技术总结
一种防止半导体镀膜设备反应腔室内打火的装置，主要解决现有的半导体镀膜设备容易在加热盘和陶瓷环间隙发生打火，从而导致整个工艺结果失败及腔体硬件损伤等问题，本发明提供一种防止半导体镀膜设备反应腔室内打火的装置，该装置包括加热盘，陶瓷环，所述加热盘中心设有一个凸台，凸台上镶嵌有一内侧具有带凹台阶的陶瓷环。本发明缩小了陶瓷环内周壁与加热盘凸台侧壁之间的间隙，避免了反应腔室内发生打火，从而可以提高反应腔室内工艺的稳定性，避免反应腔室内硬件损伤。
技术研发人员：刘忆军;凌复华;杨凌旭
受保护的技术使用者：沈阳拓荆科技有限公司
文档号码：201510524389
技术研发日：2015.08.25
技术公布日：2017.03.08