一种真空蒸镀装置的制作方法

文档序号:3377669阅读:391来源:国知局
专利名称:一种真空蒸镀装置的制作方法
技术领域
本发明涉及一种有机发光二极管显示器件(OLED)制备装置,特别涉及一种真空
蒸镀装置。
背景技术
目前,在OLED制备过程中,可以通过多种方法实现有机材料成膜。通常情况下, 小分子材料采用在真空状态下蒸镀的方法,大分子材料采用溶解为流体进行常态涂敷的方法,如旋转(spin)涂敷方式或狭缝(slit)涂敷方式。小分子材料真空状态下蒸镀常用方法是,将预定好的具有图案(pattern)的掩模板(mask)排列在玻璃基板下方,然后将有机材料蒸镀到玻璃基板上。使用这种生产技术, 其蒸镀装置的设置非常重要。目前,一般使用的蒸镀装置为桶状体再加上盖子,在盖子上设有多个小孔,以便被蒸度的有机材料通过该孔蒸镀到玻璃基板表面。但是,这种蒸镀装置往往会在其底部与上部形成温度差,当达到有机材料的临界温度时,有机材料可能会固化结晶进而堵塞孔,影响蒸镀速率。另外,桶状体蒸镀装置对于材料的加热也会产生温度分布不均勻的现象,材料中心温度低于外侧的温度,从而导致材料蒸发速率的不稳定。
发明内容为了克服上述现有技术的不足,本实用新型的目的在于提供一种真空蒸镀装置, 具有加热均勻,防止堵孔,蒸镀速率稳定,适合有机发光显示器件的制备的特点。为了实现上述目的,本实用新型所采用的技术方案是一种真空蒸镀装置,包括本体3,在本体3的顶端设有盖子1,在盖子1的下方设有隔板2,本体3的外部设为圆柱状,本体3内底部设为锥形状7,在本体3的周边和底部设有加热套4,在本体3的底侧部设有与加热套4相连接的电源6插座。所述盖子1上设有盖子蒸镀孔5。所述隔板2上设有隔板蒸镀孔8。由于本实用新型采用了内锥式的本体3和与之形状对应的加热套4,改进了现有技术的有机材料仅从周边加热的技术缺陷,使得材料加热均勻,不易二次结晶固化,取得了防止堵孔,蒸镀速率稳定的良好效果。

图1为现有技术结构示意图。图2为本实用新型结构俯视图。图3为本实用新型盖子的结构俯视图。图4为本实用新型隔板的结构俯视图。
具体实施方式
参照图1,2,3,一种真空蒸镀装置,包括放置有机材料的本体3,在本体3的顶端设有盖子1,在盖子1上设有若干个盖子蒸镀孔5,在盖子1的下方设有隔板2,在隔板2上设有若干个隔板蒸镀孔8,本体3的外部设为圆柱状,本体3内底部设为锥形状7,在本体3的周边和底部设有加热套4,在本体3的底侧部设有与加热套4相连接的电源6插座。本实用新型的工作过程是打开盖子1,将有机材料放入本体3内,盖好盖子1,打开加热套4电源开关,当本体3内的温度达到蒸散温度时,有机材料将从隔板2的隔板蒸镀孔8向上蒸散,并通过盖子1上的盖子蒸镀孔5蒸镀到其上方的玻璃基板表面,即在玻璃基板表面上蒸镀成一定厚度的有机膜,蒸镀时间由电源开关定时器控制。在加热过程中,由于本体3的内底和加热套4的底部均呈锥形,这样,本体3中的材料不仅受到通过本体3传递的加热套4热量,同时也受到了加热套4锥形部分的热量。这种结构起到了在材料中心部分加热的作用,也就使得有机材料的加热均勻性,使得蒸发速率稳定易于控制,有效避免了材料二次结晶的弊端。图中1为盖子,2为隔板,3为本体,4为加热套,5为盖子蒸镀孔,6为电源插座,7 为锥形状,8为隔板蒸镀孔。
权利要求1.一种真空蒸镀装置,包括本体(3),其特征在于,在本体(3)的顶端设有盖子(1), 在盖子(1)的下方设有隔板O),本体(3)的外部设为圆柱状,本体(3)内底部设为锥形状 (7),在本体C3)的周边和底部设有加热套G),在本体C3)的底侧部设有与加热套(4)相连接的电源插座(6)。
2.根据权利要求1所述的一种真空蒸镀装置,其特征在于,所述盖子(1)上设有盖子蒸镀孔(5)。
3.根据权利要求1所述的一种真空蒸镀装置,其特征在于,所述隔板(2)上设有隔板蒸镀孔⑶。
专利摘要一种真空蒸镀装置,包括本体,在本体的顶端设有盖子,在盖子的下方设有隔板,本体的外部设为圆柱状,本体内底部设为锥形状,在本体的周边和底部设有加热套,在本体的底侧部设有电源;由于本实用新型采用了内锥式的本体和与之形状对应的加热套,改进了现有技术的有机材料仅从周边加热的技术缺陷,使得材料加热均匀,不易二次结晶固化,取得了防止堵孔,蒸镀速率稳定的良好效果;本装置特别适合有机发光二极管显示器件制备过程中的有机材料蒸镀。
文档编号C23C14/26GK202011902SQ201120029869
公开日2011年10月19日 申请日期2011年1月28日 优先权日2011年1月28日
发明者周军鹏 申请人:彩虹显示器件股份有限公司
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