技术总结
本实用新型公开了一种真空镀膜机用镀膜基片旋调装置，包括底座，底座的顶部上设有真空镀膜罩，底座上设有旋转座，旋转座上设有储物槽，底座的内部设有驱动电机，驱动电机的上部设有驱动轴，驱动轴的下端与驱动电机的上部连接，驱动轴的上端安装在旋转座的底部，底座的顶部设有开槽，驱动轴的上端穿过开槽；驱动电机安装在移动座上，底座的内侧部位置设有液压缸，液压缸的前部设有活塞杆，活塞杆的端部安装在驱动电机的侧部位置。本实用新型可以方便使驱动电机移动灵活性更加好，从而可以方便对镀膜基片进行移动调节，方便对镀膜基片进行灵活调节。
技术研发人员：刘玉杰
受保护的技术使用者：天津涂冠科技有限公司
文档号码：201720419196
技术研发日：2017.04.20
技术公布日：2018.01.12