专利名称：镀膜设备的气体分配装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种分配装置，特别是涉及一种运用在镀膜设备上，并可将气体均匀的送到镀膜设备的反应腔室内的气体分配装置。
背景技术：
在以往的薄膜制程中，各种的原料及气体会被送入反应室内，有些气体只是做为轰击靶材的介质，有些气体会和原料反应，并且沉积在基板上，其中会和原料反应的反应性气体，其送入反应腔室的均匀度会影响镀膜的均匀度及厚度，因此，这类型的镀膜设备会设置气体分配装置，目的是让气体均匀送入该反应腔室内，并且防止气体在送入该反应腔室时产生波动、湍流或者对流漩涡，相关的技术文献如CN101068950A、CN101624722A、CN101949007A。但由于目前进行镀膜加工的基板有大尺寸的趋势，相配合的气体分配装置也需要作配合的改变，才能使气体分配装置应用在大尺寸的镀膜设备上，可以让大面积的基板在镀膜时产生较佳的均匀性及厚度控制性，本发明主要针对前述需求作改良。
发明内容
本发明的目的是在提供一种结构创新，并可提高气体送出时均匀度的镀膜设备的气体分配装置。本发明镀膜设备的气体分配装置包含至少一个分配座，以及一个将气体引入该分配座的进气单元，该分配座包括至少一个第一分配通道、一个第二分配通道、数条连通该第一分配通道及该第二分配通道的连通管，以及数个和该第二分配通道连通的喷气道，所述进气单元包括一个具有一个连接通道的连通座、至少一条连接该连接通道及第一分配通道的导通管，以及一条将气体引入该连接通道的进气管。本发明气体分配装置的进气管具有一个和该连通座连接的直立部、一个水平部，以及一个连接所述直立部及水平部的垂直转弯部。本发明气体分配装置的第一分配通道是两个，上述第一分配通道及第二分配通道都是沿着一个第一方向设置，而该进气管的水平部具有两个沿着该第一方向设置的第一延伸段、一个沿着一个第二方向设置的第二延伸段，以及两个连接相邻的第一延伸段及第二延伸段的水平转弯段，该第二方向垂直于第一方向。本发明气体分配装置的分配座是两个，每个分配座都具有两个第一分配通道，上述第一分配通道及第二分配通道都是沿着第一方向设置，而该连通座是沿着第二方向延伸并跨越所述分配座，该进气单元的导通管是四条，所述导通管分别连接于该连通座及所述第一分配通道的其中之一。本发明气体分配装置的导通管都具有一个设在该连通座上的第一端，以及一个设在其中一个第一分配通道的中间位置的第二端。本发明的有益的效果在于当气体逐步通过该连接通道、第一分配通道及第二分配通道时，不但可以均匀的分配，还可以避免气体在送出喷气道时产生波动、扰流，故本发明该气体分配装置不但结构创新，还可以提高供气时的均匀度。
图I是本发明气体分配装置的一个较佳实施例的立体示意图；图2是该较佳实施例的一个使用状态参考图；图3是该较佳实施例的一个剖视示意图；图4是该较佳实施例的一个局部前视剖面图。
具体实施例方式下面结合附图及实施例对本发明进行详细说明·
参阅图1、2，本发明气体分配装置10的一个较佳实施例是安装在镀膜设备的一个反应腔座上，并且和基板对应，所述反应腔座包括一个反应腔室，该气体分配装置10和基板的对应方式不受限制，其包含两个间隔并排的分配座2，以及一个连接所述分配座2的进气单元3。参阅图1、3、4，本实施例的每个分配座2都包括两个沿着一第一方向21设置并且左右并排的第一分配通道22、一个位在所述第一分配通道22下方并且沿着该第一方向21设置的第二分配通道23、数条直向连接第一分配通道22及第二分配通道23的连通管24，以及数个等距离设置并和该第二分配通道23相通的喷气道25。所述喷气道25都具有一个位于下方的喷气口 251。本实施例的进气单元3可以将气体同时引入所述并排的分配座2，并包括一个沿着一第二方向30设置并跨越所述分配座2的连通座31、四条分别连接该连通座31及所述第一分配通道22的导通管32，以及一条将气体送入该连通座31的进气管33。该第二方向30垂直于第一方向21，该连通座31具有一个界定出一个封闭的连接通道311的连通管壁312，所述导通管32都具有一个架设在该连通管壁312上的第一端321，以及一个架设在所述分配座2的其中之一上并连接于其中一个第一分配通道22中央位置的第二端322，利用前述结构来连通该连接通道311及所述第一分配通道22。本实施例的进气管33是一条具有数个转弯部位的管体，其包括一个和该连通座31接连的直立部331、一段垂直于该直立部331的水平部332，以及一个连接所述直立部331及水平部332的垂直转弯部333。该水平部332具有两段沿着第一方向21设置的第一延伸段334、一个沿着第二方向30延伸的第二延伸段335，以及两个连接相邻的第一延伸段334及第二延伸段335的水平转弯段336。本实施例的气体分配装置10在使用时，气体是由该进气管33的水平部332送入，由于该进气管33的水平部332具有两个水平转弯段336，且该水平部332及直立部331间设有垂直转弯部333，因此，送入的气体会因为这些垂直转弯部333及水平转弯段336的设计而更和缓，也就是说，本实施例的进气管33具有减缓气体冲力的效果。当气体流入该连通座31的连接通道311后，再由导通管32流入各个第一分配通道22，气体可以在所述第一分配通道22内扩散，也就是沿着第一方向21扩散，扩散后再由连通管24流到第二分配通道23，最后再均匀的由喷气道25的喷气口 251送到反应腔室内。
也就是说，本发明的气体分配装置10先利用具有水平转弯段336及垂直转弯部333的进气管33来减缓气体的冲力，然后利用连接通道311、第一分配通道22及第二分配通道23的层层混合后，再将气体送到反应腔室内，这种气体分配装置10不但结构创新，还可以避免由进气管33送入的气体在由喷气道25喷出时产生波动、扰流，故本发明该气体分配装置10确实可以提高供气的均匀度，也可以因此提高镀膜设备在镀膜时的均匀度及厚度控制性。·
权利要求
1.一种镀膜设备的气体分配装置，包含至少一个分配座，以及一个将气体引入该分配座的进气单元，该分配座包括数个喷气道，而该进气单元包括一条引入气体的进气管；其特征在于 该分配座还包括至少一个第一分配通道、一个和所述喷气道连通的第二分配通道，以及数条连通该第 一分配通道及第二分配通道的连通管，而该进气单元还包括一个具有一个和该进气管连通的连接通道的连通座，以及至少一条连接该连接通道及第一分配通道的导通管。
2.根据权利要求I所述的镀膜设备的气体分配装置，其特征在于该进气管具有一个和该连通座连接的直立部、一个水平部，以及一个连接所述直立部及水平部的垂直转弯部。
3.根据权利要求2所述的镀膜设备的气体分配装置，其特征在于该分配座的第一分配通道是两个，上述第一分配通道及第二分配通道都是沿着一个第一方向设置，而该进气管的水平部具有两个沿着第一方向设置的第一延伸段、一个沿着一个第二方向设置的第二延伸段，以及两个连接相邻的第一延伸段及第二延伸段的水平转弯段，该第二方向垂直于第一方向。
4.根据权利要求I所述的镀膜设备的气体分配装置，其特征在于所述分配座是两个，每个分配座都包括两个第一分配通道，上述第一分配通道及第二分配通道都是沿着一个第一方向设置，而该连通座是沿着一个第二方向延伸并跨越所述分配座，而该进气单元的导通管是四条，所述导通管分别连接于该连通座及所述第一分配通道的其中之一。
5.根据权利要求4所述的镀膜设备的气体分配装置，其特征在于所述导通管具有一个设在该连通座上的第一端，以及一个设在其中一个第一分配通道的中间位置的第二端。
全文摘要
一种镀膜设备的气体分配装置，包含至少一个分配座，以及一个将气体引入该分配座的进气单元，该分配座包括至少一个第一分配通道、一个第二分配通道、数个连接该第一分配通道及第二分配通道的连通管，以及数个连通该第二分配通道的喷气道，所述进气单元包括一个具有一连接通道的连通座、至少一条连接该连接通道及第一分配通道的导通管，以及一条将气体引入该连接通道的进气管。当气体逐步通过连接通道、第一及第二分配通道时，不但可以均匀的分配，还可以避免气体在送出喷气道时产生波动、扰流。
文档编号C23C16/455GK102912321SQ20111021779
公开日2013年2月6日 申请日期2011年8月1日 优先权日2011年8月1日
发明者黄俊凯 申请人:亚树科技股份有限公司