蒸发源装置及蒸镀设备的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示器制作技术领域，尤其是指一种蒸发源装置及蒸镀设备。
【背景技术】
[0002]在有机发光二极管(Organic Light-Emitting D1de，0LED)显示器的制作中，蒸发镀膜是一项必不可少的制作工艺。
[0003]在蒸发镀膜工艺所采用蒸镀设备中，最主要的是坩祸和用于放置坩祸的蒸发源结构，该两个装置的设计合理与否直接关系到成膜的质量和膜的特性。现有技术其中一种蒸发源结构如图1所示，蒸发源结构包括呈螺旋状的加热丝1，围绕坩祸2设置，利用一条加热丝可以对整个坩祸2进行加热；图2为现有技术另一种蒸发源结构的示意图，蒸发源结构包括多个平行设置的加热丝3，竖直地设置在坩祸2的外围，用于对整个坩祸2进行加热。
[0004]上述两种形式的蒸发源结构，由于加热丝分散设置在坩祸的外围，使得坩祸整体受热不均，靠近加热丝的坩祸部分升温较快，远离加热丝的坩祸部分升温较慢，加热工艺控制不好，易造成坩祸内材料局部受热过高，出现材料变质或者喷发的现象。
【发明内容】
[0005]本发明技术方案的目的是提供一种蒸发源装置及蒸镀设备，通过改进蒸发源装置的结构，达到提高坩祸整体受热均匀性的目的。
[0006]本发明提供一种蒸发源装置，包括:
[0007]热源结构，包括加热源和导热体，其中所述导热体与放置蒸发材料的蒸发容器接触连接，所述加热源围绕所述蒸发容器设置，且通过所述导热体的热传导，所述加热源的热量传导至所述蒸发容器上，为所述蒸发容器加热。
[0008]优选地，上述所述的蒸发源装置，其中，所述导热体包括用于放置所述蒸发容器的第一容纳空间，所述加热源在所述第一容纳空间的外围围绕所述蒸发容器设置。
[0009]优选地，上述所述的蒸发源装置，其中，所述加热源与所述导热体的外表面接触连接。
[0010]优选地，上述所述的蒸发源装置，其中，所述加热源嵌设在所述导热体的内部。
[0011]优选地，上述所述的蒸发源装置，其中，所述导热体形成为内部中空的筒状结构，其中内部中空的部分形成为所述第一容纳空间。
[0012]优选地，上述所述的蒸发源装置，其中，所述导热体包括第一结构部分，所述第一结构部分包括多个相互平行且间隔设置的导热片，且多个所述导热片围绕一预定空间均匀分布，所述预定空间形成为所述第一容纳空间。
[0013]优选地，上述所述的蒸发源装置，其中，所述导热体还包括第二结构部分，形成为内部中空的筒状结构，每一所述导热片连接设置在所述第二结构部分的内壁上。
[0014]优选地，上述所述的蒸发源装置，其中，所述蒸发源装置还包括用于对加热中或加热后所述蒸发容器冷却的冷却结构，所述冷却结构与所述热源结构相组合构成一组合结构。
[0015]优选地，上述所述的蒸发源装置，其中，所述冷却结构包括基体及设置在所述基体中的多条相互连通、用于通入冷却介质的第一循环通道，其中所述基体与所述热源结构接触连接，且围绕所述热源结构设置。
[0016]优选地，上述所述的蒸发源装置，其中，所述冷却结构包括设置在所述导热体中的多条相互连通、用于通入冷却介质的第二循环通道。
[0017]优选地，上述所述的蒸发源装置，其中，所述蒸发源装置还包括保温层，与所述组合结构接触连接，且在所述组合结构的外围设置。
[0018]优选地，上述所述的蒸发源装置，其中，所述保温层包括环绕所述组合结构设置的第一保温层以及位于所述第一保温层的底面的第二保温层，其中所述第二保温层与所述第一保温层组合围设成具有一开口的第二容纳空间，所述组合结构设置在所述第二容纳空间中。
[0019]本发明还提供一种蒸镀设备，包括如上任一项所述的蒸发源装置。
[0020]本发明具体实施例上述技术方案中的至少一个具有以下有益效果:
[0021]通过在加热源与蒸发容器之间设置导热体，利用导热体将加热源的热量传导至蒸发容器上，能够实现对蒸发容器的均匀加热。
【附图说明】
[0022]图1表示现有技术一种蒸发源结构的示意图；
[0023]图2表示现有技术另一种蒸发源结构的示意图；
[0024]图3表示本发明第一实施例所述蒸发源装置的结构示意图；
[0025]图4表示本发明第二实施例所述蒸发源装置的结构示意图；
[0026]图5表示本发明第三实施例所述蒸发源装置的结构示意图；
[0027]图6表示本发明第四实施例所述蒸发源装置的结构示意图。
【具体实施方式】
[0028]为使本发明的实施例要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。
[0029]本发明实施例所述蒸发源装置，包括:
[0030]热源结构，包括加热源和导热体，其中所述导热体与放置蒸发材料的蒸发容器接触连接，所述加热源围绕所述蒸发容器设置，且通过所述导热体的热传导，所述加热源的热量传导至所述蒸发容器上，为所述蒸发容器加热。
[0031]上述结构的蒸发源装置，通过在加热源与蒸发容器之间设置导热体，利用导热体将加热源的热量传导至蒸发容器上，能够实现对蒸发容器的均匀加热。
[0032]具体地，所述蒸发源装置可以应用于蒸发镀膜工艺的蒸镀设备中，所述蒸发容器为坩祸。
[0033]较佳地，导热体围绕蒸发容器的外表面设置，且与蒸发容器外表面相接触的接触点在蒸发容器的外表面上均匀分布，或者更佳地，蒸发容器的外表面的每一位置点均与导热体接触连接。
[0034]另一方面，较佳地，本发明实施例所述蒸发源装置还包括用于对加热中或加热后所述蒸发容器冷却的冷却结构，所述冷却结构与所述热源结构相组合构成一组合结构。利用冷却结构的设置，能够使处在加热过程中的蒸发容器的加热温度冷却至预设温度，或者达到控制加热后坩祸的冷却速率的效果。较佳地，为达到最佳的冷却效果，冷却结构与加热源直接接触连接，以便于控制冷却速率。
[0035]另一方面，较佳地，本发明实施例所述蒸发源装置还包括保温层，与冷却结构与热源结构相组合构成的组合结构接触连接，且围绕该组合结构设置，用于实现加热源对蒸发容器加热过程中的保温，有效防止热量的耗散以及防止热能出现不必要的损失。
[0036]以下以蒸发源装置应用于蒸发镀膜工艺的蒸镀设备中，所述蒸发容器为坩祸为例，结合图3至图6对本发明所述蒸发源装置的具体实施结构进行详细描述。
[0037]实施例一
[0038]图3为本发明第一实施例所述蒸发源装置的结构示意图。参阅图3，第一实施例中，所述蒸发源装置包括导热体10和加热源20。
[0039]其中，导热体10包括用于放置坩祸(蒸发容器)100的第一容纳空间，加热源20在第一容纳空间的外围围绕坩祸100设置。
[0040]本发明第一实施例中，加热源20与导热体10的外表面直接接触连接，且在坩祸100的整个外围空间围绕坩祸100设置。
[0041]本发明第一实施例中，导热体10具体包括第一结构部分11和第二结构部分12，其中第二结构部分12形成为内部中空的筒状结构，第一结构部分11包括多个相互平行且间隔设置的导热片111，每一导热片111连接设置在第二结构部分12的内壁上，且与第二结构部分12的内壁相垂直，围绕预定空间均匀分布，其中该预定空间即形成为用于放置坩祸100的第一容纳空间。
[0042]如图3所示，当坩祸100设置于第一结构部分11所组合构成的第一容纳空间内时，第一结构部分11的每一导热片111与坩祸100相抵接，且较佳地，导热片111与坩祸100相接触的位置点均匀分布在坩祸100的外表面，这样当加热源20围绕第二结构部分12的外表面设置，且与第二结构部分12的外表面接触连接时，利用第二结构部分12和第一结构部分11在坩祸100外围均匀分布的结构，使加热源20的热量能够均匀传导至坩祸100上，使得坩祸100能够整体受热均匀，提高坩祸的整体受热均一性，避免出现现有技术的坩祸整体受热不均，靠近加热丝的坩祸部分升温较快，远离加热丝的坩祸部分升温较慢，加热工艺控制不好，易造成坩祸内材料局部受热过高，出现材料变质或者喷发的问题。
[0043]此外，本发明实施例中，加热源20可以形成为加热丝结构，具体可以采用一条加热丝螺旋环绕或者多条加热丝相互平行或者两者组合的方式围绕第二结构部分12的外表面设置。
[0044]进一步，如图3所示，本发明第一实施例所述蒸发源装置还包括冷却结构30和设置在冷却结构30外围的保温层40。利用冷却结构30的设置，能够使加热坩祸100的加热温度冷却至预设温度，或者达到控制加热后坩祸100的冷却速率的效果。利用保温层40的设置，用于实现加热源20对坩祸100加热过程中的保温，有效防止热量的耗散以及防止热能出现不必要的损失。
[0045]冷却结构30可以采用冷却介质为气体或液体的方式进行，具体地，如图3所示，冷却结构30包括基体31及设置在基体31中的多条相互连通、用于通入冷却介质的第一循环通道(图中未显示)。本实施例中，基体31与加热源20接触连接，且第一循环通道围绕加热源20均匀分散设置，以实现对整个加热源20的均匀冷却。
[0046]保温层40在冷却结构30的基体31外围设置，与基体31相接触连接。具体地，保温层40还包括环绕基体31设置的第一保温层41，形成为中空、且上下开口的筒体结构；以及包括位于第一保温层41的底面的第二保温层42，使第一保温层41所形成筒体结构的底面密封，第二保温层42与第一保温层41组合围设成具有一开口的第二容纳空间，包括上述冷却结构与热源结构的组合结构设置于该第二容纳空间内。
[0047]实施例二
[0048]图4为本发明第二实施例所述蒸发源装置的结构示意图。参阅图4，与第一实施例相同，蒸发源装置包括导热体10和加热源20。
[0049]其中，导热体10包括用于放置坩祸100的第一容纳空间，加热源20在第一容纳空间的外围围绕坩祸100设置。
[0050]本发明第二实施例中，加热源20