olids,第 87卷，第 1-2 期，1986 年 10月 2 日，Pages 185 - 198 中。
[0036] 根据本领域技术人员已知的化学反应进行该聚合物的合成，其在反应物与水和任 选与催化剂接触时发生，该催化剂具有1)水解硅烷的烷氧基（〇R 2)以提供羟基和然后2)缩 合水解产物获得3)系统聚合的效果。
[0037] 分子印迹聚合物的制备方法有利地在20至150°C包括20和150°C的温度下进行。
[0038] 优选地，在根据本发明的制备方法中，C14-C2(l脂肪酸、硅烷（I)和交联剂原硅酸四 (C「C 4)烷基酯根据C14-C2Q脂肪酸/硅烷（I)/原硅酸四（C「C4)烷基酯摩尔比1/[1至20]/ [1至40]，优选1/[1至10]/[1至30]并优先1/[1至5]/[1至5]使用。
[0039] 所述分子印迹溶胶-凝胶聚合物从致孔溶剂制备，所述致孔溶剂优选具有极性， 其能够i)溶解C 14-C2(l脂肪酸印迹分子和/或ii)其适合所述C 14-C2(I脂肪酸印迹分子与分 子印迹聚合物的相互作用。
[0040] "袭/Z"溶剂理解为是指能够形成能够传送c14-c2(l脂肪酸分子直到聚合物印迹的 多孔网络的溶剂。所述致孔溶剂也应该促进c14-c2(l脂肪酸印迹分子/单体相互作用和形成 的络合物的稳定性。
[0041] 根据优选的形式，当预聚合混合物中的印迹分子的溶解需要它时，致孔溶剂选自 极性质子有机溶剂，例如水或CfCjf，例如乙醇。
[0042] 根据另一优选实施方案，所述致孔溶剂为极性质子溶剂，例如乙腈，四氢呋喃 (THF)，二烷基甲酰胺（二甲基甲酰胺，二乙基甲酰胺），N-甲基-2-吡咯烷酮（NMP)， N-乙基-2-吡咯烷酮（NEP)，N，N' -二甲基亚丙基脲（DMPU)和二甲基亚砜（DMS0)。
[0043] 也可以使用致孔溶剂混合物。
[0044] 优选地，根据本发明使用的致孔溶剂为选自极性（非）质子溶剂，例如水、(^(： 8醇， 例如乙醇、和乙腈、和它们的混合物的溶剂。
[0045] 印迹分子或槔板： 本发明的目的是能够获得在头皮表面捕获饱和或不饱和脂肪c14-c2(l羧酸，特别是油酸 的分子印迹聚合物。
[0046] 如上所示，脂肪C14-C2(l羧酸"漠疲"为在分子印迹聚合物内模仿油酸(其导致头皮 肩）从而对于分子印迹聚合物而言当施加于头皮时随后能够捕获油酸的化合物。
[0047]作为饱和或不饱和C14-C2(l脂肪羧酸，可以提及肉豆蔻酸（C14:0)、肉豆蔻脑 酸（C14:l)、十五烷酸（C15:0)、棕榈酸（C16:0)、棕榈油酸（C16:l)、顺-6-十六碳烯酸 (sapienic acid) (C16:l)、十七烷酸(或珠光脂酸）(C17:0)、硬脂酸（C18:0)、油酸（C18:l)、 花生酸（C20:0)、二十碳烯酸（C20:l)。优选地，所述脂肪酸为油酸。
[0048] 用于制备根据本发明的印迹聚合物的方法，其包括： 聚合包含如下物质的混合物的第一阶段，包括 i) 一种或多种如下定义的式（I)的硅烷； ii) 一种或多种选自原硅酸四（Q-C；)烷基酯的交联剂；和 iii) 水； iv) -种或多种致孔溶剂； v) -种或多种C14-C2(l脂肪酸； 然后除去存在于在第一阶段结束时获得的聚合物中的C14-C2(l脂肪酸的第二阶段。
[0049] 通过用洗涤溶液洗涤在第一阶段中获得聚合物进行除去阶段。
[0050] 所述洗涤溶液可以选自（^-(；醇，水，乙腈，四氢呋喃（THF)，二烷基甲酰胺 (二甲基甲酰胺，二乙基甲酰胺），N-甲基-2-吡咯烷酮（NMP)，N-乙基-2-吡咯烷酮 (NEP)，N，N'_二甲基亚丙基脲（DMPU)，二甲基亚砜（DMS0)，氯仿，乙酸，氨水，二乙 胺，和它们的混合物。
[0051] 在洗涤之后，印迹聚合物不再包含C14-C2(l脂肪酸。
[0052] 因此，对于聚合物，当施加于头皮时空印迹能够捕获油酸。
[0053] MIP的表征 MIP的表征在于证明形成印迹和评价它们的数量和它们对于靶分子的亲和力。这些 结果可以通过材料形态学(颗粒的尺寸和形状、孔隙率和比表面积）的研宄补充。这些方法 是本领域技术人员已知的（参见例如R. Walsh的2010年6月博士论文第49页第1. 7点， DevelopmentandCharacterizationofMIP http://repository.wit. ie/1619/l/Development_and_characterisation_of_ molecularly_imprinted-suspension-polymers, pdf)〇
[0054] 根据本发明的化妆品组合物包含如上所述的分子印迹聚合物和生理学上可接受 的介质。术语"生理学上可接受的介质"理解成是指与皮肤组织，例如皮肤和头皮相容的介 质。
[0055] 根据本发明的分子印迹聚合物可以相对于组合物总重量的0. 1重量％至20重 量％，优选0. 1重量％至10重量％和优先0. 1重量％至5重量％的含量存在于化妆品组合 物中。
[0056] 所述组合物的生理学上可接受的介质可以更特别由水和任选生理学上可接受的 有机溶剂构成，所述有机溶剂例如选自包含2至8个碳原子，特别是2至6个碳原子的低级 醇，例如乙醇、异丙醇、丙醇或丁醇、具有6至80个氧化乙烯单元的聚乙二醇、和多元醇例如 丙二醇、异戊二醇、丁二醇、甘油和山梨糖醇。
[0057] 根据本发明的组合物可以常规用于局部施加的全部制剂形式并特别是水溶液或 水溶液/醇溶液、水包油（0/W)、油包水（W/0)或多重（三重：W/0/W或0/W/0)乳液、水性 凝胶或使用小球体的脂肪相在水相中的分散体形式提供，对于这些小球体而言可以是聚合 纳米颗粒，例如纳米球和纳米胶囊，或离子和/或非离子类型的脂囊泡(脂质体、泡囊或油 质体)。这些组合物根据通常方法制备。
[0058] 另外，根据本发明使用的组合物可以差不多为流体并可以具有白色或有色乳油、 软膏、乳状物、洗剂、精华液、糊、摩斯或香波的外观。
[0059] 根据本发明使用的组合物包含通常在化妆品领域中使用的助剂，并特别选自水、 油、蜡、颜料、填料、染料、表面活性剂、乳化剂；化妆品活性剂、UV-遮光剂、聚合物、增稠剂、 成膜聚合物、防腐剂、香料、杀菌剂、吸味剂、或抗氧化剂。这些各种助剂的量为通常在该领 域中考虑使用的那些，例如占所述组合物总重量的0. 01%至20%。
[0060] 附加的去肩活性剂 根据本发明的组合物可以包含附加的去肩活性剂，特别选自鞣花酸和其醚、鞣花酸的 盐和其醚、吡硫鑰盐、1-羟基-2-吡啶酮衍生物和（多）硫化硒、和它们的混合物。
[0061] 鞣花酸，或2, 3, 7, 8-四羟基[1]苯并吡喃并[5, 4, 3-cde] [1]苯并吡喃-5, 10-二 酮，为植物界中存在的熟知分子。可以参照公开Merck Index，第20版（1996)，No. 3588。
[0062] 鞣花酸展示出以下化学式：
【主权项】
1. 用于制备分子印迹聚合物的方法，其包括聚合包含如下物质的混合物的第一阶段： i) 一种或多种硅烷； ii) 一种或多种选自原硅酸四（C1-C4)烷基酯的交联剂；和 iii) 水； iv) -种或多种致孔溶剂； V)-种或多种C14-C2tl脂肪酸； 然后除去存在于第一阶段结束时获得的聚合物中的C14-C2tl脂肪酸的第二阶段， 所述硅烷对应于下式（I): R1Si(OR2)z(R3) x (I) 其中： ?札为被选自如下的基团取代的饱和或不饱和的、直链或支链的和环状或非环(^-(：6烃 链： -胺順2或NHR基团，其中R = C fC4烷基， -被氨基或被C1-C4氨基烷基取代的芳基或芳基氧基， 对于&而言可以在其链中插入杂原子（0，S，NH)或羰基（CO)基团，R1直接通过碳原 子键合至娃原子， ? RJPR3，相同或不同，代表包含1至6个碳原子的直链或支链烷基， ? z代表1至3的整数，和 ? X代表0至2的整数， 其中Z+X= 3。
2. 前述权利要求要求保护的方法，其特征在于，对于硅烷（I): R1为被胺NH 2基团取代的饱和直链C ^C6烃链， R2代表包含1至4个碳原子的烷基， R3代表包含1至4个碳原子的烷基。
3. 前述权利要求任一项要求保护的方法，其特征在于，对于硅烷（I)，z等于3。
4. 前述权利要求之一要求保护的方法，其特征在于，式（I)的硅烷选自3-氨基丙基三 乙氧基硅烷（APTES)，2-氨基乙基三乙氧基硅烷（AETES)，3-氨基丙基甲基二乙氧基硅 烧，N_(2_氛基乙基）_3_氛基丙基二乙氧基硅烷，3_(间氛基苯氧基）丙基二甲氧基娃 烷，对氨基苯基三甲氧基硅烷或N-(2-氨基乙基氨基甲基）苯乙基三甲氧基硅烷。
5. 前述权利要求之一要求保护的方法，其特征在于，所述硅烷（I)为3-氨基丙基三乙 氧基硅烷（APTES)。
6. 前述权利要求之一要求保护的方法，其特征在于，原硅酸四（C1-C4)烷基酯为四乙氧 基硅烷（TEOS)。
7. 前述权利要求之一要求保护的方法，其特征在于，所述C 14-C2(I脂肪酸为油酸。
8. 前述权利要求之一要求保护的方法，其特征在于，在酸催化剂或碱性催化剂存在下 进行。
9. 前述权利要求之一要求保护的方法，其特征在于，所述C 14-C2(I脂肪酸，硅烷⑴和 原硅酸四（C「C4)烷基酯根据C 14-C2tl脂肪酸/硅烷（I)/原硅酸四（C「C4)烷基酯摩尔比1/ [1至20]/[1至40]，优选1/[1至10]/[1至30]和优先1/[1至5]/[1至5]使用。
10. 前述权利要求之一要求保护的方法，其特征在于，通过用洗涤溶剂洗涤在第一阶 段中获得的聚合物进行除去脂肪酸的阶段，所述洗涤溶剂选自C 1-CJf，水，乙腈，四 氢呋喃（THF)，二烷基甲酰胺（二甲基甲酰胺，二乙基甲酰胺），N-甲基-2-吡咯烷 酮（NMP)，N-乙基-2-吡咯烷酮（NEP)，N，N' -二甲基亚丙基脲（DMPU)，二甲基亚砜 (DMSO)，氯仿，乙酸，氨水，二乙胺，和它们的混合物。
11. 能够根据前述权利要求任一项要求保护的制备方法获得的分子印迹聚合物。
12. 在生理学上可接受的介质中包含权利要求11要求保护的分子印迹聚合物的化妆 品组合物。
13. 用于防止和/或处理头皮肩，特别是由马拉色氏霉菌属的酵母导致的头皮肩的非 治疗化妆方法，其特征在于其包括向头皮施加权利要求11要求保护的印迹聚合物或包含 其的化妆品组合物。
14. 权利要求11要求保护的印迹聚合物作为活性剂用于防止和/或处理头皮肩的非治 疗化妆用途。
【专利摘要】本发明的主题是通过包含硅烷、原硅酸四(C1-C4)烷基酯、致孔溶剂和C14-C20脂肪酸的混合物的聚合获得的分子印迹聚合物。包含此类聚合物的化妆品组合物。使用此类聚合物防止和/或处理头皮屑的化妆方法。
【IPC分类】A61K8-898, C08G77-26, A61Q5-00, C08G77-32
【公开号】CN104870525
【申请号】CN201380068333
【发明人】A.格雷亚夫斯, C.里博, F.曼弗雷, K.豪普特, J.B.谢森贝
【申请人】莱雅公司
【公开日】2015年8月26日
【申请日】2013年12月20日
【公告号】WO2014102209A1