一种易清洁的真空溅射镀膜腔的制作方法

本实用新型属于镀膜技术领域，具体涉及一种易清洁的真空溅射镀膜腔。

背景技术：

真空镀膜设备，主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。

不可忽视的是现今镀膜设备一般均处于真空腔的环境中，并且为了确保镀膜的致密程度，需要定期对腔内环境进行清洗，多采用氢氧化钠的饱和溶液进行清洁，清洁过程中清洁人员还需要尽量避免溶液与皮肤的接触以免灼伤，极其不便，安全隐患高，有待我们解决。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种易清洁的真空溅射镀膜腔，以解决上述背景技术中提出现今镀膜腔为了确保镀膜的致密程度，需要定期对腔内环境进行清洗，多采用氢氧化钠的饱和溶液进行清洁，清洁过程中清洁人员还需要尽量避免溶液与皮肤的接触以免灼伤，极其不便，安全隐患高的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种易清洁的真空溅射镀膜腔,包括镀膜腔，所述镀膜腔的上方安装有水箱，所述水箱的顶部开设有进水口，且水箱与镀膜腔之间安装有第一封盘，所述第一封盘与镀膜腔和水箱之间通过贯穿的转动销转动连接，所述镀膜腔的内部顶端通过支架固定有阴极箱，且镀膜腔的内部底端通过支架固定有阳极架，所述镀膜腔的外壁上与支架对应位置处开设有接线口，所述接线口的下方开设有进气孔，所述进气孔的下方安装有气压表，所述镀膜腔远离进气孔的另一侧外壁上开设有真空组管接口，所述镀膜腔的下方设有污水盒，且镀膜腔与污水盒之间还安装有第二封盘，所述第二封盘与镀膜腔和污水盒之间通过贯穿的转动销转动连接，所述镀膜腔的外壁上与第一封盘和第二封盘对应位置处设有气密卡槽。

优选的，所述水箱的底部与转动销对应位置处开设有转动槽，且水箱的底部与镀膜腔的内壁对应位置处还开设有密集的出水口，所述出水口的内部均设有电磁阀，所述电磁阀通过接线口与外界控制开关电性连接。

优选的，所述污水盒的前表面开设有把手。

优选的，所述水箱和污水盒的外壁上与镀膜腔外壁上的气密卡槽相对应位置处还安装有相对称的另一组气密卡槽。

优选的，所述第一封盘和第二封盘的上下两个表面上均设有气密性橡胶垫片，且第一封盘和第二封盘的侧壁上开设有扣槽，所述第一封盘和第二封盘的侧壁上与气密卡槽相对应位置处还设有限位卡扣，所述限位卡扣与气密卡槽相互契合。

优选的，所述阳极架的上表面开设有基片放置槽。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该镀膜腔结构科学合理，使用安全方便，水箱、第一封盘和第二封盘均可转动，以转动销为基准完成旋转工作，当镀膜腔需要清洁时，直接旋出第一封盘和第二封盘，通过外界的控制开关打开电磁阀开关，出水口即会将水箱中存放的氢氧化钠饱和溶液放出，流入镀膜腔的内壁，与长时间堆积的膜料铝进行充分反应产生氢气，由于第二封盘的旋出，反应后的污浊溶液可直接流入到污水盒中，全程无需人工参与，从根源上避免了皮肤灼伤的潜在危险，使用安全性高；第一封盘和第二封盘闭合时，由于上下两侧的气密性橡胶垫片和限位卡扣，也可以对第一封盘和第二封盘起到良好的气密性和限位性，使用更加方便，有利于大范围推广使用。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图；

图2为本实用新型水箱的底部结构图；

图3为本实用新型的第一封盘结构示意图。

图中：1-水箱、2-第一封盘、3-转动销、4-接线口、5-镀膜腔、6-进气孔、7-气压表、8-第二封盘、9-污水盒、10-把手、11-扣槽、12-阳极架、13-真空组管接口、14-支架、15-气密卡槽、16-阴极箱、17-进水口、18-转动槽、19-出水口、20-气密性橡胶垫片、21-限位卡扣。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-3，本实用新型提供一种技术方案：一种易清洁的真空溅射镀膜腔,包括镀膜腔5，镀膜腔5的上方安装有水箱1，水箱1的顶部开设有进水口17，且水箱1与镀膜腔5之间安装有第一封盘2，第一封盘2与镀膜腔5和水箱1之间通过贯穿的转动销3转动连接，镀膜腔5的内部顶端通过支架14固定有阴极箱16，且镀膜腔5的内部底端通过支架14固定有阳极架12，镀膜腔5的外壁上与支架14对应位置处开设有接线口4，接线口4的下方开设有进气孔6，进气孔6的下方安装有气压表7，镀膜腔5远离进气孔6的另一侧外壁上开设有真空组管接口13，镀膜腔5的下方设有污水盒9，且镀膜腔5与污水盒9之间还安装有第二封盘8，第二封盘8与镀膜腔5和污水盒9之间通过贯穿的转动销3转动连接，镀膜腔5的外壁上与第一封盘2和第二封盘8对应位置处设有气密卡槽15。

本实施例中，优选的，水箱1的底部与转动销3对应位置处开设有转动槽18，且水箱1的底部与镀膜腔5的内壁对应位置处还开设有密集的出水口19，出水口19的内部均设有电磁阀，电磁阀通过接线口4与外界控制开关电性连接，电磁阀主要通过电磁力实现阀门的卡合，不限于液压或气动。

本实施例中，优选的，污水盒9的前表面开设有把手10，便于污水盒9的抽拉过程，避免抽拉不便造成污水盒9内的溶液漏出，灼伤皮肤。

本实施例中，优选的，水箱1和污水盒9的外壁上与镀膜腔5外壁上的气密卡槽15相对应位置处还安装有相对称的另一组气密卡槽15，两组相互对称的气密卡槽15，确保了当第一封盘2和第二封盘8闭合时整体设备的稳定性，且对于第一封盘2和第二封盘8的限位效果更加精准，方便快捷、安全性高。

本实施例中，优选的，第一封盘2和第二封盘8的上下两个表面上均设有气密性橡胶垫片20，且第一封盘2和第二封盘8的侧壁上开设有扣槽11，第一封盘2和第二封盘8的侧壁上与气密卡槽15相对应位置处还设有限位卡扣21，限位卡扣21与气密卡槽15相互契合，扣槽11便于第一封盘2和第二封盘8的旋转，限位卡扣21与气密卡槽15一样，也设有相互对称的两个，且两个限位卡扣21与两个气密卡槽15一一对应。

本实施例中，优选的，阳极架12的上表面开设有基片放置槽，基片放置槽的内壁上还可以设有密集的防滑凸点，确保基片放置的稳定性更好。

工作原理：本实用新型使用时安全方便，镀膜腔5正常安装后，使用者首先旋出水箱1和第一封盘2，将靶材放置在阴极箱16的内部，再将基片放置在阳极架12上表面的基片放置槽内，闭合水箱1和第一封盘2，确认上下气密卡槽15与限位卡扣21紧密扣合之后，通过外接的真空组对镀膜腔5的内部进行抽真空过程，由气压表7观察镀膜腔5的内部压力，到达一定压力后，通过进气孔6向镀膜腔5的内部充入惰性气体至气压达到2×10-1Pa 或5×10-1Pa后，通过接线口4为阴极的靶材接入直流电源或中频电源，在正负电极的高压作用下，阴极与阳极之间的气体原子被电离，产生辉光放电，电离的过程使得惰性气体分离为单独离子和电子，在高压电场的作用下，电子飞向阳极，带有正电荷的惰性气体离子飞向作为阴极的靶材，并与靶材撞击过程中释放其能量，而后获得能量的靶材原子脱离靶材的束缚而飞向阳极的基片，并沉积在基片表面完成镀膜工作；当长时间使用需要清洁时，直接旋出第一封盘2和第二封盘8，通过外界的控制开关打开电磁阀开关，出水口19即会将水箱1中存放的氢氧化钠饱和溶液放出，流入镀膜腔5的内壁，与长时间堆积的膜料铝进行充分反应产生氢气，由于第二封盘8的旋出，反应后的污浊溶液可直接流入到污水盒9中，全程无需人工参与，从根源上避免了皮肤灼伤的潜在危险，使用安全性高。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。