专利名称：锍衍生物及其作为潜酸的用途的制作方法
锍衍生物及其作为潜酸的用途本发明涉及新型锍盐，包含所述化合物的化学放大光致抗蚀剂组合物以及所述化合物作为潜酸的用途，所述化合物可通过光化电磁辐射及电子束照射而活化。在本领域中，锍盐已知用作光敏引发剂。US6368769和JP2004-137172A中公开了包含酰基的苯硫基苯基-二苯基锍盐。W003/072567和W003/008404公开了锍盐，其中锍离子位于稠合环体系中，例如位于噻吨基结构部分中。US2006/055088中公开了该类其它化合物如包含酰基的二苯并噻吩基二芳基锍盐。JP2005-263796A中描述了包含酰基的5-芳基二苯并噻吩每f盐。JP2007-112728A公开了包含酰基的三芳基锍盐。上述全部锍盐均具有 3匕&_、？&_^评6_』&_、51^16_、(104_、芳基磺酸根、烷基磺酸根或四芳基硼酸根作为抗衡阴离子。US5554664公开了具有三氟烷基磺酰基甲基化物作为抗衡阴离子的锍盐。在本领域，需要热和化学稳定且在通过光、UV辐射、X-射线照射或电子束活化后可用作各种酸催化反应如缩聚反应、酸催化的解聚反应、酸催化的亲电取代反应或酸催化的脱保护基的催化剂的反应性潜酸供体。特别需要不仅在深紫外范围而且在宽的波长范围 (例如，g-线 036nm)、i-线(365nm)、KrF (248nm)、ArF(193nm)和 EUV (13. 5nm ；极远紫外线))具有高稳定性、高敏感性以及高分辨率的潜酸催化剂。令人惊讶地，现已发现下文所述的特定锍盐对宽范围的光源是稳定的且具有高活性。本发明锍盐适于作为化学放大光致抗蚀剂应用中的前述酸催化反应的催化剂。此外， 本发明锍盐由于其对该应用而言具有理想的UV吸收分布而特别适于i-线和宽带光刻法， 从而在没有敏化剂下得到高灵敏度。此外，包含本发明锍盐的化学放大光致抗蚀剂组合物提供了高分辨率。本发明的主题涉及一种式I化合物
权利要求
1.式I化合物
其中Ar1是亚苯基、亚联苯基、亚萘基、
联二亚苯基或
其中所述亚苯基、亚联苯基、亚萘基、
亚杂芳 基、氧联二亚苯基或
未被取代或被一个或多个C3-C3tl环烷基、C1-C18烷基、C1-C10卤代烷基、C2-C12链烯基、C4-C30环烯基、苯基-C1-C3烷基取代，或被C2-C18烷基取代，所述C2-C18烷基被一个或多个0、S、NR7, 0 (CO)、(CO) 0、(CO) NR7 或NR7 (CO)间隔，或被C3-C3tl环烷基取代，所述C3-C3tl环烷基被一个或多个0、S, NR7,0 (CO)、(CO) 0、(CO) NR7 或 NR7 (CO)间隔，或被C4-C3tl环烯基取代，所述C4-C3tl环烯基被一个或多个0、S, NR7,0 (CO)、(CO) 0、(CO) NR7 或 NR7 (CO)间隔，或被一个或多个卤素、N02、CN、Ar、(CO)R8, (CO)OR4, (CO)NR5R6,0(CO)R8,0(CO)OR4,0(CO) NR5R6, NR7 (CO) R8, NR7 (CO) OR4、OR4、NR5R6, SR7、SOR8, SO2R8 或-OSO2R8 取代，其中，任选所述取代基 C1-C18 烷基、C2-C12 链烯基、(CO)R8, (CO) OR4, (CO)NR5R6, O(CO) R8> O(CO) OR4, O(CO) NR5R6, NR7 (CO)R8, NR7 (CO) OR4、OR4、NR5R6, SR7, SOR8, SO2R8 或 OSO2R8 与H2C所述亚苯基、亚联苯基、亚萘基
、亚杂芳基、氧 联二亚苯基或
上的其它取代基或与所述亚苯基、亚联苯基、亚萘基、
亚杂芳基、氧联二亚苯基或
碳原子中的一个经由所述基团C1-C18烷基、C2-C12链烯基、R4、I 5、I 6、R7和/或&形成5-、6-或 7-员环；其中，所有Ar1任选额外被具有在酸作用下裂解的-0-C-键或-O-Si-键的基团取代； Ar2和Ar3彼此独立地是苯基、萘基、联苯基或杂芳基，其中，所述苯基、萘基、联苯基或杂芳基未被取代或被一个或多Ac3-C3tl环烷基、C1-C18 烷基、C1-C10卤代烷基、C2-C12链烯基、C4-C30环烯基、苯基-C1-C3烷基取代，或被C2-C18烷基取代，所述C2-C18烷基被一个或多个0、S、NR7, 0 (CO)、(CO) 0、(CO) NR7 或NR7 (CO)间隔，或被C3-C3tl环烷基取代，所述C3-C3tl环烷基被一个或多个0、S, NR7,0 (CO)、(CO) 0、(CO) NR7 或 NR7 (CO)间隔，或被C4-C3tl环烯基取代，所述C4-C3tl环烯基被一个或多个0、S, NR7,0 (CO)、(CO) 0、(CO) NR7 或 NR7 (CO)间隔，或被一个或多个卤素、NO2, CN、Ar、0 (CO) R8, 0 (CO) OR4, 0 (CO) NR5R6, NR7 (CO) R8, NR7 (CO) OR4、OR4、NR5R6, SR7、SOR8, SO2R8 或 OSO2R8 取代，任选所述取代基 C1-C18 烷基、C2-C12 链烯基、0 (CO) R8, 0 (CO) OR4、0 (CO) NR5R6, NR7 (CO) R8, NR7 (CO) OR4、OR4、NR5R6、SR7、SOR8、SO2R8或OSO2Ii8与所述苯基、萘基、联苯基或杂芳基上的其它取代基或与所述苯基、萘基、联苯基或杂芳基的碳原子中的一个经由所述基团C1-C18烷基、 C2-C12链烯基、R4、R5、R6、R7和/或R8形成5-,6"或7-员环；或Ar1和Ar2与直接键、0、S、NR7或(CO) —起形成稠合环体系； 或Ar1和Ar2与C1-C2亚烷基、0、S、NR7或(CO) 一起形成5-,6-或7-员环； 或Ar2和Ar3与直接键、0、S、NR7或(CO) —起形成稠合环体系； 或Ar2和Ar3与C1-C2亚烷基、0、S、NR7或(CO) 一起形成5-,6-或7-员环；或Ar1和Ar2与Ar1上连接的R —起形成
其中，所有Ar2和Ar3任选额外被具有在酸作用下裂解的_0_C-键或-O-Si-键的基团取代；R是氢、C3-C3tl环烷基、C1-C18烷基、C1-Cw卤代烷基、C2-C12链烯基、C4-C3tl环烯基、苯基-C1-C3焼基，或是被一个或多个0、5、殿7、0(0))、(C0)0, (CO)NR7或NR7 (CO)间隔的C2-C18烷基， 或是被一个或多个0、5、殿7、0(0))、(C0)0, (CO)NR7或NR7 (CO)间隔的C3-C3tl环烷基， 或是被一个或多个0、5、殿7、0(0))、(C0)0, (CO)NR7或NR7 (CO)间隔的C4-C3tl环烯基， 或 R 是 Ar、OR4、NR5R6, (CO) R8、(CO) OR4 或(CO) NR5R6,其中，为C3-C3tl环烷基、C1-C18烷基、C1-Cw卤代烷基、C2-C12链烯基、C4-C3tl环烯基、苯基-C1-C3烷基、间隔的C2-Cw烷基、间隔的C3-C3tl环烷基和间隔的C4-C3tl环烯基的R未被取代或被一个或多个卤素、N02、CN、Ar、(CO)R8, (CO) OR4, (CO) NR5R6, 0 (CO) R8, 0 (CO) OR4, 0 (CO) NR5R6, NR7 (CO) R8, NR7 (CO) OR4、OR4、NR5R6, SR7、SOR8, SO2R8 或 OSO2R8 取代； R1^R2和R3彼此独立地为C1-Ciq卤代烷基或Ar，或彼此独立地为被一个或多个0、S、NR7、0(C0)、(C0)0, (CO) NR7或NR7 (CO)间隔的C2-Cltl 卤代烷基，其中为C1-Cw卤代烷基、Ar和间隔的C2-Cki卤代烷基的礼、R2和R3未被取代或被一个或多个 NO2, CN、Ar、(CO) R8, (CO) OR4、(CO) NR5R6, 0 (CO) R8, 0 (CO) OR4、0 (CO) NR5R6, NR7 (CO) R8, NR7 (CO) OR4、OR4、NR5R6, SR7、SOR8, SO2R8 或 OSO2R8 取代；或R1和&与它们所连接的 ο2—起形成任选被一个或多个O、NR7或COI间隔的5-、6-或7-员环；R4是氢、C3-C3tl环烷基、C1-C18烷基、C1-Cki卤代烷基、C2-C12链烯基、C4-C3tl环烯基、苯基-C1-C3焼基，或是被一个或多个 O、S、NR7、O (CO)、(CO) O、(CO) NR7 或 NR7 (CO)间隔的 C2-C18 烷基， 或是被一个或多个 O、S、NR7、O (CO)、(CO) O、(CO) NR7 或 NR7 (CO)间隔的 C3-C3tl 环烷基， 或是被一个或多个 O、S、NR7、O (CO)、(CO) O、(CO) NR7 或 NR7 (CO)间隔的 C4-C3tl 环烯基， 或 R4 是 Ar、(CO) R8、(CO) OR8, (CO) NR5R6 或 SO2R8,其中，为C3-C3tl环烷基、C1-C18烷基、C1-Cw卤代烷基、C2-C12链烯基、C4-C3tl环烯基、苯基-C1-C3烷基、间隔的C2-C18烷基、间隔的C3-C3tl环烷基、间隔的C4-C3tl环烯基和Ar的R4未被取代或被一个或多个AinOIC1-Cw烷基、C1-Cltl卤代烷基、苯基-C1-C3烷基、C3-C3tl环烷基、 卤素、NO2、CN、C1-Q8烷氧基、苯氧基、苯氧基羰基、苯硫基、苯硫基羰基、NR5R6、C1-C12烷硫基、 C2-Cw烷氧基羰基、C2-Cltl卤代烷酰基、卤代苯甲酰基、CfC18烷基磺酰基、苯基磺酰基、(4-甲基苯基)磺酰基、C1-C18烷基磺酰氧基、苯基磺酰氧基、甲基苯基)磺酰氧基、C2-C18烷酰基、C2-C18烷酰氧基、苯甲酰基或苯甲酰氧基取代；R5和&彼此独立地是氢、C3-C30环烷基、C1-C18烷基、C1-C10卤代烷基、C2-C12链烯基、 C4-C30环烯基、苯基-C1-C3烧基，或彼此独立地是被一个或多个0、S、NR7、0(C0)、(C0)0, (CO) NR7或NR7 (CO)间隔的C2-C18 焼基，或彼此独立地是被一个或多个0、S、NR7、0 (CO)、(CO) 0、(CO) NR7或NR7 (CO)间隔的C3-C3tl 环烷基，或彼此独立地是被一个或多个0、S、NR7、0 (CO)、(CO) 0、(CO) NR7或NR7 (CO)间隔的C4-C3tl 环烯基，或&和&彼此独立地是Ar、(CO) R8, (CO) OR4或-S02I 8，其中，为C3-C3tl环烷基、C1-C18烷基、C1-Cw卤代烷基、C2-C12链烯基、C4-C3tl环烯基、苯基-C1-C3烷基、间隔的C2-C18烷基、间隔的C3-C3tl环烷基、间隔的C4-C3tl环烯基和Ar的&和 R6未被取代或被一个或多个Ar、OH、C1-C18烷基、C1-C10卤代烷基、苯基-C1-C3烷基、C3-C30 环烷基、卤素、NO2、CN、C1-C18烷氧基、苯氧基、苯氧基羰基、苯硫基、苯硫基羰基、C1-C18 二烷基氨基、C1-C12烷硫基、C2-C18烷氧基羰基、C2-C10卤代烷酰基、卤代苯甲酰基、C1-C18烷基磺酰基、苯基磺酰基、(4-甲基苯基)磺酰基、C1-C18烷基磺酰氧基、苯基磺酰氧基、(4-甲基苯基)磺酰氧基、C2-C18烷酰基、C2-C18烷酰氧基、苯甲酰基或苯甲酰氧基取代；或&和&与它们所连接的氮原子一起形成任选被一个或多个0、NR7或CO间隔的5_、 6-或7-员环；R7是氢、C3-C3tl环烷基、C1-C18烷基、C1-Cki卤代烷基、C2-C12链烯基、C4-C3tl环烯基、苯基-C1-C3焼基，或是被一个或多个0、S、O(CO)或(CO)O间隔的C2-Cw烷基， 或是被一个或多个0、S、O(CO)或(CO)O间隔的C3-C3tl环烷基， 或是被一个或多个0、S、0(C0)或(CO)O间隔的C4-C30环烯基；或R7是Ar、(CO)R8, (CO)OR4、(CO)NR5R6^SO2R8,其中，为C3-C3tl环烷基、C1-C18烷基、C1-Cw卤代烷基、C2-C12链烯基、C4-C3tl环烯基、苯基-C1-C3烷基、间隔的C2-C18烷基、间隔的C3-C3tl环烷基、间隔的C4-C3tl环烯基和Ar的R7未被取代或被一个或多个AinOIC1-Cw烷基、C1-Cltl卤代烷基、苯基-C1-C3烷基、C3-C3tl环烷基、 卤素、NO2、CN、C1-Q8烷氧基、苯氧基、苯氧基羰基、苯硫基、苯硫基羰基、NR5R6、C1-C12烷硫基、 C2-Cw烷氧基羰基、C2-Cltl卤代烷酰基、卤代苯甲酰基、CfC18烷基磺酰基、苯基磺酰基、(4-甲基苯基)磺酰基、C1-C18烷基磺酰氧基、苯基磺酰氧基、甲基苯基)磺酰氧基、C2-C18烷酰基、C2-C18烷酰氧基、苯甲酰基或苯甲酰氧基取代；R8是氢、C3-C3tl环烷基、C1-C18烷基、C1-Cki卤代烷基、C2-C12链烯基、C4-C3tl环烯基、苯基-C1-C3 烷基、Ar、NR5Ii6,或是被一个或多个 0、S、NR、0 (CO)、(CO) 0、(CO) NR7 或 NR7 (CO)间隔的 C2-C18 烷基， 或是被一个或多个 0、S、NR7, CO、0(CO)、(CO) 0、(CO)NR7 或 NR7 (CO)间隔的 C3-C30 环烷基，或是被一个或多个0、5、殿7、0(0))、(C0)0, (CO)NR7或NR7 (CO)间隔的C4-C3tl环烯基， 其中，为C3-C3tl环烷基、C1-C18烷基、C1-Cw卤代烷基、C2-C12链烯基、C4-C3tl环烯基、苯基-C1-C3烷基、Ar、间隔的C2-C18烷基、间隔的C3-C3tl环烷基和间隔的C4-C3tl环烯基的&未被取代或被一个或多个Ar、OH、C1-C18烷基、C1-C10卤代烷基、苯基-C1-C3烷基、C3-C30环烷基、 卤素、NO2、CN、C1-Q8烷氧基、苯氧基、苯氧基羰基、苯硫基、苯硫基羰基、NR5R6、C1-C12烷硫基、 C2-Cw烷氧基羰基、C2-Cltl卤代烷酰基、卤代苯甲酰基、CfC18烷基磺酰基、苯基磺酰基、(4-甲基苯基)磺酰基、C1-C18烷基磺酰氧基、苯基磺酰氧基、甲基苯基)磺酰氧基、C2-C18烷酰基、C2-C18烷酰氧基、苯甲酰基或苯甲酰氧基取代；且 Ar是苯基、联苯基、芴基、萘基、蒽基、菲基或杂芳基，其中所述苯基、联苯基、芴基、萘基、蒽基、菲基或杂芳基未被取代或被一个或多个 C3-C30环烷基、c「c18烷基、C1-Cltl卤代烷基、C2-C12链烯基、C4-C3tl环烯基、苯基-c「c3烷基取代，或被C2-C18烷基取代，所述C2-C18烷基被一个或多个0、S、NR7, 0 (CO)、(CO) 0、(CO) NR7 或NR7 (CO)间隔，或被C3-C3tl环烷基取代，所述C3-C3tl环烷基被一个或多个0、S, NR7,0 (CO)、(CO) 0、(CO) NR7 或 NR7 (CO)间隔，或被C4-C3tl环烯基取代，所述C4-C3tl环烯基被一个或多个0、S, NR7,0 (CO)、(CO) 0、(CO) NR7 或 NR7 (CO)间隔，或被一个或多个卤素、N02、CN、苯基、联苯基、萘基、杂芳基、(CO)R8, (CO)OR4, (CO)NR5R6, 0 (CO) R8、0 (CO) OR4、0 (CO) NR5R6, NR7 (CO) R8、NR7 (CO) OR4、OR4、NR5R6, SR7、SOR8, SO2R8 或 OSO2R8 取代，任选所述取代基 C1-C18 烷基、C2-C12 链烯基、(CO) R8, (CO) OR4、(CO) NR5R6^O(CO) R8^O(CO) OR4, 0 (CO) NR5R6, NR7 (CO) R8, NR7 (CO) OR4, OR4, NR5R6, SR7, SOR8, SO2R8 或 OSO2Ii8 与所述苯基、联苯基、芴基、萘基、蒽基、菲基或杂芳基上的其它取代基或与所述苯基、联苯基、芴基、萘基、 蒽基、菲基或杂芳基的碳原子中的一个经由所述基团C「C18烷基、C2-C12链烯基、R4、R5、R6、 形成5-、6_或7-员环。
2.根据权利要求1的式I化合物，其中Ar1是亚苯基、亚联苯基、亚萘基或亚杂芳基，其全部未被取代或被一个或多个C1-C18烷基、C1-Ciq卤代烷基、卤素、N02、CN、Ar、OR4, NR5R6或SR7取代；其中，任选所述取代基C1-C18烷基、0R4、NR5&或SR7与所述亚苯基、亚联苯基、亚萘基或亚杂芳基上的其它取代基或与所述亚苯基、亚联苯基、亚萘基或亚杂芳基的碳原子中的一个经由所述基团C1-C18烷基、R4, R5, R6或R7形成5-,6-或7-员环； Ar2和Ar3彼此独立地是苯基、萘基、联苯基或杂芳基，其中所述苯基、萘基、联苯基或杂芳基任选被一个或多AC1-C18烷基、C1-Cki卤代烷基、 卤素、NO2、CN、Ar、OR4、NR5R6 或 SR7 取代；其中，任选所述取代基C1-C18烷基、0R4、NR5R6或SR7与所述苯基、联苯基、萘基或杂芳基上的其它取代基或与所述苯基、联苯基、萘基或杂芳基的碳原子中的一个经由所述基团 C1-C18 烷基、R4, R5, R6 或 R7 形成 5-,6"或 7-员环；或Ar1和Ar2与直接键、0、S、NR7或(CO) —起形成稠合环体系； 或Ar1和Ar2与C1-C2亚烷基、0、S、NR7或(CO) 一起形成5-,6-或7-员环； 或Ar2和Ar3与直接键、0、S、NR7或(CO) —起形成稠合环体系； 或Ar2和Ar3与C1-C2亚烷基、0、S、NR7或(CO) 一起形成5-,6-或7-员环；或Ar1和Ar2与Ar1上连接的
起形成
R 是 C1-C18 烷基、C1-Cltl 卤代烷基、Ar、OR4 或 NR5Ii6 ；其中，为C「C18烷基和Q-Cki卤代烷基的R任选被一个或多个卤素、NO2, CN、Ar、OR4, NR5R6或SR7取代；R1^R2和R3彼此独立地是C1-Ciq卤代烷基；R4 是氢、C1-C18 烷基、Ar、(CO) R8 或 SO2R8 ；R5和&彼此独立地是氢、C1-C18烷基、Ar、(CO) R8或SO2Ii8 ；R7 是氢、C1-C18 烷基、Ar、(CO) R8 或 SO2R8 ；&是氢、C1-Cw烷基或Ar ；且Ar是苯基、联苯基或萘基，所述苯基、联苯基或萘基未被取代或被一个或多个C1-C18烷基、卤素、N02、CN、OR4, NR5R6或SR7取代；任选所述取代基C「C18烷基、0R4、NR5R6或SR7与所述苯基、联苯基或萘基上的其它取代基或与所述苯基、联苯基或萘基的碳原子中的一个经由所述基团C1-C18烷基、R4, R5, R6或R7形成5-,6-或7-员环。
3.根据权利要求1的式I化合物，其中 Ar1是亚苯基或亚杂芳基，其未被取代或被OR4取代；Ar2和Ar3彼此独立地是苯基或联苯基，其中所述苯基或联苯基未被取代或被C1-C18烷基取代；或Ar1和Ar2与直接键一起形成稠合环体系；或Ar1和Ar2与Ar1上连接的
起形成
R1J2和R3是C「C10卤代烷基； R4是C1-C18烷基；且Ar是苯基，所述苯基未被取代或被OR4取代。
4.一种化学放大光致抗蚀剂组合物，其包含(a)在酸作用下固化的化合物或溶解度在酸作用下增大的化合物；和(b)作为光敏酸供体的至少一种权利要求1的式I化合物。
5.根据权利要求4的化学放大光致抗蚀剂组合物，其是正型抗蚀剂。
6.根据权利要求5的化学放大正型光致抗蚀剂组合物，其包含作为组分(a)的至少一种选自(al), (a2)和(a3)的组分，其中(al)为具有酸不稳定基团的聚合物，所述基团在酸存在下分解以提高在碱性显影剂水溶液中的溶解度；(a2)为具有酸不稳定基团的单体型或低聚物型溶解抑制剂，所述基团在酸存在下分解以提高在碱性显影剂水溶液中的溶解度；和(a3)为碱溶性单体型、低聚物型或聚合物型化合物； 以及(b)作为光敏酸供体的至少一种权利要求1的式I化合物。
7.根据权利要求4的化学放大光致抗蚀剂组合物，其是负型抗蚀剂。
8.根据权利要求7的化学放大负型光致抗蚀剂组合物，其包含作为组分(a)的至少一种选自(a4), (a5)和(a6)的组分，其中(a4)为作为粘合剂的碱溶性树脂； (a6)为作为粘合剂的可溶剂显影的树脂；(a5)为可与其本身和/或与其它组分阳离子或酸催化聚合或交联的组分； 以及(b)作为光敏酸供体的至少一种权利要求1的式I化合物。
9.根据权利要求4-8任一项中的化学放大光致抗蚀剂组合物，除组分(a)和(b)，或组分(al)、(a2)、(a3)和(b)，或组分(a4)、(a5)、(a6)和(b)之外，还包含其它添加剂(C)、 其它光敏酸供体化合物(bl)、其它光敏引发剂(d)和/或敏化剂(e)。
10.一种制备光致抗蚀剂的方法，包括(1)将权利要求4的组合物施加至基材上；(2)对所述组合物在60-160°C的温度下进行施加后烘烤；(3)用波长为10-1500nm的光进行图像式照射；(4)任选地，在60-160°C的温度下对所述组合物进行曝光后烘烤；以及(5)用溶剂或用含水碱性显影剂显影。
11.一种组合物，其包含(a)在酸作用下固化的化合物或溶解度在酸作用下增大的化合物；和(b)作为光敏酸供体的至少一种权利要求1的式I化合物。
12.权利要求1的式I化合物作为在酸作用下可交联的组合物中的光敏酸供体和/或作为溶解度在酸作用下增大的组合物中的增溶剂的用途。
13.使可在酸作用下交联的化合物交联的方法，所述方法包括将权利要求1的式I化合物添加至上述化合物中，并用波长为10-1500nm的光进行图像式照射或照射整个区域。
14.权利要求1的式I化合物作为光敏酸供体在以下产品的制备中的用途着色和未着色的表面涂料、胶粘剂、层压胶粘剂、结构胶粘剂，压敏胶粘剂、印刷油墨、印版、凸印版、 平印版、凹印版、免处理印版、丝网印刷模板、齿科组合物、滤色器、隔离物、电致发光显示器和液晶显示器(LCD)、波导、光学开关、彩色打样系统、抗蚀剂、用于电子学的光致抗蚀剂、电镀抗蚀剂、用于液体膜和干膜的蚀刻抗蚀剂、焊接抗蚀剂、用于紫外线与可见激光直接成像系统的光致抗蚀剂材料、用于在印刷电路板的顺序叠合的层中形成介电层的光致抗蚀剂材料、图像记录材料、用于记录全息图像、光学信息储存或全息数据储存的图像记录材料、脱色材料、用于图像记录材料的脱色材料、使用微胶囊的图像记录材料、磁记录材料、微机械零件、镀敷掩模、蚀刻掩模、玻璃纤维缆线涂料、微电子电路。
15.根据权利要求13的方法，用于制备如下产品着色和未着色的表面涂料、胶粘剂、 层压胶粘剂、结构胶粘剂，压敏胶粘剂、印刷油墨、印版、凸印版、平印版、凹印版、免处理印版、丝网印刷模板、齿科组合物、滤色器、隔离物、电致发光显示器和液晶显示器(LCD)、波导、光学开关、彩色打样系统、抗蚀剂、用于电子学的光致抗蚀剂、电镀抗蚀剂、用于液体膜和干膜的蚀刻抗蚀剂、焊接抗蚀剂、用于紫外线与可见激光直接成像系统的光致抗蚀剂材料、用于在印刷电路板的顺序叠合的层中形成介电层的光致抗蚀剂材料、图像记录材料，用于记录全息图像、光学信息储存或全息数据储存的图像记录材料，脱色材料、用于图像记录材料的脱色材料、使用微胶囊的图像记录材料、磁记录材料、微机械零件、镀敷掩模、蚀刻掩模、玻璃纤维缆线涂料、微电子电路。
16.一种滤色器，其通过如下步骤制备提供红色、绿色和蓝色像素以及黑底，所有这些都包含位于透明基材上的光敏树脂以及颜料和/或染料；和在所述基材表面上或在所述滤色器的层表面上提供透明电极，其中所述光敏树脂包含作为光敏酸供体的权利要求1的式I化合物。
17.权利要求1的式I化合物作为光敏酸供体在制备滤色器或化学放大抗蚀剂中的用途。
18.根据权利要求13的方法，用于制备滤色器或化学放大抗蚀剂。
全文摘要
式(I)化合物是有效的光生酸剂(PAG)，其中Ar1例如为未被取代或被取代的亚苯基或亚联苯基；Ar2和Ar3例如彼此独立地为任选被取代的苯基、萘基、联苯基或杂芳基；或Ar1和Ar2例如与直接键、O、S或(CO)一起形成稠合环体系；R例如为氢、C3-C30环烷基或C1-C18烷基；且R1、R2和R3例如彼此独立地为C1-C10卤代烷基。
文档编号G03F7/00GK102186815SQ200980141521
公开日2011年9月14日 申请日期2009年10月8日 优先权日2008年10月20日
发明者大和仁志, 朝仓敏景, 西前祐一 申请人:巴斯夫欧洲公司