1.一种新型真空镀膜装置，包括机箱（8），其特征在于:所述机箱（8）的一侧安装有真空室（19），所述真空室（19）的内部底端安装有加热炉（11），所述真空室（19）的内部下方通过固定架（9）安装有坩埚（10），所述真空室（19）的上方安装有密封盖（15），所述密封盖（15）的顶部安装有第二把手（14），所述密封盖（15）的下方安装有镶嵌板（16），所述镶嵌板（16）的下方安装有基片固定板（17），所述基片固定板（17）上安装有夹板（21），所述夹板（21）的一侧安装有弹簧（20），所述机箱（8）的上方安装有控制面板（7），所述控制面板（7）的上方安装有真空罩（12），所述真空罩（12）的一侧安装有氩气充入口（4），所述真空罩（12）的顶端一侧安装有第一把手（13），所述真空罩（12）的内部下方安装有阳极板（6），所述阳极板（6）的顶部安装有第一基片（5），所述真空罩（12）的内部上方通过支架（1）安装有阴极板（2），所述阴极板（2）的下方安装有溅射靶材（3）。
2.根据权利要求1所述的一种新型真空镀膜装置，其特征在于：所述加热炉（11）位于坩埚（10）的正下方，且坩埚（10）位于第二基片（18）的正下方。
3.根据权利要求1所述的一种新型真空镀膜装置，其特征在于：所述镶嵌板（16）的两侧均设置有滑槽，且镶嵌板（16）通过滑槽与真空室（19）的内侧壁滑动连接。
4.根据权利要求1所述的一种新型真空镀膜装置，其特征在于：所述溅射靶材（3）与第一基片（5）正对安装，且第一基片（5）通过夹具固定在阴极板（2）上。
5.根据权利要求1所述的一种新型真空镀膜装置，其特征在于：所述夹板（21）共设置有六个，且六个夹板（21）之间通过弹簧（21）连接。