷基二苯氧化物二石黄酸钠，45%),可获自DowChemicals非离子型表面活性剂(乙氧基化2,4,7,9-四曱基陽5陽發炔-4，7-二醇)，可获自Airproducts阴离子型表面活性剂(正十六烷基二苯氧化物二石黄酸钠，35%),可获自DowChemicals防腐剂(曱基氯代-异噻唑啉酮)，可获自Troy99。/oD-山梨糖醇，可获自Ceresda来自马铃薯淀粉的糊精，可溶于冷水，可获自EmslandStSrkeGmbH实施例1-10禾口只十比例1-15使用聚乙烯基膦酸(PVPA)水溶液后处理的电化学颗粒化和阳极化的铝箔在过滤溶液后用如表1至6中所示的组合物涂布。将版在90°C下干燥4分钟；所得干涂层重量显示在表l中。将所得样品用聚(乙烯醇)(来自Airproducts的Celvol203,水解度88%)的水溶液罩面以产生在90。C下干燥4分钟后具有如表1中所概括的罩面层干涂层重量的印刷版前体。版1至5的曝光如下进行用来自Creo(830nm)的Trendsetter3244,对成像版#2和#3使用含有用于评测复制件品质的不同元件的UGRA/FOGRAPostscriptStripversion2.0EPS(可获自UGRA)。用配有在405纳米下发光的激光二极管(P=30mW,cw)的图像照排机(AndromedaA750M，来自Lithotech)将印刷版#1和#4曝光。使具有指定色调值的UGRA灰度标V2.4(所有数据都线性化以大致获得所需色调值)照射到上述版前体上。另外，使用UGRA胶印试验标度(scale)1982以总曝光量测定版的敏感性。使用UGRA胶印试验标度1982用配有Ga掺杂Hg灯的Theimer真宝晒版架照射印刷版弁5。版的进一步加工如下样品号1、2和5在曝光后直接预热。所有版直接在配有2个硬毛刷辊的TDP60(KodakPolychromeGraphics)单浴加工机中用如表7中所示的加工液(在表7中，"CD"是指对比加工液)处理，在所述处理之前没有任何洗涤步骤。通过出口挤压辊除去过量液体并将版用温空气干燥；不进行附加洗涤步骤和涂胶步骤。将由此制成的版装在使用润版液和研磨油墨的片材给料胶版印刷机中(可获自SunChemical的OffsetS7184,其含有10%碳酸钙)。检查无图像区域的脏版情况(scumming)。如果该版在少于100个复制件内不整洁，印刷试验在1000个复制件时过早停止。否则，制造至多20000个复制件，但除非另行指明，可继续印刷工作。进行下列试马全可显影性对可显影性的评估而言，将5x30平方厘米的未曝光版条带浸入置于玻璃烧杯中的相应显影剂中，并每5秒将条带降至更深入显影剂4厘米。在此之前，将版#1、#2和#5在炉中在90。C下处理2分钟。在总共50秒后，将条带从显影剂中拉出，用水漂洗，并记录到达第一清洁步骤的时间作为显影时间。对405纳米辐射敏感的版(版#1、#4和#5)的光敏性使用上文公开的制版机在泛光照明下评测在405纳米下曝光的版的感光度(photospeed)。对这些版测得的感光度是在显影后获得UGRA标度的两个灰度进阶所需的能量。对830纳米辐射敏感的版(版#2和#3)的光敏性通过使版暴露在不同能量下，评测在830纳米下曝光的版的感光度(表3中公开的配方)。在显影后获得所有微结构元件的清晰图像所需的最低能量被取作与这种系统的光敏性相关的量。巻起(Rollup):计数印刷清晰图像之前所需的纸张数。当需要少于20张时，该性能被视为令人满意。可以从表8中推导出上述试验的结果。表1版号光致聚合物层光致聚合物层的涂层重量罩面层的涂层重量曝光步骤预热步骤1表21.7g/m22.5g/m2来自Lithotech的405nm(30mW)制版机ANDROMEDA90°C,2分钟2表31.7g/m22.0g/m2来自Creo的Trendsetter3244(830nm,40至90mJ/cm2)90°C,2分钟3表41.7g/m20.6g/m2来自Creo的Trendsetter3244(830nm,40至90mJ/cm2)无4表51.5g/m23g/m2来自Lithotech的405nm(30mW)制版机ANDROMEDA无5表62.0g/m22.0g/m2配有Ga掺杂的Hg灯的Theimer真空晒版架90°C，2分钟43表2<table>tableseeoriginaldocumentpage44</column></row><table>0.3!3g5_(4-乙烯基千基)硫代-1,3,4-瘗二唑-2-蓬吩(thiole)30ml丙二醇单曱醚3ml丙酮表42.92g通过20摩尔％曱基丙烯酸与80摩尔％甲基丙烯酸烯丙酯的反应制成的共聚物3.93g通过DesmodurNlOO与HEMA和PETA的反应制成的j氐聚物在甲乙酮中的30重量％溶液1.18gNKEsterBPE-200O.lOg苯胺二乙酸0.15g2-(4-曱氧基苯基)4.6-三氯甲基-l,3,5-三嗪0.07gBasonylViolet6100.02g磷酸(85%)0.09gIRdye66e0"g5-(4-乙烯基千基)硫代-l,3,4-噻二唑-2-硫醇0.18gKayamerPM-238ml丙二醇单甲醚4ml2-丁酮表51.62g由甲基丙烯酸烯丙酯和曱基丙烯酸制成的酸值为55的共聚物0.28g在丙二醇单曱醚中的分散体，其含有7.25重量％铜酞菁和7.25重量％的聚乙烯醇缩乙醛粘合剂，该粘合剂含有39.9摩尔％乙烯醇、1.2摩尔％乙酸乙烯酯、15.4摩尔％衍生自乙醛的缩醛基团、36.1摩尔％衍生自丁醛的缩醛基团和7.4衍生自4-甲酰苯甲酸的缩醛基团0.02gKayamerPM-20.2g丁基-3-甲基-咪唑错四氟硼酸盐"45g通过使包含丙烯酸羟乙酯的DesmodurN100(可获自45<table>tableseeoriginaldocumentpage46</column></row><table>表7力口工液成分组成PHDl水Surfynol465三磷酸钠Sorbidex防沫剂K90084.99重量％5重量％5重量％10重量％0.01重量％12.1D2水Surfynol465三磷酸钠Dextrin(Emdex30AN45)防沫剂K90079.99重量％5重量％5重量％10重量％0.01重量％11.9CD1水氩氧化钾溶液(45重量％)PCI19994.84重量％0.169重量％4.992重量％12.2CD2水REWOPOLNLS282-苯氧基乙醇二乙醇胺TEXAPON842NEKALPaste4-曱苯磺酸91.9重量％3.4重量％1.8重量％1.1重量％1.0重量％0.6重量％0.2重量％9.9CD3水Surfynol465AmphotensidB5氢氧化钠溶液(45重量％)94.8重量％2.5重量％2.5重量％0.2重量％12.2CD4水Dowfax2A1柠檬酸xH2080.5重量％19重量％0.5重量％5'5CD5水Dowfax8390氢氧化钾90%磷酸85%MergalK775.4重量％20重量％1.7重量％2.7重量％0.2重量％6.547表8实施例1-10和对比例1-15的结果<table>tableseeoriginaldocumentpage48</column></row><table>在实施例1-10中，在无预洗或后漂洗的在单浴加工机中使用加工液D1和D2的试验表现出良好的巻起性能且在印刷开始或重启时在印刷机上无脏版情况。使用含有碱性剂和表面活性剂但不含亲水成膜聚合物如Sorbidex的显影剂的对比例1-5表现出良好的可显影性,但印刷机上的脏版情况严重。对于含有亲水聚合物和表面活性剂但不含碱性剂的(加工液)对比例6-15,不可以从涂布版上除去非图像区域。权利要求1.制造成像的平版印刷版的方法，包括(a)用可自由基聚合涂层对其敏感的辐射依图像曝光负性工作的平版印刷版前体，其包含(i)具有亲水表面的基底(ii)可自由基聚合涂层和(iii)不透氧的水溶性或分散性罩面层(b)用水性的碱性加工液处理依图像曝光的前体，该加工液包含(i)水(ii)至少一种表面活性剂(iii)至少一种水溶性成膜亲水聚合物(iv)至少一种碱性试剂，其量足以获得9.5至14的pH，和(v)任选一种或多种选自有机溶剂、抗微生物剂、络合剂、缓冲物质、滤光染料、防沫剂、防腐蚀剂和自由基抑制剂的添加剂，(c)从步骤(b)中获得的处理过的前体中除去任何过量的加工液，(d)任选干燥，(e)任选烘烤，(f)将步骤(c)、(d)或(e)中获得的前体安装在印刷机上并随后使其同时或接连与润版液和印刷油墨接触，前提是在步骤(a)至(f)任意之间没有洗涤步骤，进一步前提是步骤(c)不是洗涤步骤且进一步前提是在步骤(b)后没有涂胶步骤。2.根据权利要求1的方法，其中可自由基聚合涂层对波长选自250至750纳米范围的辐射敏感，且在步骤(a)中，前体依图像曝光在波长选自250至750纳米范围的辐射下。3.根据权利要求1的方法，其中可自由基聚合涂层对波长选自大于750至1200纳米范围的辐射敏感，且在步骤(a)中，前体依图像曝光在波长选自大于750至1200纳米范围的辐射下。4.根据权利要求1至3任一项的方法，其中水溶性成膜亲水聚合物选自糊精和糖醇。5.根据权利要求1至4任一项的方法，其中加工液具有10.5至13的pH值。6.根据权利要求1至5任一项的方法，其中加工液包含非离子型表面活性剂。7.根据权利要求1至6任一项的方法，其中步骤(b)在加工液浴中进行。8.根据权利要求1至7任一项的方法，其中在步骤(c)中通过挤压辊除去过量加工液。9.根据权利要求1至8任一项的方法，其中该方法由步骤(a)、(b)、(c)、(d)和(f)构成。10.根据权利要求1至9任一项的方法，其中该方法在步骤(a)和(b)之间进一步包括预热步骤。全文摘要描述了由包含可自由基聚合涂层和不透氧罩面层的前体制造成像的平版印刷版的方法，其特征在于罩面层的去除、显影和涂胶在单一步骤中进行。文档编号G03F7/32GK101467104SQ200780022075公开日2009年6月24日申请日期2007年6月5日优先权日2006年6月14日发明者B·施特雷梅尔,C·辛普森,H·鲍曼,U·菲巴格申请人:伊斯曼柯达公司