制作像素界定层。另外，如果先形成像素界定层2后再形成有机薄膜层5，在形成有机薄膜层时会把边缘的像素界定层溜平，然后连续打印到有机薄膜层时墨水会向显示区域内倒流，导致显示区域边缘的有机功能层厚度均一性变差。因此，需要先形成有机薄膜层5再形成像素界定层2。即在执行步骤21之后，所述方法还包括:
[0052]步骤210，在所述显示基板上形成像素界定层2，如图3b所示。其中，步骤210具体包括:
[0053]采用旋涂、刮涂或狭缝涂布方式在所述显示基板上涂布具有疏水性的光刻胶；
[0054]对所述光刻胶依次进行预烘烤、曝光、显影和后烘工艺，形成所述像素界定层。
[0055]在形成像素界定层2之后，执行步骤22，如图3c所示，具体为:
[0056]在所述像素界定层2限定的像素区域内打印所述有机功能层3。
[0057]优选地，采用连续打印的方式打印有机功能层3，其中，所述有机功能层3包括空穴注入层、空穴传输层和发光层。此时非显示区域的有机功能层3的墨水会停留在有机薄膜层5上。
[0058]最后执行步骤23，通过剥离有机薄膜层5，以去除非显示区域的有机功能层3。优选地，剥离方式如下:
[0059]< 方式一 >
[0060]当形成所述有机薄膜层5的有机材料能够导电时，步骤23具体为:
[0061]将所述有机薄膜层5的两端分别与电源的两极连接，导通后产生焦耳热，利用所述焦耳热破坏所述像素界定层2与所述有机薄膜层5之间的界面，以剥离所述有机薄膜层5。
[0062]将有机材料层5的两端通电形成回路，电流流经导电的有机材料，产生热量，利用此焦耳热将像素界定层2与该有机材料层5之间的界面破坏，从而将二者分离，如图3d所不O
[0063]< 方式二 >
[0064]步骤23具体为:
[0065]紫外线照射所述显示基板1，利用所述紫外线产生的能量破坏所述像素界定层2与所述有机薄膜层5之间的界面，并采用机械方式剥离所述有机薄膜层5，同样如图3d所不O
[0066]本发明实施例通过上述方式剥离有机薄膜层5，从而去除非显示区域的所述有机功能层3，过程中不会产生颗粒。
[0067]当然，在剥离有机薄膜层5之后，还需要蒸镀其他OLED功能层和阴极。即所述方法还包括:
[0068]步骤24，采用真空蒸镀的方式形成电子传输层、电子注入层和阴极金属。
[0069]通过上述步骤完成显示基板的制造，能够避免连续打印时，有机功能层薄膜出现在非显示区域内，且工艺简单有效，不会产生颗粒，影响显示效果。
[0070]本发明实施例还提供了一种显示基板，所述显示基板采用上述任一项所述的制造方法制造。
[0071]本发明实施例还提供了一种显示装置，所述显示装置包括上述所述的显示基板。
[0072]以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。
【主权项】
1.一种显示基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括: 在所述显示基板的非显示区域上形成有机薄膜层； 在所述显示基板上打印有机功能层； 剥离所述有机薄膜层，以去除所述非显示区域的所述有机功能层。
2.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述有机功能层包括空穴注入层、空穴传输层和发光层。
3.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述有机薄膜层的厚度为3-20微米。
4.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于，在所述显示基板的非显示区域上形成有机薄膜层之后，所述方法还包括: 在所述显示基板上形成像素界定层； 所述在所述显示基板上打印有机功能层具体为: 在所述像素界定层限定的像素区域内打印所述有机功能层。
5.如权利要求4所述的制造方法，其特征在于，所述在所述显示基板上形成像素界定层具体包括: 采用旋涂、刮涂或狭缝涂布方式在所述显示基板上涂布具有疏水性的光刻胶； 对所述光刻胶依次进行预烘烤、曝光、显影和后烘工艺，形成所述像素界定层。
6.如权利要求4或5所述的制造方法，其特征在于，在所述像素界定层限定的像素区域内打印所述有机功能层具体为: 在所述像素界定层限定的像素区域内连续打印所述有机功能层。
7.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述在所述显示基板的非显示区域上形成有机薄膜层具体为: 采用狭缝涂布和喷墨打印的方式在所述显示基板的非显示区域上涂布有机材料，以形成所述有机薄膜层。
8.如权利要求7所述的制造方法，其特征在于，所述有机材料能够导电； 所述剥离所述有机薄膜层具体为: 将所述有机薄膜层的两端分别与电源的两极连接，导通后产生焦耳热，利用所述焦耳热破坏所述像素界定层与所述有机薄膜层之间的界面，以剥离所述有机薄膜层。
9.如权利要求7所述的制造方法，其特征在于，所述剥离所述有机薄膜层具体为: 将所述显示基板通过紫外线照射，利用所述紫外线产生的能量破坏所述像素界定层与所述有机薄膜层之间的界面，并采用机械方式剥离所述有机薄膜层。
10.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于，在剥离所述有机薄膜层，以去除所述非显示区域的所述有机功能层之后，所述方法还包括: 采用真空蒸镀的方式形成电子传输层、电子注入层和阴极金属。
11.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板采用如权利要求1-10任一项所述的制造方法制造。
12.—种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括权利要求11所述的显示基板。
【专利摘要】本发明提供了一种显示基板的制造方法、显示基板和显示装置，所述方法包括：在显示基板的非显示区域上形成有机薄膜层；在显示基板上打印有机功能层；剥离有机薄膜层，以去除非显示区域的所述有机功能层。本发明能够清除打印到非显示区域的有机功能层，同时避免在清除过程中产生颗粒，影响显示效果。
【IPC分类】H01L51-56, H01L51-52, H01L27-32
【公开号】CN104766931
【申请号】CN201510187636
【发明人】侯文军, 宋莹莹
【申请人】京东方科技集团股份有限公司
【公开日】2015年7月8日
【申请日】2015年4月20日