一种显示基板的制造方法、显示基板和显示装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及液晶显示领域，尤其涉及一种显示基板的制造方法、显示基板和显示
目.0
【背景技术】
[0002]有机电致发光器件OLED相对于液晶显示器IXD具有自发光、反应快、视角广、亮度高、色彩艳、轻薄等优点，被认为是下一代显示技术。
[0003]针对0LED/PLED有机电致发光器件，有机薄膜的形成方法有以下两种:
[0004]<方法一 > 真空蒸镀
[0005]适用于有机小分子，其特点是有机薄膜的形成不需要溶剂，薄膜厚度均一，但是其设备投资大、材料利用率低、不适用于大尺寸产品的生产。
[0006]〈方法二〉溶液制成
[0007]具体包括旋涂、喷墨打印、喷嘴涂覆法等，适用于聚合物材料和可溶性小分子，其特点是设备成本低，在大规模、大尺寸生产上优势突出。
[0008]其中，连续打印技术是溶液制程中的重要技术之一，具有设备简单、打印速度快等优点。打印过程中，喷嘴快速往返移动，所以如图1所示，连续打印技术面临的问题之一就是打印的有机功能层薄膜3会出现在非显示区域内。
[0009]目前，去除非显示区域的有机功能层薄膜的方法有等离子体蚀刻、激光蚀刻、溶剂清洗等，但是采用上述清洁方法时会产生颗粒，影响显示效果。
【发明内容】
[0010]本发明的目的是提供一种显示基板的制造方法、显示基板和显示装置，清除打印到非显示区域的有机功能层，同时避免在清除过程中产生颗粒，影响显示效果。
[0011]为了实现上述目的，本发明实施例提供了一种显示基板的制造方法，所述方法包括:
[0012]在所述显示基板的非显示区域上形成有机薄膜层；
[0013]在所述显不基板上打印有机功能层；
[0014]剥离所述有机薄膜层，以去除所述非显示区域的所述有机功能层。
[0015]上述的制造方法，其中，所述有机功能层包括空穴注入层、空穴传输层和发光层。
[0016]上述的制造方法，其中，所述有机薄膜层的厚度为3-20微米。
[0017]上述的制造方法，其中，在所述显示基板的非显示区域上形成有机薄膜层之后，所述方法还包括:
[0018]在所述显示基板上形成像素界定层；
[0019]所述在所述显不基板上打印有机功能层具体为:
[0020]在所述像素界定层限定的像素区域内打印所述有机功能层。
[0021]上述的制造方法，其中，所述在所述显示基板上形成像素界定层具体包括:
[0022]采用旋涂、刮涂或狭缝涂布方式在所述显示基板上涂布具有疏水性的光刻胶；
[0023]对所述光刻胶依次进行预烘烤、曝光、显影和后烘工艺，形成所述像素界定层。
[0024]上述的制造方法，其中，在所述像素界定层限定的像素区域内打印所述有机功能层具体为:
[0025]在所述像素界定层限定的像素区域内连续打印所述有机功能层。
[0026]上述的制造方法，其中，所述在所述显示基板的非显示区域上形成有机薄膜层具体为:
[0027]采用狭缝涂布和喷墨打印的方式在所述显示基板的非显示区域上涂布有机材料，以形成所述有机薄膜层。
[0028]上述的制造方法，其中，所述有机材料能够导电；
[0029]所述剥离所述有机薄膜层具体为:
[0030]将所述有机薄膜层的两端分别与电源的两极连接，导通后产生焦耳热，利用所述焦耳热破坏所述像素界定层与所述有机薄膜层之间的界面，以剥离所述有机薄膜层。
[0031]上述的制造方法，其中，所述剥离所述有机薄膜层具体为:
[0032]将所述显示基板通过紫外线照射，利用所述紫外线产生的能量破坏所述像素界定层与所述有机薄膜层之间的界面，并采用机械方式剥离所述有机薄膜层。
[0033]上述的制造方法，其中，在剥离所述有机薄膜层，以去除所述非显示区域的所述有机功能层之后，所述方法还包括:
[0034]采用真空蒸镀的方式形成电子传输层、电子注入层和阴极金属。
[0035]为了实现上述目的，本发明实施例还提供了一种显示基板，所述显示基板采用上述任一项所述的制造方法制造。
[0036]为了实现上述目的，本发明实施例还提供了一种显示装置，所述显示装置包括上述所述的显示基板。
[0037]在本发明实施例中，首先在显示基板的非显示区域上形成有机薄膜层，然后在显示基板上打印有机功能层，最后通过剥离有机薄膜层，以去除非显示区域的所述有机功能层。上述工艺简单有效，且过程中不会产生颗粒，影响显示效果。
【附图说明】
[0038]图1为现有技术中采用连续打印的方式制作有机薄膜的示意图；
[0039]图2为本发明实施例提供的显示基板的制作方法的流程示意图；
[0040]图3a_3d为本发明实施例提供的显示基板制作过程的示意图；
[0041]其中，主要组件符号说明:
[0042]1:显示基板、2:像素界定层、3:有机功能层、4:喷嘴、5:有机薄膜层、6:像素区外、7:像素分隔墙。
【具体实施方式】
[0043]为使本发明实施例要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。
[0044]本发明实施例提供了一种显示基板的制造方法，所述方法如图2所示，包括:
[0045]步骤21，在所述显示基板的非显示区域上形成有机薄膜层；
[0046]步骤22，在所述显示基板上打印有机功能层；
[0047]步骤23，剥离所述有机薄膜层，以去除所述非显示区域的所述有机功能层。
[0048]上述过程能够清除打印到非显示区域的有机功能层，同时避免在清除过程中产生颗粒，影响显示效果。
[0049]下面结合附图3a_3b详细介绍一下上述制造方法。
[0050]本发明实施例提供的显示基板制作方法如图3a所示，先在显示基板I的非显示区域上形成有机薄膜层5，具体可以采用狭缝涂布和喷墨打印的方式在所述显示基板I的非显示区域上涂布有机材料，以形成所述有机薄膜层5。优选地，所述有机薄膜层5经过退火处理后的厚度为3-20微米。
[0051]为了限定墨滴精确的喷入指定的像素区域，因此需要在基板上