光取向聚合物、取向层及包含其的液晶延迟膜的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种光取向聚合物和取向层和包含其的液晶延迟膜。更特别地，本发 明涉及一种光取向聚合物，由于其取向方向依据偏振方向容易地改变，因此能够优选地应 用于三维显示装置的取向层等，并且涉及一种取向层和包含其的液晶延迟膜。
【背景技术】
[0002] 随着近来出现的大尺寸液晶显示屏以及它们的用途从便携装置（如移动电话、笔 记本电脑等）到家用器具（如挂壁式平板电视等）的逐渐扩展，存在着对具有高图像质量、 高清晰度和宽视角的液晶显示屏的需求。特别地，单个像素独立驱动的薄膜晶体管液晶显 示屏（TFT-LCDs)从液晶响应速度到实现高清晰度动态图像上更加出色，因此越来越多地 用在更宽范围的应用中。
[0003] 为了用作薄膜晶体管液晶显示屏中的光学开关，在显示盒的包含最内薄膜晶体管 的层上需要对液晶以限定的方向进行初始取向。为此，使用了液晶取向层。
[0004] 为了进行液晶取向，在透明玻璃上施加如聚酰亚胺的耐热聚合物，以形成聚合物 取向层，然后使用缠绕有尼龙或人造丝织品的摩擦布的旋转辊在高转速下对其进行摩擦工 艺，以取向液晶。然而，所述摩擦工艺在液晶取向层表面上留有机械擦痕，或产生强的静电， 因此可能会损坏薄膜晶体管。另外，来自摩擦布的细小纤维可能产生次品，这对获得更高的 产率造成障碍。
[0005] 为了解决摩擦工艺的问题并实现产率方面的革新，最近已经设计了一种使用光线 (如紫外光）辐照的液晶取向方法（下文称为"光取向"）。
[0006] 光取向指通过引发与光取向聚合物结合的光反应基团进行光反应，从而在预设的 方向上取向所述聚合物主链来形成带有取向的液晶的光聚合液晶取向层的机制。
[0007] 光取向的典型例子是由 M. Schadt 等（Jpn. J. Appl. Phys.，ν〇131·，1992, 2155)、 Dae S. Kang 等（美国专利第 5,464,669 号）和￥111^71^21111?)￥(办11.]\八卩卩1.?]178· Vol. 34, 1995, L1000)公开的基于光聚合的光取向。在这些专利和研宄论文中使用的光取向 聚合物大多数是基于聚肉桂酸酯的聚合物，如聚（肉桂酸乙烯酯）（PVCN)或聚（甲氧基肉 桂酸乙烯酯）（PVMC)。对于聚合物的光取向来说，暴露于紫外光辐照的肉桂酸酯的双键参与 [2+2]环加成反应以形成环丁烷，该环丁烷提供各向异性以导致液晶分子在一个方向取向， 从而诱导液晶取向。
[0008] 除此之外，日本未审查专利申请公开第11-181127号（JP11-181127A)公开了一种 聚合物以及包含该聚合物的取向层，所述聚合物在主链（如丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯等）上 具有包含光反应基团（如肉桂酸酯）的侧链。韩国专利申请公开第2002-0006819号也公 开了包含基于聚甲基丙烯酰基聚合物的取向层的用途。
[0009] 同时，目前已经在三维图像的实现等中应用了光取向聚合物和利用该光取向聚合 物的取向层。然而，为了使用这种光取向来实现三维图像等，需要使单个取向层包含具有彼 此不同的取向方向的光取向聚合物。之前，为了这个目的，在基板上施加含有光取向聚合物 的组合物，然后通过遮罩处理对施加在所述基板上的组合物对于每个区域施加具有不同偏 振方向的偏振光两次或多次，从而调节包含在其相应的区域中的聚合物的取向方向为彼此 不同。
[0010] 依照这种常规技术有如此问题：由于不得不进行两次或多次遮罩处理，形成取向 层的过程变得非常复杂，其过程收率变小，并且其产品成本变得非常高。
【发明内容】
[0011] 技术问题
[0012] 本发明提供了一种光取向聚合物，由于其取向方向依据偏振方向容易地改变，因 此能够优选地应用于三维显示装置的取向层等。
[0013] 进一步地，本发明提供了一种包含所述光取向聚合物的取向层和一种包含所述取 向层的液晶延迟膜。
[0014] 进一步地，本发明提供了一种包含所述取向层或所述液晶延迟膜的显示装置。
[0015] 技术方案
[0016] 本发明提供了一种包含由一个或多个光反应基团取代的环烯烃重复单元的光取 向聚合物，其中，当所述光取向聚合物在60mJ/cm 2或更低的曝光强度下曝光于具有280nm 至315nm波长和第一偏振方向的第一偏振紫外光射线以进行第一次光取向，并且随后在 60mJ/cm2或更低的曝光强度下曝光于具有280nm至315nm波长和从所述第一偏振方向变换 90°的第二偏振方向的第二偏振紫外光射线以进行第二次光取向时，所述光取向聚合物具 有0. 02或更高的吸收比，所述吸收比通过以下数学公式1来定义：
[0017] [数学公式1]
[0018] 吸收比（AR)=(丨 Al - A2 丨 V(A1+A2)
[0019] 其中，Al表示所述光取向聚合物的吸光度，其是由所述第一次光取向之后，在280 至330nm波长的最大吸收波长下测量的，A2表示所述光取向聚合物的吸光度，其是由所述 第二次光取向之后，在280至330nm波长的最大吸收波长下测量的。
[0020] 在所述光取向聚合物中，所述环烯烃重复单元可包含以下式3a或3b的重复单 元：
[0021]
[0022] 其中，独立地，m为50全5000 ;q为0全
【主权项】
1. 一种包含由一个或多个光反应基团取代的环烯烃重复单元的光取向聚合物， 其中，当所述光取向聚合物在60mJ/cm2或更低的曝光强度下曝光于具有280nm至 315nm波长和第一偏振方向的第一偏振紫外光射线以进行第一次光取向，并且随后在 60mJ/cm2或更低的曝光强度下曝光于具有280nm至315nm波长和从所述第一偏振方向变换 90°的第二偏振方向的第二偏振紫外光射线以进行第二次光取向时， 所述光取向聚合物具有〇. 02或更高的吸收比，所述吸收比通过以下数学公式1来定 义： [数学公式1] 吸收比（AR) = ( | A1-A2 | V(A1+A2) 其中，A1表不所述光取向聚合物的吸光度，其是在所述第一次光取向之后，在280至 330nm波长的最大吸收波长下测量的，A2表示所述光取向聚合物的吸光度，其是在所述第 二次光取向之后，在280至3