/go表面金属离子印迹聚合物的制备方法及应用_3

文档序号:8217210阅读:来源:国知局
G0加入到100 mL乙醇溶液中,超声使其分 散均匀。然后,将10 mL MPS加入到上述混合溶液中,并置于50 ° C水浴中,磁力搅拌24 h,反应后将产物依次用乙醇、去离子水各洗涤5次,以洗脱未反应的MPS,在50 ° C下真空 干燥,制得乙烯基功能化的二氧化硅/氧化石墨烯复合材料,即Si02/G0-MPS。
[0037] (3)在装有滴液漏斗的三口烧瓶中,加入32 mL苯基溴化镁溶液,油浴预热至40 ° C,通氮气10 min,然后逐滴加入2 mL干燥的二硫化碳,无氧条件下,维持油浴40 ° C反 应90 min。然后逐滴加入4 mL苄基溴,并升温至50 ° C,反应120 min。反应结束后,冷却 至室温,加入120 mL冰水,随后用160 mL石油醚萃取,收集有机相,即可得链转移剂(CTA)。
[0038] (4)将 200 11^5102/60-]\0^,120 4 1^〇^,4臟〇1六水合硝酸镍(附(11)), 16 mmol丙稀酰胺(AM),80 mmol乙二醇二甲基丙稀酸醋(EGDMA)和120 mg偶氮二异丁腈 (AIBN)依次加入至20 mL甲醇和水的混合液中;并将该混合溶液置于70 ° C油浴中,氮气 保护下,反应24 h。反应后甲醇和水的混合液洗涤5次,以脱除未反应的单体、引发剂以及 未印迹的模板离子,在50 ° C下真空干燥,然后用1000 mL浓度为2 mol/L盐酸洗去模板 离子,并用去离子水洗至中性,再在50 ° C下真空干燥获得Si02/G0表面金属离子印迹聚 合物(RAFT-IIP)。
[0039] (5)于一系列25 mL具塞比色管中分别加入一定量的不同金属离子(Co(II), Cu(II),Cd(II)和Zn(II))与目标离子(Ni (II))组成的标准混合工作溶液,以水定容至 刻度,分别加入0. 02 g吸附剂,研宄离子印迹聚合物和非印迹聚合物对各二元溶液的动态 竞争吸附,25 ° C下振荡15 min,静置一定时间后离心,移取上层清液,用ICP-AES测定 Ni(II)和其它竞争吸附离子的浓度,根据结果计算出吸附容量。
[0040] 结果显示本发明获得的氧化石墨烯复合材料表面印迹聚合物对Ni (II)表现出良 好的选择性,其中Ni(II)相对于竞争吸附离子Co(II),Cu(II),Cd(II)和Zn(II)的选择 性系数分别为4. 66, 7. 43, 23. 25和5. 96。
[0041] 所述实施例为本发明的优选的实施方式,但本发明并不限于上述实施方式,在不 背离本发明的实质内容的情况下,本领域技术人员能够做出的任何显而易见的改进、替换 或变型均属于本发明的保护范围。
【主权项】
1. 一种SiO 2/G0表面金属离子印迹聚合物的制备方法,其特征在于包括如下步骤:
1. 二氧化硅/氧化石墨烯SiO2AX)的制备: 将氧化石墨烯水溶液和聚乙烯吡咯烷酮加至乙醇中,室温下,磁力搅拌反应30~90 min,得溶液A ;然后,在溶液A中加入浓氨水和正硅酸四乙酯,超声30~90 min,得溶液B ;最 后,将溶液B置于30~50°C水浴中,反应12~36 h结束后,洗绦,干燥,得到二氧化娃/氧化 石墨稀Si02/G0 ; II、 功能化氧化石墨稀复合材料Si02/G0-MPS的制备: 将步骤(I )制得的Si02/G0与硅烷偶联剂加至乙醇中,于30~50°C水浴中反应8~24 h, 反应结束后,洗涤,干燥,得到功能化氧化石墨烯复合材料Si02/G0-MPS ; III、 可逆加成-断裂链转移剂CTA的制备: 在三口烧瓶中,加入苯基溴化镁溶液,置于油浴中预热,通氮气;然后,逐滴加入二硫化 碳,维持油浴温度,无氧条件下预反应;加入苄基溴,并升温至反应温度继续反应;反应结 束后,冷却至室温,加入冰水,随后用石油醚萃取,收集有机相,得链转移剂CTA ; IV、 Si02/G0表面金属离子印迹聚合物的制备: 将步骤II制得的Si02/G0-MPS、步骤III制得的CTA、模板离子、功能单体、交联剂、引发剂 加入甲醇与水混合液中,在无氧条件下,于油浴中反应,将产物洗涤、干燥,用2 mol/L盐酸 洗去模板离子,用去离子水洗至中性,干燥。
2. 如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤I中, 所述氧化石墨烯水溶液的浓度为2 g/L,浓氨水质量分数为28% ; 所述正硅酸四乙酯、浓氨水、氧化石墨烯水溶液和乙醇的体积比为1:4:10:80 ; 所述氧化石墨烯水溶液和聚乙烯吡咯烷酮的比例为I mL :0~200 mg。
3. 如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤II中, 所述硅烷偶联剂为γ-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷(MPS); 所述Si02/G0、硅烷偶联剂和乙醇溶液的比例为2 mg :0· I mg :1 mL。
4. 如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤III中, 所述的苯基溴化镁溶液为苯基溴化镁以I. 〇 mol/L的浓度存在于超干四氢呋喃中的溶 液,所述的述二硫化碳为超干溶液; 所述二硫化碳、苯基溴化镁溶液、苄基溴、冰水和石油醚的体积比为1:16:20:60:80。
5. 如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤III中, 所述油浴预热和维持温度为40°C,所述在无氧条件下预反应时间为30~90 min ; 所述升温后的反应温度为50°C,反应时间为60~120 min。
6. 如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤IV中, 所述模板离子至少包括铅、镍、铜、钴、锌、铁、铯、锶、汞、镉、锰、镁、铬、钡,由可溶性金 属盐提供; 所述功能单体为丙烯酰胺、甲基丙烯酸、丙烯酸、甲基丙烯酸甲酯和4-乙烯基吡啶中 的任意一种或两种; 所述交联剂为乙二醇二甲基丙烯酸酯或Ν,Ν' -亚甲基双丙烯酰胺; 所述引发剂为偶氮二异丁腈。
7. 如权利要求1或6所述的制备方法,其特征在于,步骤IV中, 所述的甲醇和水的混合液中甲醇与水的体积比为1:1, 所述模板离子、功能单体和交联剂的物质的量之比为1:4:20, 所述模板离子、引发剂、CTA和Si02/G0-MPS的用量比为I mmol :5 mg :30 yL :50 mg。
8. 如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤IV中,所述油浴温度为50~70°C,反 应时间为6~24 h。
9. 如权利要求1-8中任意所述的制备方法,其特征在于,所述方法制备得到Si02/G0表 面金属离子印迹聚合物。
10. 如权利要求9所述的SiO 2/G0表面金属离子印迹聚合物在选择性吸附水溶液中相 应金属离子的应用。
【专利摘要】本发明提供了一种SiO2/GO表面金属离子印迹聚合物制备方法及应用, 属于材料制备技术和分离技术领域;特指以二氧化硅/氧化石墨烯为基底,以金属离子为模板,使用偶联剂、功能单体、交联剂、引发剂,采用可逆加成-断裂链转移聚合为聚合方式,制备SiO2/GO表面金属离子印迹聚合物;解决了表面聚合物层厚度不可控、吸附位点分布不均匀、模板分子因包埋过深而无法彻底洗脱、吸附速率慢以及链转移剂合成步骤复杂、耗时等问题;主要用于选择性分离水溶液中相应金属离子,且选择性分离效果显著,重复使用次数多。
【IPC分类】B01J20-28, B01J20-26, C02F1-28, C08F220-14, C08F292-00, B01J20-30, C08F220-06, C08F220-56, C08F226-06, C02F1-62, C08F2-38, C08J9-26
【公开号】CN104530334
【申请号】CN201510010917
【发明人】刘燕, 孟祥国, 罗敏, 倪良, 孟敏佳, 仇健
【申请人】江苏大学
【公开日】2015年4月22日
【申请日】2015年1月9日
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