专利名称：具有加热罩的真空蒸镀装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种真空蒸镀装置，特别是涉及一种应用于晶圆制作过程中的具 有加热罩的真空蒸镀装置。
背景技术：
简单来说，真空蒸镀就是将蒸镀材气化后，使其在被镀物表面形成薄膜。更详细地 说，可在真空环境下加热蒸镀材，使蒸镀材受热而蒸发气化或升华，并使气态的蒸镀材附着 在被镀物表面，并在被镀物表面形成薄膜。而在真空环境下操作，就是为了避免气化的蒸镀 材在没有接触到被镀物之前即与气体分子碰撞。此外，真空环境下也可降低蒸镀材的蒸发 温度。图1A为现有技术中蒸镀材50吸附在被镀物51上的示意图。图1B为现有技术中 蒸镀材50进行扩散运动的示意图。图1C为现有技术中蒸镀材50紧密堆迭的示意图。图 2为现有技术中蒸镀材50松散堆迭的示意图。如图1A所示，蒸镀材50气化后的原子会吸 附在被镀物51表面，并在被镀物51表面进行化学反应。如图1B所示，于此同时，原子会在 被镀物51表面进行扩散运动。如图1C所示，原子间彼此碰撞并形成原子团，原子团再彼此 聚合扩大并连结，就会形成整个连续且原子间紧密堆迭的薄膜。然而基本上难以掌控蒸镀材50气化后的原子扩散行进的方向，因此使得大部分 的蒸镀材50都不能附着在被镀物51上，从而造成蒸镀率低且蒸镀速率慢等问题。又因为被 镀物51上平面各点与蒸发源距离各不相同，容易使蒸镀后的薄膜厚度分布不均勻。此外， 如图2所示，由于加热蒸发源后产生的蒸镀材50的原子，需扩散一段距离后才能抵达被镀 物51，若蒸镀材50的原子在没有接触到被镀物51之前能量即已损耗，而能量不足会造成原 子排列松散不整齐并导致原子间密实度不佳，上述这些原因都会造成蒸镀效果差且薄膜厚 度不均勻、易脱落、缺失等现象。由此可见，上述现有的真空蒸镀装置在结构与使用上，显然仍存在有不便与缺陷， 而亟待加以进一步改进。为了解决真空蒸镀装置存在的问题，相关厂商莫不费尽心思来谋 求解决之道，但长久以来一直未见适用的设计被发展完成，而一般产品又没有适切的结构 能够解决上述问题，此显然是相关业者急欲解决的问题。因此如何能创设一种蒸镀率高、蒸 镀速率高且蒸镀效果好的新型结构的具有加热罩的真空蒸镀装置，实属当前重要研发课题 之一，亦成为当前业界极需改进的目标。有鉴于上述现有的真空蒸镀装置存在的缺陷，本发明人基于从事此类产品设计制 造多年丰富的实务经验及专业知识，并配合学理的运用，积极加以研究创新，以期创设一种 新型结构的具有加热罩的真空蒸镀装置，能够改进一般现有的真空蒸镀装置，使其更具有 实用性。经过不断的研究、设计，并经反复试作样品及改进后，终于创设出确具实用价值的 本实用新型。发明内容本实用新型的目的在于，克服现有的真空蒸镀装置存在的缺陷，而提供一种新型 结构的具有加热罩的真空蒸镀装置，所要解决的技术问题是使其蒸镀率高、蒸镀速率高以 及蒸镀效果好，从而更加适于实用。本实用新型的目的及解决其技术问题是采用以下的技术方案来实现的。依据本 实用新型提出的具有加热罩的真空蒸镀装置，包括一本体，本体具有一真空腔室；一蒸发 源，蒸发源设置在真空腔室的底部；一镀锅，镀锅借由一旋转机构设置在真空腔室的顶部； 以及一加热罩，加热罩设置在真空腔室内并置于镀锅相对于蒸发源的另一侧。本实用新型的目的以及解决其技术问题还可以采用以下的技术措施来进一步实现。前述的具有加热罩的真空蒸镀装置，其中所述的加热罩为一罩体式加热模组。前述的具有加热罩的真空蒸镀装置，其中所述的加热罩为一加热板。前述的具有加热罩的真空蒸镀装置，其中所述的加热罩为一罩体并在其内表面装 设至少一个加热体。前述的具有加热罩的真空蒸镀装置，其中所述的加热体为一加热管或一加热板。前述的具有加热罩的真空蒸镀装置，其中所述的加热罩罩住且覆盖所述的镀锅。前述的具有加热罩的真空蒸镀装置，其中所述的具有加热罩的真空蒸镀装置还包 括至少一设置在所述真空腔室的底部的石英灯。前述的具有加热罩的真空蒸镀装置，其中所述的镀锅上设置有多个用以置放一晶 圆的承载槽。本实用新型与现有技术相比具有明显的优点和有益效果。借由上述技术方案其至 少具有下列优点a.借由加热罩的设置，可再次提供蒸镀材蒸镀时所需的能量，从而可以提高真空 蒸镀装置的蒸镀率和蒸镀速率。b.借由加热罩作为辅助热源，可使蒸镀材的原子晶格排列更为整齐，以及可提升 蒸镀材与被镀物之间的密实性，从而使真空蒸镀装置的蒸镀效果更好。综上所述，本实用新型是有关于一种具有加热罩的真空蒸镀装置，包括本体；蒸 发源；镀锅；以及加热罩，其中本体具有真空腔室，而真空腔室内由下而上设置有蒸发源、 石英灯、镀锅及加热罩。其中加热罩覆盖在镀锅上方，以确保蒸镀材在蒸镀过程中拥有足够 的能量，进而使蒸镀材的晶格排列更为整齐并可提升蒸镀材与晶圆的密实性，从而提高真 空蒸镀装置的蒸镀率、蒸镀速率以及蒸镀效果。本实用新型在技术上有显著的进步，并具有 明显的积极效果，诚为一新颖、进步、实用的新设计。上述说明仅是本实用新型技术方案的概述，为了能更清楚了解本实用新型的技术 手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为让本实用新型的上述和其他目的、特征和优 点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例，并配合附图，详细说明如下。
图1A为现有技术中蒸镀材吸附在被镀物上的示意图。图1B为现有技术中蒸镀材进行扩散运动的示意图。图1C为现有技术中蒸镀材紧密堆迭的示意图。
4[0025]图2为现有技术中蒸镀材松散堆迭的示意图。图3A为本实用新型具有加热罩的真空蒸镀装置一实施例的示意图。图3B为本实用新型具有加热罩的真空蒸镀装置另一实施例的示意图。100真空蒸镀装置10本体[0029]11 真空腔室20蒸发源[0030]21 ；石英灯30镀锅[0031]31 ；旋转机构32承载槽[0032]33 ；晶圆40加热罩[0033]41 ；加热管42加热板[0034]50 ；蒸镀材51被镀物
具体实施方式
为更进一步阐述本实用新型为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效，以下 结合附图及较佳实施例，对依据本实用新型提出的具有加热罩的真空蒸镀装置其具体实施 方式、结构、特征及其功效，详细说明如后。图3A为本实用新型具有加热罩的真空蒸镀装置一实施例的示意图。图3B为本实 用新型具有加热罩的真空蒸镀装置的另一实施例示意图。如图3A和图3B所示，本实施例为一种具有加热罩的真空蒸镀装置100，其包括 一本体10 ；—蒸发源20 ；—镀锅30 ；以及一加热罩40。本体10具有一真空腔室11，用以作 为提供操作蒸镀的空间。而真空蒸镀需要在真空环境内操作，且在蒸镀开始前进行抽真空 动作，使真空腔室11的内压达到一定真空度。本体10内由下而上设置有蒸发源20、石英灯 21、镀锅30及加热罩40。蒸发源20即为蒸镀材的块材，透过加热的方式使蒸发源20蒸发气化或升华，其中 蒸发源20设置在本体10内，且位于真空腔室11的底部。此外，真空蒸镀装置100还具有 至少一石英灯21，其设置在真空腔室11的底部，且用以提供蒸发源20所需的热能。石英 灯21即为用以加热蒸发源20的加热器，并且石英灯21摆放在蒸发源20的四周以均勻加 热蒸发源20。镀锅30是借由一旋转机构31设置在真空腔室11的顶部，且位于蒸发源20的上 方。镀锅30上设置有多个承载槽32，且每一承载槽32用以置放一晶圆33，其中晶圆33未 限制是蚀刻后或蚀刻前的晶圆，图3A和图3B中仅以蚀刻后的晶圆33作为示意。此外，在进 行真空蒸镀的同时，可利用旋转机构31旋转镀锅30，使得蒸镀材能均勻分布在晶圆33上。加热罩40设置在真空腔室11内并置于镀锅30相对于蒸发源20的另一侧，较佳 地是加热罩40能够罩住且覆盖镀锅30，以使得在镀锅30上方的蒸镀材可获得更加均勻的 能量。如图3A所示，加热罩40可为一罩体式加热模组，另外，加热罩40也可以是罩体并在 其内表面装设有至少一个加热体，其中加热体可以是一加热管41或一加热板42，如图3B所 示，加热罩40也可为加热板42，其直接由一般加热板42构成。加热罩40的主要用途是用来提供能量给蒸镀材，从而使蒸镀材的原子具有足够 的能量并足以在晶圆33上自由扩散而形成厚度均勻的薄膜，而且充足的能量还可使蒸镀 材的原子与晶圆33间具有更良好的键合，并提升蒸镀材的原子与晶圆33间的密实性，从而不仅提高了蒸镀材的蒸镀率，而且也提高了真空蒸镀装置的蒸镀速率和蒸镀效果。 以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非对本实用新型作任何形式上 的限制，虽然本实用新型已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本实用新型，任何熟 悉本专业的技术人员，在不脱离本实用新型技术方案范围内，当可利用上述揭示的技术内 容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本实用新型技术方案的内 容，依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍 属于本实用新型技术方案的范围内。
权利要求一种具有加热罩的真空蒸镀装置，其特征在于所述的具有加热罩的真空蒸镀装置包括一本体，所述的本体具有一真空腔室；一蒸发源，所述的蒸发源设置在所述的真空腔室的底部；一镀锅，所述的镀锅借由一旋转机构设置在所述的真空腔室的顶部；以及一加热罩，所述的加热罩设置在所述的真空腔室内并置于所述镀锅相对于所述蒸发源的另一侧。
2.根据权利要求1所述的具有加热罩的真空蒸镀装置，其特征在于所述的具有加热 罩的真空蒸镀装置还包括至少一设置在所述真空腔室的底部的石英灯。
3.根据权利要求1所述的具有加热罩的真空蒸镀装置，其特征在于所述的镀锅上设 置有多个用以放置一晶圆的承载槽。
4.根据权利要求1所述的具有加热罩的真空蒸镀装置，其特征在于所述的加热罩为 一罩体式加热模组。
5.根据权利要求1所述的具有加热罩的真空蒸镀装置，其特征在于所述的加热罩为 一加热板。
6.根据权利要求1所述的具有加热罩的真空蒸镀装置，其特征在于所述的加热罩为 一罩体并在其内表面装设至少一个加热体。
7.根据权利要求6所述的具有加热罩的真空蒸镀装置，其特征在于所述的加热体为 一加热管或一加热板。
8.根据权利要求4至7项中任意一项所述的具有加热罩的真空蒸镀装置，其特征在于 所述的加热罩罩住且覆盖所述的镀锅。
9.根据权利要求8所述的具有加热罩的真空蒸镀装置，其特征在于所述的具有加热 罩的真空蒸镀装置还包括至少一设置在所述真空腔室的底部的石英灯。
10.根据权利要求9所述的具有加热罩的真空蒸镀装置，其特征在于所述的镀锅上设 置有多个用以置放一晶圆的承载槽。
专利摘要本实用新型是有关于一种具有加热罩的真空蒸镀装置，包括本体；蒸发源；镀锅；以及加热罩，其中本体具有真空腔室，而真空腔室内由下而上设置有蒸发源、石英灯、镀锅及加热罩。其中加热罩覆盖在镀锅上方，以确保蒸镀材在蒸镀过程中拥有足够的能量，进而使蒸镀材的晶格排列更为整齐并可提升蒸镀材与晶圆的密实性，从而提高真空蒸镀装置的蒸镀率、蒸镀速率以及蒸镀效果。
文档编号C23C14/24GK201751428SQ20102018513
公开日2011年2月23日 申请日期2010年4月29日 优先权日2010年4月29日
发明者徐琼芳, 白英宏, 陈宜杰 申请人:聚昌科技股份有限公司