磁石511、容置装置512以及连杆513。其中，磁石511容置于容置装置512内。连杆513的一端连接容置装置512。优选地，连杆512与容置装置512之间可以通过螺纹连接、焊接、胶贴等方式固定连接。连杆513的另一端连接电机52，进而，电机52通过驱动连杆513上下移动起到控制磁石511的上下移动。
[0035]承载装置53设置于待蒸镀基板3的上方。如图2所示，承载装置53优选地为一支撑板，所有磁铁单元均设置于承载装置53的上方，所述支撑板的下表面与待蒸镀基板3相贴。所述支撑板由导磁材料制成。
[0036]如图2所示，优选地，每根连杆513的长度均相同，当进行蒸镀前，可以将所有磁铁单元51处于同一水平面上，即所有磁铁单元51到待蒸镀基板3的距离均相等。当蒸镀过程中，待蒸镀基板3上局部区域的掩膜板4发生变形而未与待蒸镀基板3相贴时，可以通过控制对应区域的磁铁单元51的上下移动，调整其与待蒸镀基板3之间的距离，从而调节待蒸镀基板3的局域区域的磁力大小，使掩膜板4与待蒸镀基板3相贴，避免产生阴影效果(即实际蒸镀的面积与预先设定的蒸镀面积不同)。或者也可以通过预先设定的方式调整每个磁铁单元51与待蒸镀基板3之间的距离，例如，在进行蒸镀之前，可以先通过磁力仪测量每个磁铁单元51的磁场大小，得到一个初始磁力大小，将测得的结果和预先设定的基准值进行比较，分别调整大于基准值或小于基准值的磁铁单元51距离待蒸镀基板3的距离。若测得的结果小于基准值，则可以调小该磁铁单元51与待蒸镀基板3之间的距离，若测得的结果大于基准值，则可以调大该磁铁单元51与待蒸镀基板3之间的距离。或者还可以在蒸镀装置的机台外部加装一检测设备，在完成磁力大小的调整后，先蒸镀一片基板，将该基板传送至检测设备进行检测，根据检测的结构以决定是否继续进行磁力调整以及磁力调整的位置和大小。
[0037]进而，本实用新型通过调整每块磁铁单元51与待蒸镀基板3之间的距离，调节待蒸镀基板3的局部的磁力大小，使掩膜板4能够紧贴于待蒸镀基板3的表面，避免由于磁场不均匀使掩膜板4发生形变，产生阴影效果(即实际蒸镀的面积与预先设定的蒸镀面积不同)，从而提高OLED的量产品质、稳定性以及良率，降低生产成本。
[0038]请参见图4，其示出了本实用新型的第一实施例的蒸镀装置的多个磁铁单元的磁石排布的结构示意图。为了更清楚地显示磁石511的磁极，图4中仅示出了磁铁单元51的磁石511。如图4所示，由于在此实施例中，待蒸镀基板3为一矩形基板，因此，多个磁铁单元51优选地呈矩阵排列。在图4所示的优选实施例中，所有磁铁单元51之间紧密相贴。每列磁铁单元51的磁石511均为同一磁极，即每一列磁铁单元51的磁石511均为N极或者均为S极。并且，列与列之间的磁铁单元51的磁石511的磁极为N极、S极相互交错设置。
[0039]第二实施例
[0040]请参见图5，其示出了本实用新型的第二实施例的蒸镀装置的多个磁铁单元的磁石排布的结构示意图。为了更清楚地显示磁石511’的磁极，图5中仅示出了磁铁单元的磁石511’。如图5所示，与上述图4所示的第一实施例不同的是，多个磁铁单元排列形成多个同心圆。位于每个圆周上的磁铁单元的磁石511’均为同一磁极，即位于每一圈的多块磁铁单元的磁石511’均为N极或者S极。并且，每个相邻的同心圆之间的磁铁单元的磁石511’的磁极为N极、S极相互交错设置。由于多个磁铁单元排列成圆形，因此，该磁力调节装置更适用于呈圆形的待蒸镀基板，从而，可以更精确、更有效地调节圆形的待蒸镀基板与掩膜板之间的局部磁力大小。该圆形的待蒸镀基板可主要应用于智能手表等电子设备。在此不予赘述。
[0041]综上，本实用新型上述实施例所述的蒸镀装置通过将现有技术中的磁板替换为多个可分别上下移动的磁铁单元，使每个磁铁单元与待蒸镀基板之间的距离均可调节，进而通过调节磁铁单元与待蒸镀基板之间的距离来控制待蒸镀基板的局部磁力大小，使掩膜板完全贴附于待加工基板的表面，避免或减少现有技术中因磁场不均匀等原因使掩膜板发生形变而产生阴影效果(即实际蒸镀的面积与预先设定的蒸镀面积不同)，提高了 OLED的量产品质、稳定性以及良率，降低了成本。
[0042]虽然本实用新型已以优选实施例揭示如上，然而其并非用以限定本实用新型。本实用新型所属技术领域的技术人员，在不脱离本实用新型的精神和范围内，当可作各种的更动与修改。因此，本实用新型的保护范围当视权利要求书所界定的范围为准。
【主权项】
1.一种蒸镀装置，其特征在于，所述蒸镀装置包括: 蒸镀腔室； 蒸镀源，设置于蒸镀腔室中，且位于待蒸镀基板下方； 磁力调节装置，设置于所述待蒸镀基板的上方，用于使掩膜板贴附于所述待蒸镀基板的下表面，所述磁力调节装置包括: 多个磁铁单元，每个磁铁单元均可沿竖直方向上下移动；以及 控制机构，控制所述磁铁单元的上下移动。2.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述控制机构包括多个电机，每个所述电机均对应连接一磁铁单元，控制所述磁铁单元的上下移动。3.根据权利要求2所述的蒸镀装置，其特征在于，所述磁铁单元包括: 磁石; 容置装置，设置于所述磁石的外部，用于容置所述磁石； 连杆，所述连杆分别连接所述容置装置和所述电机。4.根据权利要求3所述的蒸镀装置，其特征在于，所述待蒸镀基板为矩形基板。5.根据权利要求4所述的蒸镀装置，其特征在于，所述多个磁铁单元呈矩阵排列。6.根据权利要求5所述的蒸镀装置，其特征在于，每列所述磁铁单元中的磁石均为同一磁极，且列与列之间的所述磁铁单元的磁石的磁极为N极、S极相互交错设置。7.根据权利要求3所述的蒸镀装置，其特征在于，所述待蒸镀基板为圆形基板。8.根据权利要求7所述的蒸镀装置，其特征在于，所述多个磁铁单元排列形成多个同心圆。9.根据权利要求8所述的蒸镀装置，其特征在于，位于每个圆周上的所述磁铁单元的磁石均为同一磁极，且每个相邻的同心圆之间的所述磁铁单元的磁石的磁极为N极、S极相互交错设置。10.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述磁力调节装置还包括一承载装置，所述承载装置设置于所述待蒸镀基板的上方，用于承载所述多个磁铁单元。11.根据权利要求10所述的蒸镀装置，其特征在于，所述承载装置为一支撑板，所述支撑板由导磁材料制成。
【专利摘要】本实用新型揭示一种蒸镀装置，其中，所述蒸镀装置包括：蒸镀腔室；蒸镀源，设置于蒸镀腔室中，且位于待蒸镀基板下方；磁力调节装置，设置于所述待蒸镀基板的上方，用于使掩膜板贴附于所述待蒸镀基板的下表面，所述磁力调节装置包括：多个磁铁单元，每个磁铁单元均可沿竖直方向上下移动；以及控制机构，控制所述磁铁单元的上下移动。所述蒸镀装置可以解决现有技术中由于磁板施加在待蒸镀基板上的磁力无法进行局部调整而出现的阴影效果等问题。
【IPC分类】C23C14/24
【公开号】CN205368488
【申请号】CN201620149087
【发明人】严达祥, 颜振裕, 李明亮, 周文博
【申请人】上海和辉光电有限公司
【公开日】2016年7月6日
【申请日】2016年2月29日