技术总结
本发明公开了一种新型真空镀膜装置，包括机箱，所述机箱的一侧安装有真空室，所述真空室的内部底端安装有加热炉，所述真空室的内部下方通过固定架安装有坩埚，所述真空室的上方安装有密封盖，所述阳极板的顶部安装有第一基片，所述真空罩的内部上方通过支架安装有阴极板，所述阴极板的下方安装有溅射靶材。本发明安装有真空罩和真空室，在真空罩内安装有阴极板和阳极板，通过溅射镀膜原理进行镀膜，且在真空室的内部安装有坩埚，在坩埚的下方安装有加热炉，通过其可以通过蒸发镀膜原理进行镀膜，两种不同的镀膜方式同时使用，大大增大了装置的通用性，提高了适用范围。
技术研发人员：陈宝泗
受保护的技术使用者：陈宝泗
技术研发日：2018.05.21
技术公布日：2018.09.14