铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光材料、制备方法及其应用的制作方法
【专利摘要】一种铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光材料，其化学式为LaaGdbLucAl5O12∶xEu2+,yTb3+，LaaGdbLucAl5O12是基质，Eu2+和Tb3+离子是激活元素，其中，a为0～3，b为0～3，c为0～3，且a+b+c=3，x为0.01～0.05，y为0.01～0.06。该铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光材料制成的发光薄膜的电致发光光谱（EL）中，在480nm和580nm波长区都有很强的发光峰，能够应用于薄膜电致发光显示器中。本发明还提供该铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光材料的制备方法及其应用。
【专利说明】铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光材料、制备方法及其应用 【【技术领域】】
[0001] 本发明涉及一种铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光材料、其制备方法、铕铽共掺杂稀土 铝酸盐发光薄膜、其制备方法、薄膜电致发光器件及其制备方法。 【【背景技术】】
[0002] 薄膜电致发光显示器（TFELD)由于其主动发光、全固体化、耐冲击、反应快、视角 大、适用温度宽、工序简单等优点，已引起了广泛的关注，且发展迅速。目前，研究彩色及至 全色TFELD，开发多波段发光的材料，是该课题的发展方向。但是，可应用于薄膜电致发光显 示器的铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光材料，仍未见报道。 【
【发明内容】
】
[0003] 基于此，有必要提供一种可应用于薄膜电致发光器件的铕铽共掺杂稀土铝酸盐发 光材料、其制备方法、铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光薄膜、其制备方法、使用该铕铽共掺杂稀 土铝酸盐发光材料的薄膜电致发光器件及其制备方法。
[0004] 一种铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光材料，其化学式为LaaGdbLu eAl5012 : xEu2+，yTb3+， LaaGdbLUc;Al5012是基质，Eu 2+和Tb3+离子是激活元素，其中，a为0?3，b为0?3，c为0? 3,且 a+b+c=3, X 为 0· 01 ?0· 05, y 为 0· 01 ?0· 06。
[0005] 所述 a 为 0· 6, b 为 1. 0, c 为 1. 4, X 为 0· 03, y 为 0· 04。
[0006] 一种铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光材料的制备方法，包括以下步骤：
[0007] 根据 LaaGdbLueAl5012 : xEu2+, yTb3+各元素的化学计量比称取 La203, Gd203, Lu203， A1203，Eu203和Tb40 7粉体并混合均匀，其中，a为0?3，b为0?3，c为0?3，且a+b+c=3， X 为 0· 01 ?0· 05, y 为 0· 01 ?0· 06 ;及
[0008] 将混合均匀的粉体在900°C?1300°C下烧结0. 5小时?5小时即得到化学式为 LaaGdbLUc;Al5012 : xEu2+，yTb3+的铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光材料。
[0009] -种铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光薄膜，该铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光薄膜的材料 的化学通式为 LaaGdbLueAl5012 : xEu2+，yTb3+，LaaGdbLu eAl5012 是基质，Eu2+ 和 Tb3+ 离子是激活 元素，其中，a为〇?3，b为0?3，c为0?3,且a+b+c=3，x为0· 01?0· 05，y为0· 01? 0. 06〇
[0010] 一种铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光薄膜的制备方法，包括以下步骤：
[0011] 根据 LaaGdbLueAl5012 : xEu2+, yTb3+各元素的化学计量比称取 La203, Gd203, Lu203， A1203，Eu203和Tb40 7粉体并混合均匀，其中，a为0?3，b为0?3，c为0?3，且a+b+c=3， X 为 0· 01 ?0· 05, y 为 0· 01 ?0· 06 ;
[0012] 将所述靶材以及衬底装入磁控溅射镀膜设备的真空腔体，并将真空腔体的真空度 设置为 1. 〇 X l(T3Pa ?1. 0 X l(T5Pa ;及
[0013] 调整磁控溅射镀膜工艺参数为：基靶间距为45mm?95mm，磁控溅射工作压强 0. 2Pa?4Pa，工作气体的流量为lOsccm?35sccm，衬底温度为250°C?750°C，接着进行制 膜，得到化学式为LaaGdbLUc;Al50 12 : xEu2+，yTb3+的铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光薄膜。
[0014] 还包括步骤：将所述铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光薄膜于50(TC?80(TC下真空退 火处理lh?3h。
[0015] 一种薄膜电致发光器件，该薄膜电致发光器件包括依次层叠的衬底、阳极层、发光 层以及阴极层，所述发光层的材料为铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光材料，该铕铽共掺杂稀土 铝酸盐发光材料的化学式为La aGdbLueAl5012 : xEu2+，yTb3+，1^6(沾11，15012是基质』11 2+和 Tb3+离子是激活元素，其中，a为0?3，b为0?3，c为0?3,且a+b+c=3, X为0. 01? 0· 05, y 为 0· 01 ?0· 06。
[0016] 一种薄膜电致发光器件的制备方法，包括以下步骤：
[0017] 提供具有阳极的衬底；
[0018] 在所述阳极上形成发光层，所述发光层的材料为铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光 材料，该铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光材料的化学式为La aGdbLueAl5012 : xEu2+，yTb3+， LaaGdbLUc;Al5012是基质，Eu 2+和Tb3+离子是激活元素，其中，a为0?3，b为0?3，c为0? 3,且 a+b+c=3, X 为 0· 01 ?0· 05, y 为 0· 01 ?0· 06 ;
[0019] 在所述发光层上形成阴极。
[0020] 所述发光层的制备包括以下步骤：
[0021] 根据 LaaGdbLi^Al；^ : xEu2+, yTb3+各元素的化学计量比称取 La203, Gd203, Lu203， A1203，Eu203和Tb40 7粉体并混合均匀在900°C?1300°C下烧结0· 5小时?5小时制成靶材， 其中，a 为 0 ?3，b 为 0 ?3，c 为 0 ?3,且 a+b+c=3，x 为 0· 01 ?0· 05，y 为 0· 01 ?0· 06 ;
[0022] 将所述靶材以及所述衬底装入磁控溅射镀膜设备的真空腔体，并将真空腔体的真 空度设置为 1. 〇 X l〇_3Pa ?1. 0 X 10_5Pa ;
[0023] 调整磁控溅射镀膜工艺参数为：基靶间距为45mm?95mm，磁控溅射工作压强 0. 2Pa?4Pa，工作气体的流量为lOsccm?35sccm，衬底温度为250°C?750°C，接着进行制 膜，得到化学式为La aGdbLUc;Al5012 : xEu2+，yTb3+的铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光薄膜，在所述 阳极上形成发光层。
[0024] 还包括步骤：将所述铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光薄膜于50(TC?80(TC下真空退 火处理lh?3h。
[0025] 上述铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光材料（LaaGdbLu eAl5012 : xEu2+，yTb3+)制成的发光 薄膜的电致发光光谱（EL)中，在480nm和580nm波长区都有很强的发光峰，能够应用于薄 膜电致发光显示器中。 【【专利附图】
【附图说明】】
[0026] 图1为一实施方式的薄膜电致发光器件的结构示意图；
[0027] 图2为实施例1制备的铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光薄膜的电致发光谱图；
[0028] 图3为实施例1制备的铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光薄膜的拉曼光谱；
[0029] 图4是实施例1制备的薄膜电致发光器件的电压与电流密度和电压与亮度之间的 关系曲线图。 【【具体实施方式】】
[0030] 下面结合附图和具体实施例对铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光材料、其制备方法、铕 铽共掺杂稀土铝酸盐发光薄膜、其制备方法、薄膜电致发光器件及其制备方法进一步阐明。
[0031] -实施方式的铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光材料，其化学式为 LaaGdbLueAl5012 : xEu2+, yTb3+，LaaGdbLueAl50 12 是基质，Eu2+ 和 Tb3+ 离子是激活元素，其中，a 为0 ?3，b为 0?3，c为 0?3,且 a+b+c=3, X 为 0· 01 ?0· 05, y 为 0· 01 ?0· 06。
[0032] 优选的，a 为 0· 6, b 为 1. 0, c 为 1. 4, X 为 0· 03, y 为 0· 04。
[0033] 该铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光材料制成的发光薄膜的电致发光光谱（EL)中，在 480nm和580nm波长区都有很强的发光峰，能够应用于薄膜电致发光显示器中。
[0034] 上述铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光材料的制备方法，包括以下步骤：
[0035] 步骤SI 1、根据LaaGdbLueAl5012 : xEu2+, yTb3+各元素的化学计量比称取La203， Gd203，Lu2〇3，Al203，Eu 2〇3和Tb407粉体并混合均匀，其中，a为0?3，b为0?3，c为0?3， 且 a+b+c=3, X 为 0· 01 ?0· 05, y 为 0· 01 ?0· 06 ;及
[0036] 将混合均匀的粉体在900°C?1300°C下烧结0. 5小时?5小时即得到化学式为 LaaGdbLUc;Al5012 : xEu2+，yTb3+的铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光材料。
[0037] 该步骤中，优选的，a为0. 6, b为1. 0, c为1. 4, X为0. 03, y为0. 04。
[0038] 步骤S12、将混合均的粉体在900°C?1300°C下烧结0. 5小时?5小时即可得到铕 铽共掺杂稀土铝酸盐发光材料，其化学式为LaaGdbL Uc;Al5012 : xEu2+，yTb3+。
[0039] 该步骤中，优选的在1250°C下烧结3小时。
[0040] 一实施方式的铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光薄膜，该铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光薄 膜的材料的化学通式为 LaaGdbLueAl5012 : xEu2+，yTb3+，LaaGdbLu eAl5012 是基质，Eu2+ 和 Tb3+ 离 子是激活元素，其中，a为0?3，b为0?3, c为0?3,且a+b+c=3, X为0. 01?0. 05, y 为 0· 01 ?0· 06。
[0041] 优选的，a 为 0· 6, b 为 L 0, c 为 L 4, X 为 0· 03, y 为 0· 04。
[0042] 上述铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光薄膜的制备方法，包括以下步骤：
[0043] 步骤 S21、按 LaaGdbLueAl5012 : xEu2+，yTb3+ 各元素的化学计量比称取 La203, Gd203， Lu203, Al2〇3, Eu203和Tb407粉体并混合均匀，其中，a为0?3，b为0?3，c为0?3,且 a+b+c=3, X 为 0· 01 ?0· 05, y 为 0· 01 ?0· 06。
[0044] 该步骤中，优选的，a为0.6, b为1.0, c为1.4, X为0.03, y为0.04,在1250°C下 烧结3小时成直径为50mm，厚度为2mm的陶瓷靶材。
[0045] 步骤S22、将步骤S21中得到的靶材以及衬底装入磁控溅射镀膜设备的真空腔体， 并将真空腔体的真空度设置为1. ox l(T3Pa?1. OX 10_5Pa。
[0046] 该步骤中，优选的，真空度为5X10_4Pa。
[0047] 步骤S23、调整磁控溅射镀膜工艺参数为：基靶间距为45mm?95mm，磁控溅射工作 压强0. 2Pa?4Pa，工作气体的流量为lOsccm?35sccm，衬底温度为250°C?750°C ;接着 进行制膜，得到化学式为LaaGdbLUc;Al 5012 : xEu2+，yTb3+的铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光薄膜。
[0048] 还包括步骤：将所述铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光薄膜于50(TC?80(TC下真空退 火处理lh?3h。
[0049] 该步骤中，优选的基靶间距为60mm，磁控溅射工作压强2Pa，工作气体为氧气，工 作气体的流量为25SCCm，衬底温度为500°C。
[0050] 请参阅图1，一实施方式的薄膜电致发光器件100,该薄膜电致发光器件100包括 依次层叠的衬底1、阳极2、发光层3以及阴极4。
[0051] 衬底1为玻璃衬底。阳极2为形成于玻璃衬底上的氧化铟锡（ΙΤ0)。发光层3的 材料为铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光材料，该铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光材料的化学式为 LaaGdbLueAl5012 : xEu2+, yTb3+，LaaGdbLueAl50 12 是基质，Eu2+ 和 Tb3+ 离子是激活元素，其中，a 为0?3，b为0?3，c为0?3,且a+b+c=3, X为0· 01?0· 05, y为0· 01?0· 06。阴极 4的材质为银（Ag)。
[0052] 上述薄膜电致发光器件的制备方法，包括以下步骤：
[0053] 步骤S31、提供具有阳极2的衬底1。
[0054] 本实施方式中，衬底1为玻璃衬底，阳极2为形成于玻璃衬底上的氧化铟锡（ΙΤ0)。 具有阳极2的衬底1先后用丙酮、无水乙醇和去离子水超声清洗并用对其进行氧等离子处 理。
[0055] 步骤S32、在阳极2上形成发光层3,发光层3的材料为铕铽共掺杂稀土铝酸盐 发光材料，该铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光材料的化学式为La aGdbLUc;Al5012 : xEu2+，yTb3+， LaaGdbLUc;Al5012是基质，Eu 2+和Tb3+离子是激活元素，其中，a为0?3，b为0?3，c为0? 3,且 a+b+c=3, X 为 0· 01 ?0· 05, y 为 0· 01 ?0· 06。
[0056] 本实施方式中，发光层3由以下步骤制得：
[0057] 首先，将1^如扣，15012 : xEu2+, yTb3+各元素的化学计量比称取La203, Gd203， Lu203, A1203, Eu203和Tb407粉体并混合均匀在900°C?1300°C下烧结0. 5小时?5小时制成 靶材，其中，a为0?3，b为0?3，c为0?3,且a+b+c=3，x为0· 01?0· 05，y为0· 01? 0. 06〇
[0058] 其次，将靶材以及衬底装入磁控溅射镀膜设备的真空腔体，并将真空腔体的真空 度设置为 1. 〇 X l(T3Pa ?1. 0 X l(T5Pa。
[0059] 该步骤中，优选的，真空度为5X10_4Pa。
[0060] 然后，调整磁控溅射镀膜工艺参数为：基靶间距为45mm?95mm，磁控溅射工作压 强0. 2Pa?4Pa，工作气体的流量为lOsccm?35sccm，衬底温度为250°C?750°C，接着进 行制膜，在阳极2上形成发光层3。
[0061] 该步骤中，优选的基靶间距为60mm，磁控溅射工作压强2Pa，工作气体为氧气，工 作气体的流量为25 SCCm，衬底温度为500°C。
[0062] 还包括步骤：将所述铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光薄膜于50(TC?80(TC下真空退 火处理lh?3h。
[0063] 步骤S33、在发光层3上形成阴极4。
[0064] 本实施方式中，阴极4的材料为银(Ag)，由蒸镀形成。
[0065] 下面为具体实施例。
[0066] 实施例1
[0067] 选用纯度为 99. 99% 的粉体，将 0· 6mmol 的 La203, 1. Ommol 的 Gd203, 1. 4mmol 的 Lu203, 5mmol 的 Α1203, 0· 03mmol 的 Eu203 和 0· 005mmol 的 Tb407 粉体，经过均勻混合后，在 1250°C下烧结成直径为50mm，厚度为2mm的陶瓷靶材，并将靶材装入真空腔体内。然后，先 后用丙酮、无水乙醇和去离子水超声清洗带IT0的玻璃衬底，并用对其进行氧等离子处理， 放入真空腔体。把靶材和衬底的距离设定为60mm。用机械泵和分子泵把腔体的真空度抽到 5. 0X10_4Pa，氩气的工作气体流量为25sccm，压强调节为2. OPa，衬底温度为500°C。得到 的样品化学式为LaaGdbLUc;Al 5012 : xEu2+，yTb3+的发光薄膜，然后将得到的发光薄膜在真空 度中真空度为O.OlPa，退火温度为600°C，退火处理2h，然后在发光薄膜上面蒸镀一层Ag， 作为阴极。
[0068] 本实施例中得到的铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光薄膜的化学通式为 LaaGdbLucAl5012 : xEu2.，yTb3+〇
[0069] 请参阅图2,图2所示为得到的铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光薄膜的电致发光谱 (EL)。由图2可以看出，电致发光谱中，在480nm和580nm波长区都有很强的发光峰，能够 应用于薄膜电致发光显示器中。
[0070] 请参阅图3,图3为实施例1制备的铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光薄膜的拉曼光谱， 由图可以看出拉曼峰所示为稀土铝酸盐玻璃特征峰，没有出现掺杂元素以及其它杂质的 峰，说明掺杂元素与基质材料形成了良好的键合。
[0071] 请参阅图4,图4是实施例1制备的薄膜电致发光器件的电压与电流密度和电压与 亮度之间的关系曲线图，曲线1是电压与电流密度关系曲线，可看出该器件从电压5. 5V开 始发光，曲线2是电压与亮度关系曲线，可以看出该器件的最大亮度为95cd/m2,表明器件具 有良好的发光特性。
[0072] 实施例2
[0073] 选用纯度为 99. 99% 的粉体，将 2. Ommol 的 Gd203, lmmol 的 Lu203, 5mmol 的 Ahoy 0. 005mmol的Eu203和0. 15mmol的Tb407粉体，经过均匀混合后，在900°C下烧结成直径为 50mm，厚度为2mm的陶瓷靶材，并将靶材装入真空腔体内。然后，先后用丙酮、无水乙醇和 去离子水超声清洗带ΙΤ0的玻璃衬底，并用对其进行氧等离子处理，放入真空腔体。把靶 材和衬底的距离设定为45mm。用机械泵和分子泵把腔体的真空度抽到1.0Xl(T 3Pa，氦气 的工作气体流量为lOsccm，压强调节为0. 2Pa，衬底温度为250°C，得到的样品的化学式为 Gd2LuAl5012 : 0. 01Eu2+，0. 06Tb3+的发光薄膜，然后将得到的发光薄膜在真空度中真空度为 0. 01Pa，退火温度为500°C，退火处理lh，然后在发光薄膜上面蒸镀一层Ag，作为阴极。
[0074] 实施例3
[0075] 选用纯度为 99. 99% 的粉体，将 0· 8mmol 的 La203, 2. 2mmol 的 Lu203, 5mmol 的 A1203， 0. 05mmol的Eu203和0. 005mmol的Tb407粉体，经过均匀混合后，在1300°C下烧结成直径为 50mm，厚度为2mm的陶瓷靶材，并将靶材装入真空腔体内。然后，先后用丙酮、无水乙醇和去 离子水超声清洗带ΙΤ0的玻璃衬底，并用对其进行氧等离子处理，放入真空腔体。把靶材 和衬底的距离设定为95mm。用机械泵和分子泵把腔体的真空度抽到1.0Xl(T 5Pa，氩气的 工作气体流量为35SCCm，压强调节为4. OPa，衬底温度为750°C，得到的样品的化学式为La q.8Lu2.2A150 12 : 0. 05Eu2+，0. 01Tb3+的发光薄膜，然后将得到的发光薄膜在真空度中真空度为 0. 01Pa，退火温度为800°C，退火处理3h，然后在发光薄膜上面蒸镀一层Ag，作为阴极。
[0076] 实施例4
[0077] 选用纯度为 99. 99% 的粉体，将 0· 4mmol 的 La203, 2. lmmol 的 Gd203, 0· 5mmol 的 Lu203, 5mmol 的 A1203, 0· 04mmol 的 Eu203 和 0· Olmmol 的 Tb407 粉体，经过均勻混合后，在 1250°C下烧结成直径为50mm，厚度为2mm的陶瓷靶材，并将靶材装入真空腔体内。然后，先 后用丙酮、无水乙醇和去离子水超声清洗带ITO的玻璃衬底，并用对其进行氧等离子处理， 放入真空腔体。把靶材和衬底的距离设定为60mm。用机械泵和分子泵把腔体的真空度抽到 5. OX 10_4Pa，氩气的工作气体流量为25SCCm，压强调节为2. OPa，衬底温度为500°C，得到的 样品的化学式为LauGduLuuAiPu : 0. 04Eu2+，0. 02Tb3+的发光薄膜，然后将得到的发光薄 膜在真空度中真空度为0. OlPa，退火温度为600°C，退火处理2h，然后在发光薄膜上面蒸镀 一层Ag，作为阴极。
[0078] 实施例5
[0079] 选用纯度为 99. 99% 的粉体，将 0· 4mmo1 的 La203, 0· 4mmo1 的 Gd203, 2. 2mmo1 的 Lu203, 5mmol 的 Α1203, 0· 02mmol 的 Eu203 和 0· 025mmol 的 Tb407 粉体，经过均勻混合后，在 900°C下烧结成直径为50mm，厚度为2mm的陶瓷靶材，并将靶材装入真空腔体内。然后，先 后用丙酮、无水乙醇和去离子水超声清洗带ΙΤ0的玻璃衬底，并用对其进行氧等离子处理， 放入真空腔体。把靶材和衬底的距离设定为45mm。用机械泵和分子泵把腔体的真空度抽 到1. 0 X 10_3Pa，氩气的工作气体流量为35sccm，压强调节为4. OPa，衬底温度为750°C。得 到的样品的化学式为Laa4Gda4Lu 2.2Al5012 : 0. 02Eu2+，0. 05Tb3+的发光薄膜，然后将得到的 发光薄膜在真空度中真空度为〇. OlPa，退火温度为800°C，退火处理3h，然后在发光薄膜上 面蒸镀一层Ag，作为阴极。
[0080] 以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并 不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员 来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保 护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
【权利要求】
1. 一种铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光材料，其特征在于：其化学式为 LaaGdbLueAl5012 : xEu2+, yTb3+，LaaGdbLueAl50 12 是基质，Eu2+ 和 Tb3+ 离子是激活元素，其中，a 为0 ?3，b为 0?3，c为 0?3,且 a+b+c=3, X 为 0· 01 ?0· 05, y 为 0· 01 ?0· 06。
2. 根据权利要求1所述的发光材料，其特征在于：所述a为0. 6, b为1. 0, c为1. 4, X 为 0· 03, y 为 0· 04。
3. -种铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： 根据 LaaGdbLUc;Al5012 : xEu2+，yTb3+ 各元素的化学计量比称取 La203, Gd203, Lu203, A1203， Eu203和Tb407粉体并混合均勻，其中，a为0?3，b为0?3，c为0?3,且a+b+c=3, x为 0· 01 ?0· 05, y 为 0· 01 ?0· 06 ;及 将混合均匀的粉体在900°C?1300°C下烧结0. 5小时?5小时即得到化学式为 LaaGdbLUc;Al5012 : xEu2+，yTb3+的铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光材料。
4. 一种铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光薄膜，其特征在于，该铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光 薄膜的材料的化学通式为 LaaGdbLueAl5012 : xEu2+，yTb3+，LaaGdbLu eAl5012 是基质，Eu2+ 和 Tb3+ 离子是激活元素，其中，a为0?3，b为0?3，c为0?3,且a+b+c=3, x为0. 01?0. 05， y 为 0· 01 ?0· 06。
5. -种铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： 根据 LaaGdbLUc;Al5012 : xEu2+，yTb3+ 各元素的化学计量比称取 La203, Gd203, Lu203, A1203， Eu203和Tb407粉体并混合均勻，其中，a为0?3，b为0?3，c为0?3,且a+b+c=3, x为 0· 01 ?0· 05, y 为 0· 01 ?0· 06 ; 将所述靶材以及衬底装入磁控溅射镀膜设备的真空腔体，并将真空腔体的真空度设置 为 1. 0 X l(T3Pa ?1. 0 X l(T5Pa ;及 调整磁控溅射镀膜工艺参数为：基靶间距为45mm?95mm，磁控溅射工作压强0. 2Pa? 4Pa，工作气体的流量为lOsccm?35SCCm，衬底温度为250°C?750°C，接着进行制膜，得到 化学式为La aGdbLUc;Al5012 : xEu2+，yTb3+的铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光薄膜。
6. 根据权利要求5所述的铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光薄膜的制备方法，其特征在于， 还包括步骤：将所述铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光薄膜于50(TC?80(TC下真空退火处理 lh ?3h〇
7. -种薄膜电致发光器件，该薄膜电致发光器件包括依次层叠的衬底、阳极层、发光层 以及阴极层，其特征在于，所述发光层的材料为铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光材料，该铕铽共 掺杂稀土铝酸盐发光材料的化学式为La aGdbLUc;Al5012 : xEu2+，yTb3+，LaaGdbL Uc;Al5012是基 质，Eu2+和Tb 3+离子是激活元素，其中，a为0?3，b为0?3，c为0?3,且a+b+c=3, X为 0· 01 ?0· 05, y 为 0· 01 ?0· 06。
8. -种薄膜电致发光器件的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： 提供具有阳极的衬底； 在所述阳极上形成发光层，所述发光层的材料为铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光材料，该 铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光材料的化学式为LaaGdbLUc;Al 5012 : xEu2+，yTb3+，LaaGdbL Uc;Al5012 是基质，Eu2+和Tb3+离子是激活元素，其中，a为0?3，b为0?3，c为0?3,且a+b+c=3, X 为 0· 01 ?0· 05, y 为 0· 01 ?0· 06 ; 在所述发光层上形成阴极。
9. 根据权利要求8所述的薄膜电致发光器件的制备方法，其特征在于，所述发光层的 制备包括以下步骤： 根据 LaaGdbLUc;Al5012 : xEu2+，yTb3+ 各元素的化学计量比称取 La203, Gd203, Lu203, A1203， Eu203和Tb407粉体并混合均匀在900°C?1300°C下烧结0. 5小时?5小时制成靶材，其中， a为 0?3，b为 0?3，c 为0 ?3,且 a+b+c=3, X 为 0· 01 ?0· 05, y 为 0· 01 ?0· 06 ; 将所述靶材以及所述衬底装入磁控溅射镀膜设备的真空腔体，并将真空腔体的真空度 设置为 1. 〇 X l(T3Pa ?L 0 X l(T5Pa ; 调整磁控溅射镀膜工艺参数为：基靶间距为45mm?95mm，磁控溅射工作压强0. 2Pa? 4Pa，工作气体的流量为lOsccm?35SCCm，衬底温度为250°C?750°C，接着进行制膜，得到 化学式为La aGdbLUc;Al5012 : xEu2+，yTb3+的铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光薄膜，在所述阳极上 形成发光层。
10. 根据权利要求8所述的薄膜电致发光器件的制备方法，其特征在于，还包括步骤： 将所述铕铽共掺杂稀土铝酸盐发光薄膜于500°C?800°C下真空退火处理lh?3h。
【文档编号】C09K11/80GK104140817SQ201310168213
【公开日】2014年11月12日 申请日期:2013年5月6日 优先权日:2013年5月6日
【发明者】周明杰, 王平, 陈吉星, 钟铁涛 申请人:海洋王照明科技股份有限公司, 深圳市海洋王照明技术有限公司, 深圳市海洋王照明工程有限公司