取向膜的制备方法
【专利摘要】本发明公开了一种取向膜的制备方法，包括如下步骤：确定取向液的喷印区域，所述喷印区域包括在阵列基板与彩膜基板上的显示区域与中转区域；在所述喷印区域内喷印取向液，以形成取向液薄膜；对所述取向液薄膜进行取向作业，形成所述取向膜。在本发明中，通过外扩取向液的喷印区域，使取向膜因边缘扩散效应导致的不均匀的现象远离显示区域，提高其所最终形成的液晶显示装置的成像品质。
【专利说明】取向膜的制备方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及液晶显示领域，尤其涉及一种取向膜的制备方法。
【背景技术】
[0002] 通常，液晶显示面板由彩膜基板（Color Filter，CF)、薄膜晶体管阵列基板（Thin Film Transistor, TFT)、二者之间的液晶（Liquid Crystal, LC)分子、以及密封胶框 (Sealant)组成。其工作原理是通过TFT基板的通电控制液晶分子改变方向，将背光模组的 光线折射出来形成画面。
[0003] 在彩膜基板与阵列基板的制备过程中，需要涂布上取向液，如常用的聚酰亚胺，再 通过摩擦或光蚀刻后形成预倾角，从而给液晶分子提供一个承载的角度。
[0004] 通常，在聚酰亚胺取向液的涂布过程中，首先将聚酰亚胺取向液经过喷墨的方式 分别涂在阵列基板与彩膜基板上；然后经过预固化使聚酰亚胺溶液的溶剂挥发均匀成膜， 避免溶剂残留影响膜的均勻性；再经过主固化使聚酰胺酸（polyamic acid, PAA)环化成聚 酰亚胺薄膜（polyimide film，PI)，确保膜厚均勻性避免形成光斑（mura)。
[0005] 如图1所示，在阵列基板01或彩膜基板上涂布取向液，如聚酰亚胺溶液，并按照预 定图案成膜02。然而，阵列基板01上位于中转区域（Au transfer pad)03的位置以及彩膜 基板的对应位置不需要PI膜覆盖。如图2及图3所示，聚酰亚胺膜在A-A'区的边界常出 现不规则，且膜厚不均的现象，最终导致画面显示不均，出现漏光等现象。
[0006] 因此，如何设计一种取向膜的制备方法，使制备的取向膜的厚度均匀，成为液晶显 不设备的一大研发方向。
【发明内容】
[0007] 本发明的目的在于提供一种取向膜的制备方法，旨在可以使制备的取向膜的厚度 均匀，组装后形成的显示设备品质好，不易出现光斑（mura)。
[0008] 为解决上述技术问题，本发明实施例提供以下技术方案：
[0009] -种取向膜的制备方法，包括如下步骤：
[0010] 确定取向液的喷印区域，所述喷印区域包括在阵列基板与彩膜基板上的显示区域 与中转区域；
[0011] 在所述喷印区域内喷印取向液，以形成取向液薄膜；以及
[0012] 对所述取向液薄膜进行取向作业，形成所述取向膜。
[0013] 优选地，在所述形成取向液薄膜后的步骤还包括：
[0014] 在所述中转区域上涂布剥离液，所述剥离液用于溶解所述中转区域上的所述取向 液薄膜；
[0015] 将金球设置到所述中转区域的预定位置；以及
[0016] 将所述阵列基板与所述彩膜基板进行对组压合，使得所述金球导通所述阵列基板 与所述彩膜基板的透明电极层。
[0017] 优选地，在所述在中转区域上涂布剥离液的步骤后还包括：
[0018] 对所述中转区域的剥离液进行清洗，以去除在所述溶解步骤中所产生的杂质。
[0019] 优选地，在所述金球压穿所述取向膜的步骤中，还包括：
[0020] 在制备所述阵列基板时，在所述中转区域的所述阵列基板上形成环状的透明电极 层；
[0021] 所述金球设置于所述环状的透明电极层上。
[0022] 优选地，所述金球设置与所述环状的透明电极层上中转区域的步骤，包括：
[0023] 将所述金球均匀混合到框胶中；
[0024] 将混合所述金球的胶框涂布于所述环状的透明电极层上。
[0025] 为解决上述技术问题，本发明实施例提供以下技术方案：
[0026] -种取向膜的制备方法，包括如下步骤：
[0027] 确定取向液的喷印区域，所述喷印区域为阵列基板与彩膜基板相贴合的一侧的区 域；
[0028] 在所述喷印区域内喷印取向液；
[0029] 进行预固化后形成取向液薄膜；
[0030] 将所述喷印区域中显示区域之外的区域喷印剥离液进行剥离；
[0031] 通过清洗制程去除所述剥离所产生的杂质，以形成显示区域的取向液薄膜；以及
[0032] 对所述取向液薄膜进行固化与取向作业，以形成所述取向膜。
[0033] 优选地，所述取向作业包括：摩擦取向、紫外辐照法取向、或平版印刷法取向。
[0034] 优选地，所述取向包括均质平行取向、均质垂直取向、倾斜取向、以及混合取向。
[0035] 优选地，所述取向膜的厚度在0. 05?0. 1微米之间。
[0036] 相对于现有技术，本发明的取向膜的制备方法，在本发明中，通过外扩聚取向液的 喷印区域，使取向膜因边缘扩散效应导致的不均匀的现象远离显示区域，提高其所最终形 成的液晶显示装置的成像品质。
【专利附图】
【附图说明】
[0037] 为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面对实施例中所需 要使用的附图作简单的介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例， 对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获取 其他的附图。
[0038] 图1是【背景技术】中的取向膜的应用环境图。
[0039] 图2是【背景技术】中图1中A-A'的放大后的平面图。
[0040] 图3是【背景技术】中图1中A-A'的放大后的剖面图。
[0041] 图4是本发明实施例一中取向膜的制备方法。
[0042] 图5A与图5B分别是本发明实施例一中取向膜的原图案与外扩图案的示意图。
[0043] 图6是本发明实施例二中取向膜的在液晶盒中的剖面图。
[0044] 图7是本发明实施例三中取向膜的在液晶盒中的剖面图。
[0045] 图8是本发明实施例三中透明电极层在阵列基板中的示意图。
[0046] 图9是本发明中实施例三中取向膜的在液晶盒中的剖面图。
[0047] 图10A与图10B是本发明实施例四中取向膜的原图案与外扩图案的示意图。
【具体实施方式】
[0048] 请参照附图中的图式，其中相同的组件符号代表相同的组件。以下的说明是基于 所例示的本发明具体实施例，其不应被视为限制本发明未在此详述的其它具体实施例。
[0049] 实施例一
[0050] 请参阅图4,所示为本发明实施例提供的一种取向膜的制备方法，用于提供具有厚 度均匀、显示边界清晰的取向膜，所述制备方法包括如下步骤：
[0051] 在步骤S401中，首先确定取向液的喷印区域，所述喷印区域包括阵列基板与彩膜 基板上的显示区域与中转区域。
[0052] 可以理解的是：在上述阵列基板与彩膜基板上，所述显示区域用于在形成液晶面 板后进行画面显示，如图5A中的12a所示。
[0053] 可以理解的是，所述中转区域，围绕在显示区域的周围，通过涂布框胶连接所述阵 列基板以及所述彩膜基板。通常，中转区域对应的阵列基板与彩膜基板上将设置透明电极 层，中转区域的上将涂布导电的金球和框胶。
[0054] 所述喷印区域的示意图，如图5B中的12b所示，将原显示区域的边缘进行了外扩。
[0055] 在步骤S402中，在所述喷印区域内喷印取向溶液，形成取向液薄膜。
[0056] 在一实施例中，常见的取向溶液为聚酰亚胺（polyimide，PI)溶液，并在此步骤中 形成聚酰亚胺薄膜。
[0057] 在步骤S403中，对所述取向液薄膜进行取向作业，形成所述取向膜，其剖面结构 如图6所示。
[0058] 可以理解的是：所述取向作业包括：摩擦取向、紫外辐照法取向、或平版印刷法取 向等，目前常用的是摩擦取向。所述取向包括均质平行取向、均质垂直取向、倾斜取向、以及 混合取向。
[0059] 在步骤S404中，将金球设置到所述中转区域的预定位置。
[0060] 在步骤S405中，将所述阵列基板与所述彩膜基板进行对组压合，使得所述金球压 穿所述取向膜，并导通所述阵列基板与所述彩膜基板的透明电极层（ΙΤ0)。
[0061] 如图6所示，为对组之后压合之前取向膜的所在位置剖面图。其中阵列基板与所 述彩膜基板11上设置有中转区域13,取向膜11涂布于上述基板11以及中转区域13上，在 中转区域13上设置金球14,并通过框胶15进行固定和密封。可以理解的是，在压合之后， 金球14会压穿取向膜12而导通上述基板11的透明电极层（未标示）。
[0062] 其中，步骤S401-S404是取向膜自身的制备，步骤S405-S406是完成所述取向膜的 在液晶盒的中最终形态的制备。
[0063] 实施例二
[0064] 本发明实施例提供的一种取向膜的制备方法，用于提供具有厚度均匀、边界清晰 的取向膜，所述制备方法是在实施例一的基础上，在步骤S403至步骤S404之间增加了清理 中转区域的步骤。具体包括：
[0065] (1)在中转区域上涂布剥离液，用于溶解中转区域上面覆盖的取向液薄膜。
[0066] (2)对所述中转区域的剥离液进行清洗，以去除在所述溶解步骤中所产生的杂质。 这样既提升了显示区的取向膜厚度均匀性，同时使金球导通上下基板透明电极层的效果更 佳，其剖面结构如图7所示。
[0067] 请参阅图7,其中阵列基板与所述彩膜基板11上设置有中转区域13,取向膜12' 涂布于上述基板11上，在中转区域13上设置金球14,并通过框胶15进行固定和密封。可 以理解的是，由于中转区域13上没有取向膜12及其他杂质，导通效果更强。
[0068] 此外，在步骤S406中，将所述阵列基板与所述彩膜基板进行对组压合，使金球导 通所述阵列基板与所述彩膜基板的透明电极层。
[0069] 可以理解的是，与实施例一相比，实施例二中省去了"使得所述金球压穿所述取向 膜"的步骤。
[0070] 实施例三
[0071] 本发明实施例提供的一种取向膜的制备方法，用于提供具有厚度均匀、显示边界 清晰的取向膜，所述制备方法是在实施例一的基础上，还增加了如下步骤：
[0072] (1)在制备所述阵列基板时，在所述中转区域的所述阵列基板上形成环状的透明 电极层，用于提升金球在上下基板之间的导通效果。其中，所述环形透明电极层的设置如图 8中的11a所示。
[0073] (2)将金球混合到框胶中并涂布于所述环状的透明电极层上。在本步骤中，使金球 均匀分布在闭合的框胶中，这时金球均匀分布在整个框胶中，使得金球压穿取向膜的概率 大大提高，使得导通上下基板的透明电极层的效果更好，其剖面图如图9所示。
[0074] 在图9中，其中阵列基板与所述彩膜基板11上设置有透明电极层（ΙΤ0) 16,取向膜 12'涂布于上述基板11上，将金球14均匀分布在框胶15'中进行涂布，以缩短制程。可以 理解的是：上述两个步骤是既可以单独实施，也可以组合实施，是从不同角度提高金球对于 上下基板的导通效果。有别于传统方式中对于金球、中转区域及其上可能覆盖的杂质的忽 略，更注重细节，不会出现漏光等现象。
[0075] 实施例四
[0076] 本发明实施例提供的一种取向膜的制备方法，用于提供具有厚度均匀、显示边界 清晰的取向膜，所述制备方法包括如下步骤：
[0077] (1)确定取向液的喷印区域，所述喷印区域为阵列基板与彩膜基板相贴合的一侧 的区域。
[0078] (2)在所述喷印区域内喷印取向液，形成的取向液薄膜，如图10A所示。即，将外扩 至整个基板。
[0079] (3)进行预固化后形取向液薄膜。
[0080] (4)将所述喷印区域中显示区域之外的区域喷印剥离液进行剥离。
[0081] (5)通过清洗制程去除所述剥离所产生的杂质，以形成显示区域的取向液薄膜，如 图10B所示。
[0082] (6)对所述取向液薄膜进行固化和取向作业，以形成所述取向膜。
[0083] 可以理解的是：所述取向作业包括：摩擦取向、紫外辐照法取向、或平版印刷法取 向等，目前常用的是摩擦取向。所述取向包括均质平行取向、均质垂直取向、倾斜取向、以及 混合取向。
[0084] 在本实施方式中，所制备的取向膜的厚度在0.05?0. 1微米之间，具有厚度均匀、 边界清晰的特点，由其组装而形成的显示装置具有画面品质高、不易漏光的优点。
[0085] 本发明提供了一种取向膜，提升了取向膜的均匀性，此外，实施例二与实施例三通 过对金球的清理和设计，有利于金球对于上下基板中透明电极层的导通，以及缩短制程的 时间。
[0086] 综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限 制本发明，本领域的普通测试人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润 饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。
【权利要求】
1. 一种取向膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤： 确定取向液的喷印区域，所述喷印区域包括在阵列基板与彩膜基板上的显示区域与中 转区域； 在所述喷印区域内喷印取向液，以形成取向液薄膜；以及 对所述取向液薄膜进行取向作业，形成所述取向膜。
2. 如权利要求1所述的取向膜的制备方法，其特征在于，还包括如下步骤： 将金球设置到所述中转区域的预定位置；以及 将所述阵列基板与所述彩膜基板进行对组压合，使得所述金球压穿所述取向膜，并导 通所述阵列基板与所述彩膜基板的透明电极层。
3. 如权利要求1所述的取向膜的制备方法，其特征在于，在所述形成取向液薄膜后的 步骤还包括： 在所述中转区域上涂布剥离液，所述剥离液用于溶解所述中转区域上的所述取向液薄 膜； 在形成取向膜之后还包括如下步骤： 将金球设置到所述中转区域的预定位置；以及 将所述阵列基板与所述彩膜基板进行对组压合，使得所述金球导通所述阵列基板与所 述彩膜基板的透明电极层。
4. 如权利要求3所述的取向膜的制备方法，其特征在于，在所述在中转区域上涂布剥 离液的步骤后还包括： 对所述中转区域的剥离液进行清洗，以去除在所述溶解步骤中所产生的杂质。
5. 如权利要求2所述的取向膜的制备方法，其特征在于，还包括如下步骤： 在制备所述阵列基板时，在所述中转区域的所述阵列基板上形成环状的透明电极层； 所述预定位置为将所述金球设置于所述环状的透明电极层上。
6. 如权利要求5所述的取向膜的制备方法，其特征在于，所述金球设置于所述环状的 透明电极层上的步骤，包括： 将所述金球均匀混合到框胶中； 将混合所述金球的胶框涂布于所述环状的透明电极层上。
7. -种取向膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤： 确定取向液的喷印区域，所述喷印区域为阵列基板与彩膜基板相贴合的一侧的区域； 在所述喷印区域内喷印取向液； 进行预固化后形成取向液薄膜； 将所述喷印区域中显示区域之外的区域喷印剥离液进行剥离； 通过清洗制程去除所述剥离所产生的杂质，以形成显示区域的取向液薄膜；以及 对所述取向液薄膜进行固化与取向作业，以形成所述取向膜。
8. 如权利要求7所述的取向膜的制备方法，其特征在于，所述取向作业包括：摩擦取 向、紫外辐照法取向、或平版印刷法取向。
9. 如权利要求7所述的取向膜的制备方法，其特征在于，所述取向包括均质平行取向、 均质垂直取向、倾斜取向、以及混合取向。
10. 如权利要求9所述的取向膜的制备方法，其特征在于，所述取向膜的厚度在0.05? 0. 1微米之间。
【文档编号】G02F1/1337GK104155806SQ201410386256
【公开日】2014年11月19日 申请日期:2014年8月7日 优先权日:2014年8月7日
【发明者】赵国, 黄宇吾 申请人:深圳市华星光电技术有限公司