蒸发装置及应用该蒸发装置的真空蒸镀的制造方法
【专利摘要】本发明提供一种蒸发装置，包括一蒸发舟、导气装置及气源通道，该蒸发舟容置于该导气装置内且该蒸发舟与导气装置之间形成一气体容置空间；所述气源通道的一端与该导气装置连接，并与该气体容置空间连通，以向气体容置空间中通入气体；所述蒸发舟包括一第一底壁、由该第一底壁的周缘延伸形成的侧壁及由该第一底壁与该侧壁围成的容置槽，该侧壁上开设有若干通气孔，所述通气孔与该气体容置空间相连通。本发明还提供了应用该蒸发装置的电子装置。
【专利说明】蒸发装置及应用该蒸发装置的真空蒸镀机
【技术领域】[0001]本发明涉及一种蒸发装置及应用该蒸发装置的真空蒸镀机。
【背景技术】
[0002]如图1及图2所示，现有蒸发镀膜技术，通常采用一真空蒸镀机300，其包括一蒸镀室310及连接于蒸镀室310的一真空泵330，该真空泵330用以对该蒸镀室310抽真空。该蒸镀室310内设置有一蒸发装置311及一固定待镀膜工件400的支承架313。反应气体和/或工作气体经气源通道315进入所述蒸镀室310中。蒸发装置311用于承载蒸发料，并对蒸发料进行加热。所述待镀膜工件400包括一底面410、及由沿底面410的周缘延伸弯折形成的周壁430。在蒸发镀膜过程中，蒸发料350蒸发产生的蒸气分子沿箭头A的方向向待镀膜工件400运动，同时蒸气分子还与蒸镀室310内的反应气体反应，在待镀膜工件400的底面410及周壁430上沉积形成膜层。由于蒸发时蒸气分子的方向性很强，仅沿箭头A的方向运动，因此在周壁430上沉积的蒸发料分子的密度明显低于底面410，导致底面410与周壁430上沉积的膜层的厚度不均。
【发明内容】
[0003]鉴于此，本发明提供一种可提高所形成膜层厚度的均匀性的蒸发装置。
[0004]另外，本发明还提供一种应用该蒸发装置的真空蒸镀机。
[0005]一种蒸发装置，包括一蒸发舟、导气装置及气源通道，该蒸发舟容置于该导气装置内且该蒸发舟与导气装置之间形成一气体容置空间；所述气源通道的一端与该导气装置连接，并与该气体容置空间连通，以向气体容置空间中通入气体；所述蒸发舟包括一第一底壁、由该第一底壁的周缘延伸形成的侧壁及由该第一底壁与该侧壁围成的容置槽，该侧壁上开设有若干通气孔，所述通气孔与该气体容置空间相连通。
[0006]一种应用所述蒸发装置的真空蒸镀机，该真空蒸镀机包括一蒸镀腔及连接于蒸镀腔的一真空泵，该蒸镀腔内设置有所述蒸发装置、固定待镀膜工件的支承架，气体经气源通道进入所述蒸镀腔内。
[0007]本发明所述蒸发装置，气体由通气孔通入蒸发舟内，通过气体分子与蒸发料分子之间的碰撞，可改变蒸发料分子的蒸发方向，扩大蒸发料分子蒸发扩散的范围，同时反应气体分子可与蒸发料分子充分反应，最终实现提高形成的膜层的均匀性的目的。
【专利附图】
【附图说明】
[0008]图1为现有技术的真空蒸镀机的示意图。
[0009]图2为图1所示蒸发装置中蒸发料被蒸发时其蒸气分子的运动方向示意图。
[0010]图3为本发明一较佳实施例的蒸发装置的整体示意图。
[0011]图4为图3所示蒸发装置的分解示意图。
[0012]图5为图3所示蒸发装置的沿V-V线的剖面图。[0013]图6为图3所示蒸发装置的沿V1-VI线的剖面图。
[0014]图7为图3所示蒸发装置中蒸发料被蒸发时其蒸气分子的运动方向示意图。
[0015]图8为应用图3所示蒸发装置的真空蒸镀机的示意图。
[0016]主要元件符号说明
【权利要求】
1.一种蒸发装置，包括一蒸发舟，其特征在于:该蒸发装置还包括导气装置及气源通道，该蒸发舟容置于该导气装置内且该蒸发舟与导气装置之间形成一气体容置空间；所述气源通道的一端与该导气装置连接，并与该气体容置空间连通，以向气体容置空间中通入气体；所述蒸发舟包括一第一底壁、由该第一底壁的周缘延伸形成的侧壁及由该第一底壁与该侧壁围成的容置槽，该侧壁上开设有若干通气孔，所述通气孔与该气体容置空间相连通。
2.如权利要求1所述的蒸发装置，其特征在于:所述通气孔的内壁朝向容置槽方向的延长线与第一底壁之间的夹角大于O度且小于90度。
3.如权利要求1所述的蒸发装置，其特征在于:所述侧壁包括二相对设置的第一侧壁、二相对设置的第二侧壁，所述若干通气孔开设于所述第一侧壁和第二侧壁至少一方上。
4.如权利要求1、2或3所述的蒸发装置，其特征在于:所述通气孔为圆形孔、三角形孔或正方形孔。
5.如权利要求4所述的蒸发装置，其特征在于:当通气孔为圆孔时，通气孔的内径1.5-2.5mm。
6.如权利要求1所述的蒸发装置，其特征在于:该蒸发舟还包括二加热部，该二加热部分别由二相对设置的第一侧壁或第二侧壁延伸形成。
7.如权利要求1所述的蒸发装置，其特征在于:该导气装置包括一第二底壁、由第二底壁的周缘延伸弯折形成的二第三侧壁、二第四侧壁，以及由第二底壁、二第三侧壁与二第四侧壁围成的一凹槽。
8.如权利要求7所述的蒸发装置，其特征在于:所述凹槽与所述容置槽的开口方向及形状相同，所述凹槽的开口大于所述容置槽的开口。
9.如权利要求7或8所述的蒸发装置，其特征在于:当蒸发舟容置于该导气装置内时，所述第三侧壁与第一侧壁之间的夹角大于O度且小于90度。
10.如权利要求7所述的蒸发装置，其特征在于:该第三侧壁远离第二底壁的一端与该第一侧壁远离第一底壁的一端相抵持。
11.一种应用权利要求1-10中任一项所述蒸发装置的真空蒸镀机，该真空蒸镀机包括一蒸镀腔及连接于蒸镀腔的一真空泵，该蒸镀腔内设置有固定待镀膜工件的支承架，其特征在于:所述蒸发装置容置于该蒸镀腔内，气体经气源通道进入所述蒸镀腔内。
【文档编号】C23C14/24GK103668077SQ201210339847
【公开日】2014年3月26日 申请日期:2012年9月14日 优先权日:2012年9月14日
【发明者】曹达华, 李彬 申请人:深圳富泰宏精密工业有限公司