专利名称：彩色滤光片基板及其制造方法
技术领域：
本发明涉及液晶显示技术领域，具体涉及ー种彩色滤光片基板及其制造方法。
背景技术：
在液晶面板制程中，对位标志(mark)具有重要作用，当需要进行位置确认和座标计算吋，需要读取对位标志的位置。例如，进行精密量测仪器座标定位和曝光机曝光对位时，需要读取对位标志的位置；在液晶面板对组制程时，亦需要通过对位标志对有源阵列基板和彩色滤光片基板的对组位置进行确认。请參阅图1，图I是现有彩色滤光片基板上对位标志的设置示意图。如图I所示，现有技术中，彩色滤光片基板的透明基板10上包括有多个像素有效 区100和环绕像素有效区100设置的像素无效区101。其中，在像素无效区101上设有黑色矩阵图案作为对位标志1010，且对位标志1010的形状可设置为如图I中所示的方形或交叉的十字形。请參阅图2，图2是图I中像素无效区101的部分剖面示意图，透明基板10的像素无效区101上覆盖有透明导电层120，且对位标志1010及对位标志1010周边区域上均被透明导电层120全部覆盖，S卩透明导电层120在对位标志1010及对位标志1010周边区域上的覆盖特性相同。在采用CO) (Charge-coupled Device,电荷稱合元件)光学读取镜头来读取对位标志1010的位置时，由于透明导电层120在对位标志1010及对位标志1010周边区域上的覆盖特性相同，不具有光学差异性，因此导致CCD光学读取镜头在读取对位标志1010时的成功率不高，甚至读取失败，由此引起制程的位置计算精度偏移或是降低设备稼动率，导致生产效率和产能偏低。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供ー种彩色滤光片基板及其制造方法，以提高CCD光学读取镜头读取对位标志的成功率。为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是提供ー种彩色滤光片基板的制造方法，包括步骤在透明基板的像素无效区形成黒色矩阵图案以形成对位标志；在该像素无效区上涂覆透明导电层以覆盖该对位标志；对该透明导电层进行图案化处理，使得该透明导电层在该对位标志与该对位标志的周边区域上的覆盖特性相异。其中，对该透明导电层进行图案化处理，以露出该对位标志，并保留该对位标志的周边区域上覆盖的该透明导电层。其中，对该透明导电层进行图案化处理，以露出该对位标志的周边区域的像素无效区，并保留该对位标志上覆盖的该透明导电层。其中，对该透明导电层进行图案化处理，以露出紧邻该对位标志的周边区域上的像素无效区，并保留该对位标志和远离该对位标志的周边区域上覆盖的该透明导电层。
为解决上述技术问题，本发明采用的另ー个技术方案是提供ー种彩色滤光片基板，该彩色滤光片基板包括透明基板、黒色矩阵图案以及透明导电层。该透明基板包括像素无效区；该黑色矩阵图案设于该像素无效区以形成对位标志；该透明导电层设置于该像素无效区上，且在该像素无效区中该对位标志与该对位标志的周边区域上的该透明导电层的覆盖特性相异。其中，该对位标志的上未覆盖该透明导电层，该对位标志的周边区域上覆盖该透明导电层。其中，该对位标志的上部分覆盖有该透明导电层，该对位标志的周边区域上覆盖有该透明导电层。其中，该对位标志上覆盖该透明导电层，该对位标志的周边区域上未覆盖该透明导电层。其中，该对位标志上覆盖该透明导电层，该像素无效区除对位标志外的其他周边 区域上均未覆盖该透明导电层。其中，该对位标志和远离该对位标志的周边区域上覆盖该透明导电层，紧邻该对位标志的周边区域上未覆盖该透明导电层。本发明的有益效果是区别于现有技术的情况，本发明通过对透明导电层进行图案化处理，使得透明导电层在对位标志上与对位标志周边区域上的覆盖特性相异，从而增强对位标志与其周边区域在CCD光学读取镜头下的光学差异性，提高CCD光学读取镜头读取对位标志的成功率，进而有效地提高制程的位置计算精度和设备稼动率，提高生产效率和产能。
图I是现有彩色滤光片基板上对位标志的设置示意图；图2是图I中像素无效区的部分剖面示意图；图3是具有本发明彩色滤光片基板的液晶面板的结构示意图；图4是本发明彩色滤光片基板第一实施例的结构示意图；图5是本发明彩色滤光片基板第二实施例的像素无效区的结构示意图；图6是图5的俯视图；图7是本发明彩色滤光片基板第三实施例的结构示意图；图8是本发明彩色滤光片基板第四实施例的像素无效区的结构示意图；以及图9是本发明彩色滤光片基板制造方法一实施例的流程示意图。
具体实施例方式下面结合附图和实施例，对本发明作进ー步的详细描述。以下实施例仅用于说明本发明，但不应用来限制本发明的范围。请參阅图3，是具有本发明彩色滤光片基板的液晶面板的结构示意图，在本实施例中，液晶面板包括有源阵列基板31、彩色滤光片基板32和夹持在有源阵列基板31和彩色滤光片基板32之间的液晶层33。有源阵列基板31和彩色滤光片基板32相对设置，其包括透明基板以及设置于透明基板上的驱动配线以及配向层。鉴于本发明中采用的有源阵列基板31与现有液晶面板中的有源阵列基板相同，因此其具体结构可參考相关的现有技术，在此不进行赘述。彩色滤光片基板32也称CF (Color Filter)基板，通过彩色滤光片基板32的作用使得液晶显示面板可显示彩色画面。请參阅图4所示，图4是本发明彩色滤光片基板32的第一实施例结构示意图。在本实施例中，彩色滤光片基板32包括透明基板40和设置在透明基板40上的第一黒色矩阵图案41、第二黒色矩阵图案42、彩色光阻层43、透明导电层44以及配向层45。其中，透明基板40包括像素无效区401和像素有效区402，第二黒色矩阵图案42设于像素无效区401以形成对位标志，多个第一黒色矩阵图案41间隔设于像素有效区402，且相邻的两个第一黒色矩阵图案41之间设置有彩色光阻层43。透明导电层44设置于像素有效区402和像素无效区401上。配向层45设置于透明导电层44上，且优选为仅设置在像素有效区402上。 本实施例中，在对位标志42(即第二黒色矩阵图案42)上覆盖透明导电层44，对位标志42的周边区域上未覆盖透明导电层44。换而言之，在像素无效区401中，透明导电层44在对位标志42和其周边区域上的覆盖特性相异，存在透明导电层44的覆盖区域和非覆盖区域之别。具体而言，本实施例中，对位标志42为透明导电层44的覆盖区域，像素无效区401中除了对位标志42所在区域之外的其他周边区域均为透明导电层44的非覆盖区域，即除对位标志42外的其他周边区域均未覆盖透明导电层44。由于透明导电层44的覆盖区域和非覆盖区域在CXD光学读取镜头下具有光学对比差异，使得CCD光学读取镜头在读取对位标志42时，可以快速读取以进行定位，由此提高CCD光学读取镜头读取对位标志42的成功率。因此，本发明避免了现有技术中需要在被透明导电层完全覆盖的像素无效区中区别辨认细小的对位标志的过程，因而缩短了读取辨识的时间，提高了制程的位置计算精度和设备稼动率，提高生产效率，增加产能。图5是本发明彩色滤光片基板第二实施例的像素无效区的结构示意图，图6是图5的俯视不意图。请參阅图5及图6，在本实施例中的彩色滤光片基板与第一实施例的彩色滤光片基板的区别在于，像素无效区401中紧邻对位标志421的周边区域上未覆盖透明导电层441，透明导电层441覆盖在对位标志421和像素无效区401中远离对位标志421的周边区域上，使得对位标志421与其周边区域之间形成透明导电层441的覆盖区域和非覆盖区域的差异，从而可有效地提高读取对位标志421的成功率。请參阅图7，是本发明彩色滤光片基板32第三实施例的结构示意图。在本实施例中，彩色滤光片基板32包括透明基板50以及设置在透明基板50上的第一黒色矩阵图案51、第二黒色矩阵图案52、彩色光阻层53、透明导电层54以及配向层55。其中，透明基板50包括像素无效区501和像素有效区502，第二黒色矩阵图案52设于像素无效区501以形成对位标志，多个第一黒色矩阵图案51间隔设于像素有效区502，且相邻的两个第一黒色矩阵图案51之间设置有彩色光阻层53。透明导电层54设置于像素有效区502和像素无效区501上。配向层55设置于透明导电层54上，且优选为仅设置在像素有效区502上。本实施例中，在像素无效区501中，对位标志52(即第二黒色矩阵图案52)上未覆盖透明导电层54，对位标志52的周边区域上覆盖透明导电层54，由此使得透明导电层54在对位标志52和其周边区域上的覆盖特性相异，存在透明导电层54的覆盖区域和非覆盖区域之别。由于透明导电层54的覆盖区域和非覆盖区域在CXD光学读取镜头下具有光学对比差异，使得CCD光学读取镜头在读取对位标志52时，可以快速读取以进行定位，由此提高CCD光学读取镜头读取对位标志52的成功率。应理解，图7所示的实施例中，对位标志52上也可以部分覆盖有透明导电层54，只要使得透明导电层54在对位标志52和其周边区域上的覆盖特性相异即可。具体而言，请參阅图8，图8是本发明彩色滤光片基板32第四实施例的像素无效区501的结构示意图。与图7所示实施例不同之处在于，在本实施例中，对位标志521的上部分覆盖有透 明导电层541，对位标志521的周边区域上覆盖有透明导电层541。其中，对位标志521上覆盖有透明导电层541的区域优选为不超过对位标志521上表面整体面积的50%，以使得透明导电层541在对位标志521及其周边区域上的覆盖特性存在较明显的差异，使得CCD光学读取镜头易于辨识到对位标志521以快速进行读取，从而有效地提高读取的成功率。请參阅图9，是本发明彩色滤光片基板制造方法一实施例的流程示意图。在本实施例中，彩色滤光片基板制造方法包括步骤S700 :在透明基板的像素无效区形成黒色矩阵图案以形成对位标志。当然，在步骤S700中还可以包括在透明基板的像素有效区形成间隔设置的多个黒色矩阵图案、且在像素有效区上的每两个黒色矩阵图案之间设置彩色光阻层等流程，其具体结构还请參阅图3到图8针对第一黒色矩阵图案、第二黒色矩阵图案和彩色光阻层的相关描述，在本技术领域人员容易结合理解的范围内，不再赘述。步骤S701 :在像素无效区上涂覆透明导电层以覆盖对位标志。在步骤S701中，还可以包括在像素有效区上涂覆透明导电层，以覆盖像素有效区上的多个黑色矩阵图案和彩色光阻层。步骤S702 :对透明导电层进行图案化处理，使得透明导电层在对位标志与对位标志的周边区域上的覆盖特性相异。在其他实施例中，步骤S702也可以同时对像素有效区的透明导电层进行图案化处理，而对像素有效区或像素无效区进行图案化处理时可以采用涂光阻、曝光、显影、蚀刻、去光阻等制程，其曝光方式包括但不限于接触式、接近式和投影式等，在此不作限定。具体而言，步骤S702的ー种具体实现方式是对像素无效区上的透明导电层进行图案化处理，以露出对位标志的周边区域的像素无效区，并保留对位标志上覆盖的透明导电层，进ー步而言，进行图案化处理之后可以只露出紧邻对位标志的周边区域上的像素无效区，并保留对位标志和远离对位标志的周边区域上覆盖的透明导电层，以形成例如图4-图6所示的彩色滤光片基板。步骤S702的另ー种具体实现方式是对像素无效区上的透明导电层进行图案化处理，以露出对位标志，并保留对位标志的周边区域上覆盖的透明导电层，以形成例如图7-图8所示的彩色滤光片基板。
当然，在步骤S702之后，还包括制作配向层和间隙子层等步骤，在彩色滤光片基板上进ー步制作配向层和间隙子层的相关步骤可參考本技术领域的相关现有技术，在此不再赘述。综上所述，本发明彩色滤光片基板及其制造方法通过对透明导电层进行图案化处理，使得透明导电层在对位标志与对位标志周边区域的覆盖特性相异，增强对位标志与其周边区域在CCD光学读取镜头下的光学对比差异性，由此提高CCD光学读取镜头读取对位标志的成功率，以此有效地提高了制程的位置计算精度和设备稼动率，提高生产效率、増加产能。以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。权利要求
1.一种彩色滤光片基板的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括 在透明基板的像素无效区形成黑色矩阵图案以形成对位标志； 在所述像素无效区上涂覆透明导电层以覆盖所述对位标志； 对所述透明导电层进行图案化处理，使得所述透明导电层在所述对位标志与所述对位标志的周边区域上的覆盖特性相异。
2.根据权利要求I所述的方法，其特征在于 对所述透明导电层进行图案化处理，以露出所述对位标志，并保留所述对位标志的周边区域上覆盖的所述透明导电层。
3.根据权利要求I所述的方法，其特征在于 对所述透明导电层进行图案化处理，以露出所述对位标志的周边区域的像素无效区，并保留所述对位标志上覆盖的所述透明导电层。
4.根据权利要求I所述的方法，其特征在于 对所述透明导电层进行图案化处理，以露出紧邻所述对位标志的周边区域上的像素无效区，并保留所述对位标志和远离所述对位标志的周边区域上覆盖的所述透明导电层。
5.—种彩色滤光片基板,其特征在于,包括 透明基板，包括像素无效区； 黑色矩阵图案，设于所述像素无效区以形成对位标志； 透明导电层，设置于像素无效区上，且在所述像素无效区中所述对位标志与所述对位标志的周边区域上的所述透明导电层的覆盖特性相异。
6.根据权利要求5所述的彩色滤光片基板，其特征在于所述对位标志的上未覆盖所述透明导电层，所述对位标志的周边区域上覆盖所述透明导电层。
7.根据权利要求5所述的彩色滤光片基板，其特征在于 所述对位标志的上部分覆盖有所述透明导电层，所述对位标志的周边区域上覆盖有所述透明导电层。
8.根据权利要求5所述的彩色滤光片基板，其特征在于所述对位标志上覆盖所述透明导电层，所述对位标志的周边区域上未覆盖所述透明导电层。
9.根据权利要求8所述的彩色滤光片基板，其特征在于所述对位标志上覆盖所述透明导电层，所述像素无效区除对位标志外的其他周边区域上均未覆盖所述透明导电层。
10.根据权利要求8所述的彩色滤光片基板，其特征在于所述对位标志和远离所述对位标志的周边区域上覆盖所述透明导电层，紧邻所述对位标志的周边区域上未覆盖所述透明导电层。
全文摘要
本发明公开了一种彩色滤光片基板及其制造方法，该方法包括在透明基板的像素无效区形成黑色矩阵图案以形成对位标志；在该像素无效区上涂覆透明导电层以覆盖该对位标志；对该透明导电层进行图案化处理，使得该透明导电层在该对位标志与该对位标志的周边区域上的覆盖特性相异。本发明有效地增强对位标志与其周边区域在CCD光学读取镜头下的光学差异性，提高读取对位标志的成功率，从而提高生产效率。
文档编号G02B5/20GK102707486SQ20121017651
公开日2012年10月3日 申请日期2012年5月31日 优先权日2012年5月31日
发明者伍浚铭 申请人:深圳市华星光电技术有限公司