施例中，激光器340与有机材料320之间的光线传输路径包括显影后的光刻胶350和TFT背板310。由于光刻胶350显影后溶于显影液的区域能够透光，且TFT背板310中的阳极透光，因此最终激光照射至有机材料320的区域是由光刻胶350显影后溶于显影液的区域和阳极来共同决定的。
[0074]其中在激光的传输路径上增加光刻胶350，优势在于若要在TFT背板310上蒸镀彩色像素图案时，则能够通过光刻胶350来限制每次蒸镀的子像素图案的颜色。同时由于光刻胶350显影后溶于显影液的区域均对应同种颜色的子像素图案的分布区域，且激光扫描的区域至少包括阳极覆盖的所有区域，因此每次蒸镀后都能将有机材料320蒸镀于同一种颜色的全部子像素图案的分布区域，从而形成该颜色子像素的完整图案。例如第一次蒸镀时，只在TFT背板310利用对应R颜色子像素图案的光刻掩膜版进行曝光显影，之后再利用激光在TFT背板310的阳极表面上对应R颜色子像素图案的分布区域蒸镀R颜色的有机材料;蒸镀完成后再利用对应G颜色子像素图案的光刻掩膜版进行曝光、显影，最后利用激光在TFT背板310的阳极表面上对应G颜色子像素图案的分布区域蒸镀G颜色的有机材料…如此，最终即能在TFT背板310上形成彩色像素图案。
[0075]另外，为了节约资源，在保证激光能够扫描阳极覆盖的所有区域，且有机材料320恰好完全蒸镀于阳极的所有分布区域时，则可控制激光仅扫描阳极的覆盖区域。
[0076]综上所述，在第三实施例中，该0LED像素图案蒸镀方法仍然能够只利用激光对TFT背板310进行扫描即可完成蒸镀，无需考虑在高分辨率要求下因使用FMM而带来的一系列工艺难度，克服了传统技术中因FMM工艺受限而不能够满足高分辨率的要求的问题，提高了显不屏的分辨率。
[0077]另外，若需要蒸镀彩色像素图案时，第三实施例中还可以通过光刻胶350显影后溶于显影液的区域和TFT背板310的阳极来分别蒸镀不同颜色的子像素图案。同时第三实施例尽管使用了光刻中曝光和显影的工序，但由于光刻是较成熟的工艺，在工艺方面的难度远远低于传统精细金属掩膜版的制作工艺，因此仍然能够保证整个工艺较为简单。因此，第三实施例在仍然能够克服传统技术中因FMM工艺受限而不能够满足高分辨率要求的问题的基础上，还能蒸镀彩色像素图案，扩大了应用范围。
[0078]最后本申请中还公开了0LED像素图案蒸镀系统，同样，用于向TFT背板蒸镀像素图案。对应于第一实施例提供的0LED像素图案蒸镀方法，该0LED像素图案蒸镀系统包括涂布有机材料的平台基板、TFT背板及激光器。其中，TFT背板包括基板、薄膜晶体管阵列及透明的阳极，阳极和薄膜晶体管阵列分布于基板的正面，且阳极表面为待蒸镀像素图案的分布区域。激光器，在阳极面向有机材料时，用激光面向基板的背面扫描，且激光扫描的区域至少包括阳极覆盖的所有区域。
[0079]另外，对应于第二实施例提供的0LED像素图案蒸镀方法，该0LED像素图案蒸镀系统中，像素图案包括若干子像素图案，且阳极表面为待蒸镀子像素图案的分布区域。同时在激光器和TFT背板之间还设有包括若干开孔的光刻掩膜版。其中，开孔均对应同种颜色的子像素图案的分布区域，开孔面积大于对应子像素图案分布区域的面积，且开孔的面积小于或等于位于与子像素图案相邻的所有子像素图案之间的区域的面积。
[0080]对应于上述第三实施例提供的0LED像素图案蒸镀方法，该0LED像素图案蒸镀系统中，像素图案包括若干子像素图案，且阳极表面为待蒸镀子像素图案的分布区域。同时还包括光刻掩膜版、曝光设备及显影设备，且在TFT背板的背面涂布光刻胶。曝光设备，用于将光刻掩膜版与TFT背板对准并曝光。光刻掩膜版的图形，满足使得光刻胶中溶于显影液的各区域均对应同种颜色的子像素图案分布区域的条件。
[0081]以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
[0082]以上实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
【主权项】
1.一种OLED像素图案蒸镀方法，其特征在于，用于向TFT背板蒸镀像素图案，所述TFT背板包括基板、薄膜晶体管阵列及透明的阳极，所述阳极和薄膜晶体管阵列分布于所述基板的正面，且所述阳极的表面为待蒸镀像素图案的分布区域;所述0LED像素图案蒸镀方法包括: 将所述TFT背板置于所述有机材料上方，且所述阳极面向所述有机材料； 用激光向所述基板的背面扫描，且所述激光扫描的区域至少包括所述阳极覆盖的所有区域。2.根据权利要求1所述的0LED像素图案蒸镀方法，其特征在于，还包括:将所述有机材料涂布于平台基板上。3.根据权利要求1所述的0LED像素图案蒸镀方法，其特征在于，还包括:在所述TFT背板上方设置激光器。4.根据权利要求3所述的0LED像素图案蒸镀方法，其特征在于，所述像素图案包括若干子像素图案，所述阳极表面为待蒸镀子像素图案的分布区域，且用激光向所述基板的背面扫描的步骤前还包括: 在所述激光器和所述TFT背板之间设置包括若干开孔的光刻掩膜版;其中，各所述开孔均对应同种颜色的子像素图案的分布区域，所述开孔的面积大于对应子像素图案分布区域的面积，且所述开孔的面积小于或等于位于与所述对应子像素图案相邻的所有子像素图案之间的区域的面积。5.根据权利要求4所述的0LED像素图案蒸镀方法，其特征在于，在所述激光器和所述TFT背板之间设置包括若干开孔的光刻掩膜版的步骤后还包括:调整所述光刻掩膜版的位置，使得所述开孔对准颜色与所述有机材料颜色一致的子像素图案的分布区域。6.根据权利要求1所述的0LED像素图案蒸镀方法，其特征在于，所述像素图案包括若干子像素图案，所述阳极表面为待蒸镀子像素图案的分布区域，用激光向所述基板的背面扫描的步骤前还包括: 在所述TFT背板的背面涂布光刻胶； 利用光刻掩膜版对所述光刻胶进行曝光及显影，且所述光刻掩膜版的图形，满足使得所述光刻胶中溶于显影液的各区域均对应同种颜色的子像素图案分布区域的条件。7.根据权利要求6所述的0LED像素图案蒸镀方法，其特征在于，所述光刻胶中溶于显影液的所有区域对应的子像素图案的颜色与所述有机材料的颜色一致。8.—种0LED像素图案蒸镀系统，其特征在于，用于向TFT背板蒸镀像素图案，所述0LED像素图案蒸镀系统包括用于涂布有机材料的平台基板、TFT背板及激光器;所述TFT背板包括基板、薄膜晶体管阵列及透明的阳极，所述阳极和薄膜晶体管阵列分布于所述基板的正面，且所述阳极表面为待蒸镀像素图案的分布区域； 所述激光器，在所述阳极面向所述有机材料时，用激光向所述基板的背面扫描，且所述激光扫描的区域至少包括所述阳极覆盖的所有区域。9.根据权利要求8所述的0LED像素图案蒸镀系统，其特征在于，所述像素图案包括若干子像素图案，所述阳极表面为待蒸镀子像素图案的分布区域;在所述激光器和TFT背板之间还设有包括若干开孔的光刻掩膜版;其中，各所述开孔均对应同种颜色的子像素图案的分布区域，所述开孔面积大于对应子像素图案分布区域的面积，且所述开孔的面积小于或等于位于与所述子像素图案相邻的所有子像素图案之间的区域的面积。10.根据权利要求8所述的OLED像素图案蒸镀系统，其特征在于，所述像素图案包括若干子像素图案，所述阳极表面为待蒸镀子像素图案的分布区域;所述OLED像素图案蒸镀系统还包括光刻掩膜版、曝光设备及显影设备，且在所述TFT背板的背面涂布光刻胶;所述曝光设备，用于将所述光刻掩膜版与所述TFT背板对准并曝光;所述显影设备，用于将所述光刻胶显影;所述光刻掩膜版的图形，满足使得所述光刻胶中溶于显影液的各区域均对应同种颜色的子像素图案分布区域的条件。
【专利摘要】本发明涉及一种OLED像素图案蒸镀方法及系统，用于向TFT背板蒸镀像素图案，TFT背板包括基板、薄膜晶体管阵列及透明的阳极，阳极和薄膜晶体管阵列分布于基板的正面，且阳极表面为待蒸镀像素图案的分布区域。通过将TFT背板置于有机材料上方，且阳极面向所述有机材料后，再用激光向基板的背面扫描，且激光扫描的区域至少包括阳极覆盖的所有区域。当激光扫描完成后即可将有机材料蒸镀于阳极的全部分布区域，从而形成完整的像素图案。因此，该OLED像素图案蒸镀方法及系统只需利用激光对TFT背板进行扫描即可完成蒸镀，克服了传统技术中因FMM工艺受限而不能够满足高分辨率的要求的问题，提高了显示屏的分辨率。
【IPC分类】H01L51/56, H01L51/00
【公开号】CN105489788
【申请号】CN201511019582
【发明人】党鹏乐, 张秀玉, 丁立薇, 张小宝, 姜海斌, 朱晖
【申请人】昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司
【公开日】2016年4月13日
【申请日】2015年12月29日