对基板后续的蒸镀过程造成影响)，控制每个夹具以相同的拉力拉伸柔性基板。具体地，针对矩形柔性基板，可通过图5所示的方式进行拉伸:在矩形柔性基板的四个侧边的中点位置，均设置一个用以固定柔性基板的夹具33，该夹具33的另一侧连接有控制拉伸装置(未示出)，以在开启该控制拉伸装置时，利用夹具对该柔性基板的四个侧面进行均匀拉伸，以保证柔性基板在四个侧面方向上均匀拉伸以增大柔性基板的尺寸。其中，每个侧面安装的夹具数量可根据实际柔性基板的尺寸大小进行设置；例如，若侧边的尺寸较大，则可以设置的夹具个数相对多一些，若侧边的尺寸较小，可以设置相对数量较少的夹具)。而且，在拉伸的过程中，每个夹具所施展出的拉力的状态是一致的(可以通过控制拉伸装置中的拉力检测器对每个夹具进行控制)，且需要以O牛顿力开始逐步增加，直至柔性基板的尺寸拉伸至所需的蒸镀尺寸为止。需要说明的是，经过拉伸后得到的蒸镀尺寸必大于柔性基板的原始尺寸，如图3(b)所示，该柔性基板31拉伸后的蒸镀尺寸为n2Xm2，其中，n2>nl，m2>ml。
[0034]其实，在本发明实施例所涉及的蒸镀方案中，会根据实际的需求定义一预设蒸镀尺寸，拉伸后的柔性基板的蒸镀尺寸为预设蒸镀尺寸，其中，预设蒸镀尺寸小于柔性基板的最大拉伸尺寸。此外，一种较为特殊的情况，拉伸后的柔性基板的蒸镀尺寸为柔性基板的最大拉伸尺寸。
[0035]步骤23:在拉伸后的柔性基板的蒸镀面设置一与蒸镀尺寸匹配的掩膜板，其中，掩膜板的掩膜精度不小于柔性基板在原始尺寸时对应的掩膜板的最大掩膜精度。
[0036]具体地，如图3 (C)所示，由于该柔性基板31在无拉伸的状态太很容易恢复到原始尺寸，因此，在蒸镀完成之前，都需要保持夹具的拉伸状态，持续为该柔性基板31提供拉伸力。无论拉伸后的柔性基板31的蒸镀尺寸是预设蒸镀尺寸还是该柔性基板31的最大拉伸尺寸，都需要为拉伸后的柔性基板31匹配与当前蒸镀尺寸相同的掩膜板32，该掩膜板32的尺寸大于该柔性基板31的原始尺寸对应的掩膜板B的尺寸，为了能够获取分辨率较高的柔性基板，该掩膜板32的掩膜精度不小于掩膜板B的最大掩膜精度，同时，掩膜板32的掩膜精度不大于自身尺寸对应的最大掩膜精度。仍以上述掩膜板B的最大掩膜精度4X4的像素单元为例，若希望获取5X5的像素单元阵列，则将掩膜板32的掩膜精度设置为5X5的像素单元阵列，然后设置在拉伸后的柔性基板31的蒸镀面即可。
[0037]步骤24:利用掩膜板在拉伸后的柔性基板上蒸镀形成图案化的膜层。
[0038]如图3(d)所示，左图为蒸镀形成有图案化的膜层的柔性基板示意图，由于该柔性基板的伸缩特性，在经过一段时间后，不用借助其他外力，即可使该柔性基板恢复到原原始尺寸，如右图所示为恢复原始尺寸后的蒸镀有图案化的膜层的柔性基板。
[0039]需要说明的是，蒸镀材料在柔性基板恢复原始尺寸时，虽然受到应力影响但是，由于现有的OLED技术中，每个像素单元都是微米级别，因此，不会造成蒸镀材料不的脱离或者破裂的现象。
[0040]利用上述的蒸镀方案，在不改变掩膜板的最大掩膜精度的情况下，仅依靠柔性基板的伸缩特性，即可实现提高基板分辨率的效果；同时保证蒸镀精度，解决混色的技术问题；还可以避免粘条的现象。
[0041]优选地，在步骤24执行完，并在蒸镀有图案化的膜层的柔性基板恢复原始尺寸后，为了能够保证下一次蒸镀工艺的良率，可根据检测到的蒸镀形成的图案化的膜层的尺寸参数，对蒸镀源的蒸镀速率以及蒸镀次数进行调试。具体地，对恢复原始尺寸后的柔性基板上的蒸镀材料的宽度、厚度以及实际发光效率、寿命等参数进行检测，并反馈给蒸镀源，以确定蒸镀工艺参数，调节蒸镀工艺过程中蒸镀源的蒸镀速率以及蒸镀次数。
[0042]此外，在本发明实施例中，所涉及的掩膜板优选为金属掩膜板。
[0043]尽管已描述了本发明的优选实施例，但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例作出另外的变更和修改。所以，所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本发明范围的所有变更和修改。
[0044]显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
【主权项】
1.一种蒸镀方法，其特征在于，所述方法包括: 提供一柔性基板； 对所述柔性基板进行拉伸，以使得拉伸后的蒸镀尺寸大于所述柔性基板的原始尺寸；在所述拉伸后的柔性基板的蒸镀面设置一与蒸镀尺寸匹配的掩膜板，其中，所述掩膜板的掩膜精度不小于所述柔性基板在原始尺寸时对应的掩膜板的最大掩膜精度； 利用所述掩膜板，在所述拉伸后的柔性基板上蒸镀形成图案化的膜层。2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，对所述柔性基板进行拉伸，具体包括: 在所述柔性基板的边缘区域均匀设置多个夹具，控制每个夹具以相同的拉力拉伸所述柔性基板。3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述拉伸后的柔性基板的蒸镀尺寸为预设蒸镀尺寸，其中，所述预设蒸镀尺寸小于所述柔性基板的最大拉伸尺寸。4.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述拉伸后的柔性基板的蒸镀尺寸为所述柔性基板的最大拉伸尺寸。5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括: 在所述蒸镀有图案化的膜层的柔性基板恢复原始尺寸后，根据检测到的蒸镀形成的图案化的膜层的尺寸参数，对蒸镀源的蒸镀速率以及蒸镀次数进行调试。6.如权利要求1-5任一所述的方法，其特征在于，所述掩膜板为金属掩膜板。
【专利摘要】本发明公开了一种蒸镀方法，主要内容包括：通过对柔性基板进行拉伸以增大柔性基板的蒸镀尺寸，并为拉伸后的柔性基板匹配相同尺寸的掩膜板进行蒸镀，在柔性基板恢复原始尺寸后，得到较高分辨率的基板，且该柔性基板的分辨率高于该柔性基板的原始尺寸对应的掩膜板的最大掩膜精度得到的分辨率。由于匹配的掩膜板的面积尺寸变大，因此，对应的最大掩膜精度相应变大，蒸镀形成的像素单元的个数增多；同时，由于掩膜板的面积尺寸变大，掩膜缝隙会相应变大，从而，避免了粘条现象；而且，保证了蒸镀精度需求，避免蒸镀均一性较差而导致的混色现象。
【IPC分类】C23C14/24, C23C14/04
【公开号】CN105088142
【申请号】CN201510461399
【发明人】阮士薪, 崔富毅, 白雪飞, 李发顺
【申请人】京东方科技集团股份有限公司, 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
【公开日】2015年11月25日
【申请日】2015年7月30日