专利名称：液晶显示装置的基板、液晶显示装置及其制造方法
技术领域：
本发明涉及液晶显示领域，更具体的说，涉及一种液晶显示装置的基板、液晶显示装置及其制造方法。
背景技术：
液晶显示面板是液晶显示装置的主要组件，其包括上层阵列基板、彩膜基板以及设置在阵列基板和彩膜基板之间的液晶，其中，液晶通过涂覆在基板上的配向层进行配向， 使液晶按特定的方向排列。如图1所示是现有液晶面板的玻璃基板的配向层涂布工艺，由于配向液(PI)会通过表面张力来扩散，而玻璃基板边缘的表面状态并非均一平坦，故配向液扩散会受阵列基板电路间段差和彩膜基板黑矩阵(BM)表面段差的影响，导致配向液在基板边缘扩散不均勻，甚至超出涂布精度的规格范围，故如图1中所示的，理想状态的情况下配向液的扩散应该是均勻的，而实际情况却是不均勻的扩散，形成复杂的曲线边界。如图2所示是一种通过如图1所示涂布工艺制成的现有的液晶面板的边缘处局部截面图，其包括彩膜基板与阵列基板；彩膜基板包括上层玻璃10，该上层玻璃10上设置有上电极30 (Top electrode)，阵列基板包括下层玻璃20，该下层玻璃20上设置有下电极 40 (bottom electrode)，在上层玻璃10与下层玻璃20上还涂覆有配向层50 (Alignment laye)；图1中，A到Α’连线表示可视区(active area)的可视区边界101 ；而B到B’连线表示配向层50的配向层边界51 ；由于受到配向层50涂布工艺中不均勻扩散的影响，使得配向层50涂布边缘处会产生不均勻的情形等因素的限制(如图1所示)，因此，可视区边界 101与配向边缘51之间必须要预留一段间隔X，否则面板容易在可视区内的边缘处发生液晶配向不良或是显示不均勻(mura)等不良现象。另外，由于配向液在涂布边界扩散形成不均勻的情形，需要预留与可视区边界101 间隔一端距离X、以及需要与框胶60的设置区域保持一定距离，以使得配向液不会扩散到框胶60的设置区，造成框胶60贴合不良以及金球70无法将阵列基板上的信号及时传递到彩膜基板上，由于这些因素存在，配向液的涂布边界受到较大的影响，进而影响到液晶显示装置的显示范围。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种配向液涂布效果较好、边框较窄的液晶显示装置的基板、液晶显示装置及其制造方法。本发明的目的是通过以下技术方案来实现的一种液晶显示装置的基板，所述基板上在需要涂布配向液的区域的边界设置有用于阻挡配向液扩散的凸台或凹槽。优选的，所述基板为阵列基板，所述阵列基板包括形成在其表面的像素电极层，所述凸台形成于所述像素电极层上。若阵列基板的像素电极层在配向层之下，则可在像素电极层上形成凸台，可以有助于阻挡配向液的扩散。
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优选的，所述基板为阵列基板，所述阵列基板包括形成在其表面的钝化膜，所述凸台形成于所述钝化膜上。适应工艺需求。优选的，所述凸台的高度大于所述配向液的厚度。这样可以更好的避免配向液越过凸台向外扩散。优选的，所述基板为阵列基板，所述阵列基板包括形成在其表面的像素电极层，所述凹槽形成于所述像素电极层上表面。根据不同结构及不同工艺需求，将凹槽设置在相应的膜层上，以达到最佳的生产效率和最少的生产成本。优选的，所述基板为阵列基板，所述阵列基板包括形成在其表面的钝化膜，所述凹槽形成于所述钝化膜上。对具有钝化膜的阵列基板，根据其结构及工艺需求，将凹槽设置在钝化膜层上，以达到最佳的生产效率和最少的生产成本。优选的，所述基板为彩膜基板，所述彩膜基板包括形成在其表面的黑矩阵，所述凹槽形成于所述黑矩阵的上表面。对沉积有黑矩阵的彩膜基板，根据其结构及工艺需求，将凹槽设置在黑矩阵上，可达到较佳的生产效率和较少的生产成本。优选的，所述基板为彩膜基板，所述凸台由排布在所述配向液涂布边界的间隙粒子形成。利用间隙粒子形成凸台的方式，可以节省一道沉积工艺或是一道刻蚀工艺。优选的，所述凸台为设置在所述彩膜基板或阵列基板上需要涂覆配向液的边界的胶体。采用涂布胶体的方式简便快捷。一种液晶显示装置，包括上述述的用于液晶显示装置的基板。一种液晶显示装置的制造方法，包括步骤A 在基板上需要涂布配向液的区域的边界形成凸台或凹槽，B 进行配向液的涂布。优选的，所述步骤A中，所述基板为液晶显示装置的阵列基板，所述凸台形成在所述阵列基板的像素电极层上。根据阵列基板配向液的涂布的底层，在电极表面上沉积一道凸台，以阻挡配向液的扩散。优选的，所述步骤A中，所述基板为阵列基板，所述阵列基板包括形成在其表面的钝化膜，所述凸台形成于所述钝化膜上。对具有钝化膜的阵列基板，根据其结构及工艺需求，钝化膜层上沉积一道凸台，以达到较佳的生产效率、较少的生产成本以及较优面板结构。优选的，所述步骤A中，所述基板为彩膜基板，所述凸台由排布在所述配向液涂布边界的间隙粒子形成。可以减少一道工序。优选的，所述步骤A中，所述基板为阵列基板，所述阵列基板包括形成在其表面的像素电极层，所述凹槽形成于所述像素电极层上表面。根据阵列基板配向液的涂布的底层， 在电极表面上刻蚀处一道凹槽，以阻挡配向液的扩散。优选的，所述步骤A中，所述基板为液晶显示装置的彩膜基板，所述凹槽是在所述彩膜基板的黑矩阵层表面形成。对于彩膜基板，可以将凹槽形成在黑矩阵的表面。优选的，所述凹槽通过曝光机光刻形成。凹槽可以通过曝光机光刻形成。优选的，所述步骤A中，所述凸台为涂布在所述基板上需要涂覆配向液的边界的胶体。通过涂布胶体的方式简单快捷，成本低。本发明由于在液晶显示装置的基板上设置有用于阻挡配向液扩散的凸台或凹槽， 凸台可以阻止配向液扩散，而凹槽可以吸收扩散的配向液进而阻止配向液扩散，这样，避免配向液在具有表面段差的基板上扩散形成不均勻的边界，转而形成了较为均勻的边界，使得配向层边缘处的配向效果也可以达到要求，从而使得液晶显示装置的可视区的边界向配向层的边界进一步偏移，提高了可视区的范围；另外，由于有凸台或凹槽的阻止，使得配向液不会流向框胶的设置区造成框胶贴合不可靠或是造成金球导电性的不可靠，因而，凸台或凹槽可以向框胶区偏移，即配向层的边界可以向框胶区偏移，这样就更进一步的扩大了可视区的范围。
图1是现有液晶面板的配向液涂布工艺中的实际情况与理想情况图，图2是现有液晶面板的结构剖面图，图3是本发明实施例的液晶面板的结构剖面图，图4是本发明实施例中凸台阻挡配向液的示意图，图5是本发明实施例中凹槽阻挡吸收配向液的示意图。其中10、上层玻璃，20、下层玻璃，30、上电极，40、下电极，50、配向层，51、配向层边界，54、凹槽，55、凸台，60、框胶，70、金球，80、彩膜，90、黑矩阵，101、可视区边界。
具体实施例方式下面结合附图和较佳的实施例对本发明作进一步说明。本发明提供一种液晶显示装置及其制造方法，该液晶显示装置包括基板，所述基板上在需要涂布配向液的区域的边界设置有用于阻挡配向液扩散的凸台或凹槽；所述基板包括液晶显示装置的阵列基板以及彩膜基板。如图3所示为本发明的实施例，图中所示为液晶显示装置的液晶面板的结构剖面图，其包括对置的阵列基板与彩膜基板；彩膜基板包括上层玻璃10，上层玻璃10上设置有彩膜80、黑矩阵90以及设置在彩膜80和黑矩阵90之上表面的上电极30 (即共用电极)； 阵列基板包括下层玻璃20，下层玻璃20上设置有下电极40 (即像素电极)，在上电极30以及下电极40的上表面上还涂覆有配向层50 (Alignment laye)。在阵列基板上，如图3及4 所示，配向层边界51处(图中BB’所示之处)，在下电极40的上表面上设置有凸台55，用于阻挡阵列基板在配向液涂布时配向液向外扩散，从而在阵列基板上形成较好较均勻的配向层边界；在彩膜基板上，如图3及图5所示，配向层边界51处，黑矩阵90的上表面上设置有凹槽54，由于凹槽M的设置，在彩膜基板上涂布配向液时，凹槽M可以吸收扩散的配向液，使配向液不会进一步向外流，从而在彩膜基板上形成较好较均勻的配向层边界。由于配向层边界的均勻性得到提高，在该边界处，配向的效果也因此而变得良好，由此，可视区的边界可以向配向层的边界偏移，从而减小了液晶面板的边框宽度。另外，由于有凸台或凹槽的阻止，使得配向液不会流向框胶的设置区造成框胶贴合不可靠，因而，凸台或凹槽可以向框胶区偏移，即配向层的边界可以向框胶区偏移，这样就更进一步的扩大了可视区的范围， 也进一步减小了液晶面板边框的宽度。如图3中d2表示本实施例的液晶面板的边框的宽度，与相同尺寸的图2所示的液晶面板的dl (现有液晶面板的边框宽度)相比，d2 < dl，也就是说，本实施例的液晶面板的边框要比现有液晶面板的边框更窄。由于配向液的表面张力的存在，所述凸台的高度即使等于或小于配向液的厚度，在一定程度上也是可以避免配向液越过凸台向外扩散的。而若凸台的高度大于所述配向液的厚度，则可以更好的避免配向液越过凸台向外扩散。在本发明中，不同的液晶面板会有不同的结构，如FFS结构的液晶面板与COA结构的面板，其基板上的膜层分布是不同的，因此根据不同的液晶面板以及不同的工艺过程，将凸台或凹槽设计在相应的膜层上，以简化液晶面板的生产过程，提高液晶面板的效率，同时又能确保液晶面板的最佳显示效果。如在阵列基板的钝化膜形成凸台；在阵列基板的像素电极层上表面上形成凹槽；在阵列基板的钝化膜上形成凹槽；在彩膜基板的黑矩阵的上表面形成凹槽；以及利用彩膜基板上的间隙粒子形成一堵可以封堵配向液的间隙粒子墙或是利用胶体在基板的周围涂布一道胶体形成围墙。凸台、凹槽的形成并非是一定要在与配向层紧邻的那层膜层的工艺上制作，如在彩膜基板上，在电极上形成凹槽可以是先在黑矩阵上形成凹槽，则在电极形成时，电极上自然会存在凹槽。本发明中，液晶显示装置的制造方法包括步骤A 在基板上需要涂布配向液的区域的边界形成凸台或凹槽，B 进行配向液的涂布。以在阵列基板中设置凸台为例，所述步骤A中，在阵列基板上完成像素电极层的沉积后，再利用树脂溶剂在阵列基板上需要涂布配向液的边界沉积处一道凸台。以在彩膜基板中设置凹槽为例，所述步骤A中，在彩膜基板中沉积完成黑矩阵后， 在黑矩阵层表面通过曝光机光刻出一道凹槽。以上内容是结合具体的优选实施方式对本发明所作的进一步详细说明，不能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本发明的保护范围。
权利要求
1.一种液晶显示装置的基板，其特征在于，所述基板上在需要涂布配向液的区域的边界设置有用于阻挡配向液扩散的凸台或凹槽。
2.如权利要求1所述的一种液晶显示装置的基板，其特征在于，所述基板为阵列基板， 所述阵列基板包括形成在其表面的像素电极层，所述凸台形成于所述像素电极层上。
3.如权利要求1所述的一种液晶显示装置的基板，其特征在于，所述基板为阵列基板， 所述阵列基板包括形成在其表面的钝化膜，所述凸台形成于所述钝化膜上。
4.如权利要求1所述的一种液晶显示装置的基板，其特征在于，所述凸台的高度大于所述配向液的厚度。
5.如权利要求1所述的一种液晶显示装置的基板，其特征在于，所述基板为阵列基板， 所述阵列基板包括形成在其表面的像素电极层，所述凹槽形成于所述像素电极层上表面。
6.如权利要求1所述的一种液晶显示装置的基板，其特征在于，所述基板为阵列基板， 所述阵列基板包括形成在其表面的钝化膜，所述凹槽形成于所述钝化膜上。
7.如权利要求1所述的一种液晶显示装置的基板，其特征在于，所述基板为彩膜基板， 所述彩膜基板包括形成在其表面的黑矩阵，所述凹槽形成于所述黑矩阵的上表面。
8.如权利要求1所述的一种液晶显示装置的基板，其特征在于，所述基板为彩膜基板， 所述凸台由排布在所述配向液涂布边界的间隙粒子形成。
9.如权利要求1所述的一种液晶显示装置的基板，其特征在于，所述凸台为设置在所述彩膜基板或阵列基板上需要涂覆配向液的边界的胶体。
10.一种液晶显示装置，包括如权利要求1-9任一所述的用于液晶显示装置的基板。
11.一种液晶显示装置的制造方法，包括步骤A 在基板上需要涂布配向液的区域的边界形成凸台或凹槽，B:进行配向液的涂布。
12.如权利要求11所述的一种液晶显示装置的制造方法，其特征在于，所述步骤A中， 所述基板为液晶显示装置的阵列基板，所述凸台形成在所述阵列基板的像素电极层上。
13.如权利要求11所述的一种液晶显示装置的制造方法，其特征在于，所述步骤A中， 所述基板为阵列基板，所述阵列基板包括形成在其表面的钝化膜，所述凸台形成于所述钝化膜上。
14.如权利要求11所述的一种液晶显示装置的制造方法，其特征在于，所述步骤A中， 所述基板为彩膜基板，所述凸台由排布在所述配向液涂布边界的间隙粒子形成。
15.如权利要求11所述的一种液晶显示装置的制造方法，其特征在于，所述步骤A中， 所述基板为阵列基板，所述阵列基板包括形成在其表面的像素电极层，所述凹槽形成于所述像素电极层上表面。
16.如权利要求11所述的一种液晶显示装置的制造方法，其特征在于，所述步骤A中， 所述基板为液晶显示装置的彩膜基板，所述凹槽是在所述彩膜基板的黑矩阵层表面形成。
17.如权利要求16所述的一种液晶显示装置的制造方法，其特征在于，所述凹槽通过曝光机光刻形成。
18.如权利要求11所述的一种液晶显示装置的制造方法，其特征在于，所述步骤A中， 所述凸台为涂布在所述基板上需要涂覆配向液的边界的胶体。
全文摘要
本发明公开一种液晶显示装置的基板、液晶显示装置及其制造方法，所述基板上在需要涂布配向液的区域的边界设置有用于阻挡配向液扩散的凸台或凹槽。本发明由于在液晶显示装置的基板上设置有用于阻挡配向液扩散的凸台或凹槽，凸台可以阻止配向液扩散，而凹槽可以吸收扩散的配向液，避免配向液在具有表面段差的基板上扩散形成不均匀的边界，转而形成了较为均匀的边界，从而使得液晶显示装置的可视区的边界向配向层的边界进一步偏移，提高了可视区的范围；另外，由于有凸台或凹槽的阻止，使得凸台或凹槽可以向框胶区偏移，即配向层的边界可以向框胶区偏移，这样就更进一步的扩大了可视区的范围。
文档编号G02F1/1337GK102402071SQ20111039631
公开日2012年4月4日 申请日期2011年12月2日 优先权日2011年12月2日
发明者吴鸿杰, 廖炳杰, 施翔尹, 詹政川 申请人:深圳市华星光电技术有限公司