1.一种蒸镀装置，其是在蒸镀室中具备蒸发源设置部的蒸镀装置，所述蒸发源设置部用于设置收纳成膜材料的蒸发源，其特征在于，
所述蒸镀装置构成为，在所述蒸镀装置中设置有包围所述蒸发源设置部的遮蔽部，在所述遮蔽部的上方位置设置有限制板，所述限制板用于限制从设置于所述蒸发源设置部的蒸发源朝向基板释放出的成膜材料的蒸发粒子相对于基板的入射角，在所述遮蔽部中设置有开闭部。
2.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，
所述限制板设置于在维护时也不进行开闭的固定支承部件上。
3.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，
所述开闭部在蒸镀时闭合，在维护时打开。
4.根据权利要求2所述的蒸镀装置，其特征在于，
所述固定支承部件构成为框状，所述框状具有容许所述开闭部的开闭动作的开口。
5.根据权利要求2所述的蒸镀装置，其特征在于，
所述固定支承部件设置在不对所述开闭部的开闭动作产生干涉的位置。
6.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，
在包围所述蒸发源设置部的四周的所述遮蔽部的与所述蒸发源设置部的长度方向的侧面对置的位置处设置了所述开闭部。
7.根据权利要求6所述的蒸镀装置，其特征在于，
所述遮蔽部构成为：在将所述开闭部设置成打开状态时，设在所述蒸发源设置部的蒸发源在其长度方向的全长上从该开闭部露出。
8.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，
所述限制板被设置成相对于所述遮蔽部能够自由活动。
9.根据权利要求1～8中的任意一项所述的蒸镀装置，其特征在于，
使包围所述蒸发源设置部的所述遮蔽部的开口部开闭的挡板被设置成相对于所述遮蔽部能够自由活动。
10.一种蒸镀装置，其具备：
蒸发源设置部，其用于设置收纳成膜材料的蒸发源；和
遮蔽部，其包围所述蒸发源设置部的四周，
其特征在于，
所述遮蔽部具有开闭结构。
11.根据权利要求10所述的蒸镀装置，其特征在于，
所述蒸发源设置部被设置在蒸发源支承体上，
所述遮蔽部具备：隔着所述蒸发源设置部对置的一对固定部件；和在所述一对固定部件之间隔着所述蒸发源设置部对置的一对部件，
所述一对固定部件固定于所述蒸发源支承体，
所述一对部件中的至少一方是通过设置于其两端部的枢轴安装部枢轴安装于所述一对固定部件的内表面下部的可动部件。
12.根据权利要求11所述的蒸镀装置，其特征在于，
所述蒸发源设置部形成为在一个方向上较长的形状，
所述可动部件沿着所述蒸发源设置部的长度方向设置。
13.根据权利要求11或12所述的蒸镀装置，其特征在于，
在所述蒸发源支承体上设置有包围所述蒸发源设置部的框状的固定支承部件，在所述固定支承部件的上表面设有限制板。
14.根据权利要求13所述的蒸镀装置，其特征在于，
构成所述固定支承部件的框在所述蒸发源设置部的长度方向上的间隔比所述可动部件在所述蒸发源设置部的长度方向上的长度长。
15.一种蒸镀装置，其是在蒸镀室中设置蒸发源而成的蒸镀装置，其中，所述蒸发源隔着掩模对基板进行蒸镀，其特征在于，
所述蒸镀装置构成为，在所述蒸镀装置中设有包围所述蒸发源的遮蔽部，在所述遮蔽部的上方位置设置有限制板，所述限制板用于限制从所述蒸发源朝向所述基板飞散的成膜材料相对于基板的入射角，
在所述遮蔽部中设有维护用开闭部，所述维护用开闭部在维护时开闭从而使所述蒸发源露出或隐藏，所述限制板设置于在维护时也不进行开闭的固定支承部件上。