镀膜设备及输送模块的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明是有关于一种加工设备及其输送模组，且特别是有关于一种镀膜设备及输送模块。
【背景技术】
[0002]真空溅镀设备在半导体相关产业中已获得广泛的应用，举例来说，触控显示面板中的透明导电薄膜可利用真空溅镀设备来制作。详细而言，真空溅镀是属于物理气相沉积(PVD)技术的一种，普遍应用于半导体处理的成膜程序中，其在真空腔体内的溅镀靶源的阴、阳电极之间施加高电压以将惰性气体(如氩气)高温离子化成电浆(plasma)，而电浆中的离子会轰击溅镀靶材，使得溅镀靶材的原子或分子溅飞出并沉积、附着于工件表面上以形成薄膜。
[0003]以圆柱状工件而言，若欲在工件的圆柱面上进行完整的溅镀，则需在溅镀过程中让工件持续地转动，以使所述圆柱面能够随着工件的转动而完整地被溅镀。一种现有的操作方式为将工件固定于旋转治具(如转盘)上并驱动治具旋转以带动工件转动。然而，此种操作方式需依工件尺寸的不同而设置各种规格的旋转治具，以人工方式将多个工件分别固定至旋转治具，并在溅镀完成后以人工方式分别将多个工件从旋转治具卸除，故较为费工费时而增加了处理成本。此外，若所述圆柱状工件为不易被治具所夹持的大量小尺寸工件，则更为增加处理进行的困难度。
【发明内容】
[0004]本发明提供一种镀膜设备及输送模块，可便利地带动工件转动而使工件完整地被镀膜。
[0005]本发明的输送模块包括基座、多个第一输送件及多个第二输送件。这些第一输送件固定于基座且沿第一方向依序排列。各第一输送件具有第一斜面。这些第二输送件可动地配置于基座且沿第一方向依序排列。各第二输送件具有第二斜面。这些第二斜面分别对应于这些第一斜面。当这些第二输送件位于第一位置时，工件适于被承载于在这些第一斜面的其中任一。当这些第二输送件沿第二方向从第一位置移动至第二位置时，工件被对应的第二斜面推离对应的第一斜面并沿对应的第二斜面往相邻的另一第一斜面滚动。当这些第二输送件沿反向在第二方向的第三方向从第二位置移动至第一位置时，工件沿所述另一第一斜面滚动并被承载于所述另一第一斜面。
[0006]在本发明的一实施例中，上述的第一方向垂直于第二方向。
[0007]在本发明的一实施例中，上述的第三方向为重力方向。
[0008]在本发明的一实施例中，上述的各第一斜面高于基准平面，当这些第二输送件位于第一位置时，各第二斜面低于基准平面，当这些第二输送件位于第二位置时，各第二斜面不低于各第一斜面。
[0009]在本发明的一实施例中，上述的相邻的两第一输送件之间的最短距离小于工件的外径。
[0010]在本发明的一实施例中，上述的各第一输送件还具有止挡面，各第一输送件的第一斜面朝向相邻的另一第一输送件的止挡面，当这些第二输送件位于第一位置时，工件适于被定位于这些第一斜面的其中任一与另一第一输送件的止挡面之间。
[0011]在本发明的一实施例中，当这些第二输送件移动至第二位置时，工件越过另一第一输送件的止挡面并到达另一第一输送件的第一斜面。
[0012]在本发明的一实施例中，上述的各第一斜面平行于各第二斜面。
[0013]在本发明的一实施例中，当这些第二输送件位于第一位置与第二位置之间时，沿第四方向观察，这些第一输送件与这些第二输送件部分地重叠，第四方向垂直于第一方向且垂直于第二方向。
[0014]本发明的镀膜设备包括上述输送模块及靶源。靶源配置于基座上方且适于对工件进行镀膜。
[0015]基于上述，在本发明的输送模块中，这些第二输送件能够相对于这些第一输送件移动，而通过第二输送件的第二斜面将对应的第一输送件的第一斜面上的工件推往另一第一输送件的第一斜面，以带动工件沿第一输送件的排列方向被输送。在工件如上述般被输送的过程中，工件会沿这些第一斜面及这些第二斜面进行滚动，以使工件的表面能够随着工件的转动而完整地被镀膜。据此，不需如现有操作方式般以人工方式将多个工件分别固定至旋转治具，就能够带动工件转动而完整地对工件进行镀膜，藉以使镀膜处理的进行更为便利并节省处理成本。
[0016]为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合所附附图作详细说明如下。
【附图说明】
[0017]图1是本发明一实施例的镀膜设备的侧视示意图；
[0018]图2是图1的镀膜设备的部分构件立体示意图；
[0019]图3A至图3C是图1的输送模块的运动流程图。
[0020]附图标记说明:
[0021]50:镀膜设备；
[0022]60:工件；
[0023]100:输送模块；
[0024]110:基座；
[0025]120a、120b、120c:第一输送件；
[0026]122a、122b、122c:第一斜面；
[0027]124b、124c:止挡面；
[0028]130a、130b:第二输送件；
[0029]132a、132b:第二斜面；
[0030]200:革巴源；
[0031]A1、A2:夹角;
[0032]Dl:第一方向；
[0033]D2:第二方向；
[0034]D3:第三方向；
[0035]D4:第四方向；
[0036]dl:外径；
[0037]d2:距离；
[0038]Pl:第一位置；
[0039]P2:第二位置；
[0040]S:基准面。
【具体实施方式】
[0041]图1是本发明一实施例的镀膜设备的侧视示意图。图2是图1的镀膜设备的部分构件立体示意图。为使附图较为清楚，图2未示出图1的基座110及靶源200。请参考图1及图2，本实施例的镀膜设备50，例如为真空溅镀设备，包括输送模块100及靶源200。输送模块100包括基座110、多个第一输送件(不出三组第一输送件，分别标不为120a、120b、120c)及多个第二输送件(示出两组第一输送件，分别标示为130a、130b)。
[0042]第一输送件120a、120b、120c固定于基座110并沿第一方向Dl依序排列，且分别具有第一斜面122a、122b、122c，第一斜面122a、122b、122c都高于基座110的基准面S。第二输送件130a、130b可动地配置于基座110并沿第一方向Dl依序排列，且分别具有第二斜面132a、132b。第二斜面132a对应于第一斜面122a，且第二斜面132b对应于第一斜面122b。第一输送件120a、120b、120c及第二输送件130a、130b的材质例如为不锈钢或其它适当材料。靶源200配置于基座110上方且适于对工件60进行镀膜。
[0043]图3A至图3C是图1的输送模块的运动流程图。当第二输送件130a、130b如图1所示位于第一位置Pl时，第二斜面132a、132b低于基准平面S，且工件60适于被承载于第一斜面122a、122b、122c的其中任一(图1及图2示出为工件60承载于第一输送件120a的第一斜面122a)，其中工件60例如为圆柱状工件。当第二输送件130a、130b如图3A所示沿垂直于第一方向Dl的第二方向D2从第一位置Pl往上移动，并如图3B所不移动至第二位置P2时，第二斜面132a、132b不低于第一斜面122a、122b、122c，且工件60被对应的第二斜面132a推离第一斜面122a并沿第二斜面132a往相邻的另一第一斜面122b滚动。当第二输送件130a、130b如图3C所示沿反向在第二方向D2的第三方向D3 (即重力方向)从第二位置P2移动至第一位置Pl时，工件60沿所述另一第一斜面122b滚动并被承载于第一斜面122b。
[0044]类似于上述运动方式，第二输送件130a、130b可从图3C所示的第一位置Pl再次向上移动至第二位置P2，而将工件60推离第一斜面122b并使工件60往第一斜面122c滚动，并接着复位至第一位置Pl而使工件60继续沿第一斜面122c滚动。在工件60沿第一斜面122a、122b、122c或第二斜面132a、132b移动的过程中，工件60除了进行滚动之外也可能在滚动的同时进行滑动，本发明不对此加以限制。
[0045]在上述配置方式之下，第二输送件130a、130b能够相对于第一输送件120a、120b、120c移动,而通过第二输送件130a的第二斜面132a将第一输送件120a的第一斜面122a上的工件60推往第一输送件120b的第一斜面