专利名称：邻硝基苄酯化合物及包含它的正型光敏树脂组合物的制作方法
邻硝基苄酯化合物及包含它的正型光敏树脂组合物技术领域
本申请公开内容涉及邻硝基苄酯化合物及包含它的正型光敏树脂组合物。
传统的正型光敏树脂组合物一般是通过将树脂与易溶于碱性水溶液中的酚型羟基以及光敏剂混合制备的，该光敏剂抑制树脂在未曝光期间的溶解并促进树脂显影或中止对树脂在曝光期间溶解的抑制并由此制作可能的树脂图案。该树脂可以包括通过使酚类化合物和甲醛缩聚制备的酚醛树脂，以及多羟基酰胺作为聚苯并噁唑前体的聚(4-羟基)苯乙烯树脂，等等。该光敏剂可以包括在4-位或5-位含有磺酸酯和酰胺的重氮基萘醌化合物。
该正型光敏树脂组合物可能具有抑制溶解的性能，这取决于光敏剂抑制未曝光部分溶解的能力、该光敏剂在曝光之后容易溶解的能力、以及恢复或促进该溶解造成的树脂溶解速率的能力。传统的重氮基萘醌化合物可能具有优异的光溶解速率和光吸收，但不具有抑制未曝光部分溶解的良好性能。因此，需要包括相对较多的重氮基萘醌化合物从而确保用于形成图案的适当残余膜比率。结果，为了形成曝光部分的图案需要溶解相对较多量的重氮基萘醌化合物，因此需要更多的曝光剂量并导致灵敏度相对较低。
因此，对具有抑制未曝光部分溶解的优异性能的光敏助剂进行了研究。发明内容
本发明的一种实施方式提供了对未曝光部分具有优异溶解抑制性能的邻硝基苄酯化合物。
本发明的另一种实施方式提供了正型光敏树脂组合物，其包括邻硝基苄酯化合物并具有优异的灵敏度、分辨率、图案外观(pattern profile)和残余物除去性能。
本发明的又一种实施方式提供了利用该正型光敏树脂组合物制造的光敏树脂膜。
本发明另一种实施方式提供了包含该光敏树脂膜的半导体器件。
根据本发明的一种实施方式，提供了包含由以下化学式1表示的化合物的邻硝基苄酯化合物。
[化学式1]
权利要求
1. 一种包含由以下化学式1表示的化合物的邻硝基苄酯化合物 [化学式1]
2.根据权利要求1所述的邻硝基苄酯化合物，其中，Z1和Z2相同或不同，并且各自独立地为羟基(OH)或羧基(COOH)。
3.根据权利要求1所述的邻硝基苄酯化合物，其中，Z1和Z2为羟基(OH)。
4.根据权利要求1所述的邻硝基苄酯化合物，其中，所述邻硝基苄酯化合物包含由以下化学式2至4表示的化合物或它们的组合
5.一种正型光敏树脂组合物，包含(A)含羟基碱溶性树脂；(B)根据权利要求1至4中任一项所述的邻硝基苄酯化合物；(C)光敏重氮醌化合物；(D)硅烷化合物；(E)酚化合物；和(F)溶剂。
6.根据权利要求5所述的正型光敏树脂组合物，其中，所述含羟基碱溶性树脂包含包括由以下化学式5表示的重复单元的聚苯并噁唑前体、包括由以下化学式6表示的重复单元的酚醛树脂、包括由以下化学式7表示的重复单元的聚-4-羟基苯乙烯树脂，或它们的组[化学式5]
7.根据权利要求5所述的正型光敏树脂组合物，其中，所述含羟基碱溶性树脂的重均分子量(Mw)为约3，000至约300，000。
8.根据权利要求5所述的正型光敏树脂组合物，其中，基于100重量份的含羟基碱溶性树脂(A)，所述树脂组合物包含约0. 1至约20重量份的根据权利要求1所述的邻硝基苄酯化合物⑶； 约5至约100重量份的光敏重氮醌化合物(C)； 约0. 1至约30重量份的硅烷化合物⑶； 约1至约30重量份的酚化合物(E)；和约200至约900重量份的溶剂(F)。
9.一种利用根据权利要求5至8中任一项所述的正型光敏树脂组合物制造的光敏树脂膜。
10.一种包括根据权利要求9所述的光敏树脂膜的半导体器件。
全文摘要
本发明提供了包括由化学式1表示的化合物的邻硝基苄酯化合物，和包含该邻硝基苄酯化合物的正型光敏树脂组合物。本发明还提供了一种利用该正型光敏树脂组合物制造的光敏树脂膜和包括该光敏树脂膜的半导体器件。本发明的正型光敏树脂组合物具有优异的灵敏度、分辨率、图案外观和残余物除去性能。[化学式1]
文档编号G03F7/039GK102531910SQ201110301200
公开日2012年7月4日 申请日期2011年9月28日 优先权日2010年12月15日
发明者俞龙植, 朴秀敏, 李廷宇, 李种和, 田桓承, 赵显龙, 郑知英, 郑闵鞠, 金在贤, 金永虎, 金洙荣 申请人:三星电子株式会社, 第一毛织株式会社