示出将核壳 型CMC颗粒与固体清洁颗粒组合使用较单独使用核壳型CMC颗粒更有优势。
[0340] 在遍及本说明书的说明书和权利要求书中，术语"包括" "和包含"及其变体意味着 "包括但不限于"，且它们不意在（并且不）排除其它部分、添加剂、组分、整数或步骤。在遍 及本说明书的说明书和权利要求书中，单数形式涵盖复数，除非上下文另有规定。特别地， 当使用不定冠词时，本说明书应当理解为考虑到复数形式和单数形式，除非上下文另有规 定。
[0341] 与本发明的特定的方面、实施方案或实施例一起描述的特征、整数、特性、化合物、 化学部分或基团应当理解为可应用于本文中所述的任何其它方面、实施方案或实施例，除 非与之不相容。本说明书中（包括任何随附的权利要求书、摘要和附图）公开的全部特征 和/或如此公开的任何方法或过程中的全部步骤可以任意组合进行组合，除了其中这种特 征和/或步骤中的至少一些相互排斥的组合之外。本发明不限于任何前述的实施方案的细 节。本发明扩展至在本说明书中（包括任何随附的权利要求书、摘要和附图）公开的特征 中的任何一个新颖的特征或任何新颖的组合，或如此公开的任何方法或过程的步骤中的任 何一个新颖步骤或任何新颖的组合。
[0342] 阅读者的注意力导向与本申请有关的相对于本说明书同时或在先提交的并且就 本说明书而言向公众查阅开放的所有文献及文件，所有这些文献和文件的全部内容通过引 用并入本文。
【主权项】
1. 一种包含多个固体清洁颗粒和多个渗入颗粒的制剂，其中所述渗入颗粒包括包含至 少一种基质材料和至少一种可释放性材料的核-壳型颗粒，其中所述基质材料包括至少一 种部分或完全可溶于水的聚合材料作为所述渗入颗粒的壳，并且所述至少一种可释放性材 料包括所述渗入颗粒的核材料，其包括至少一种用于基材处理的清洁剂和/或后清洁剂和 /或其它处理添加剂，其中所述固体清洁颗粒为聚合型和/或非聚合型清洁颗粒，其中所述 聚合型固体清洁颗粒具有在0. 5-2. 5g/cm3范围内的平均密度和在5-275mm3范围内的平均 体积。2. 如权利要求1所述的制剂，其中所述聚合型清洁颗粒包括发泡型或非发泡型聚合材 料。3. 如权利要求1或2所述的制剂，其中所述聚合型清洁颗粒包括线性的或交联的聚合 物。4. 如权利要求1、2或3所述的制剂，其中所述聚合型清洁颗粒包括选自聚締控、聚酷 胺、聚醋或聚氨醋的聚合物。5. 如权利要求4所述的制剂，其中所述聚合型颗粒包含尼龙，聚对苯二甲酸乙二醇醋 或聚对苯二甲酸下二醇醋。6. 如权利要求1~5中的任一项所述的制剂，其中所述聚合型清洁颗粒包含共聚物，所 述共聚物包括带有离子电荷或者包含极性部分或不饱和有机基团的单体。7. 如任一项前述权利要求所述的制剂，其中所述非聚合型清洁颗粒包含玻璃，娃石，石 材，木材，金属或陶瓷材料。8. 如权利要求7所述的制剂，其中所述金属选自锋、铁、铭、儘、铁、钻、儀、铜、鹤、侣、锡 和铅，及其合金。9. 如权利要求7所述的制剂，其中所述陶瓷选自氧化侣、氧化错、碳化鹤、碳化娃和氮 化娃。10. 如任一项前述权利要求所述的制剂，其中非聚合型固体清洁颗粒具有在 3. 5-12.Og/cm3范围内的平均密度和在5-275mm3范围内的平均体积。11. 如任一项前述权利要求所述的制剂，其中所述固体清洁颗粒的形状基本上为楠球 形，圆柱形或球形。12. 如任一项前述权利要求所述的制剂，其中所述渗入颗粒W占所述制剂总质量的 0. 1-50. 0%w/w的比例进行添加。13. 如任一项前述权利要求所述的制剂，其中所述渗入颗粒的形状基本上为圆柱形或 球形。14. 如任一项前述权利要求所述的制剂，其中所述渗入颗粒具有在0. 5-2. 5g/cm3范围 内的平均密度和在5-500mm3范围内的平均体积。15. 如任一项前述权利要求所述的制剂，其包含两种或多种类型的渗入颗粒。16. 如任一项前述权利要求所述的制剂，其中所述基质材料选自聚乙締醇、聚乙締醇和 聚醋酸乙締醋的共聚物、聚乙基乙締醇、径丙基甲基纤维素、纤维素、淀粉、径丙基纤维素、 径乙基纤维素、簇甲基纤维素、聚乙締化咯烧酬、聚乙二醇和明胶或及其盐中的至少一种。17. 如任一项前述权利要求所述的用于清洁脏污基材的制剂，其中所述至少一种可释 放性材料包括至少一种清洁剂。18. 如任一项前述权利要求所述的制剂，其中所述至少一种可释放性材料包括至少一 种后清洁剂。19. 如权利要求18所述的制剂，其中所述后清洁剂包括至少一种光学增白剂、抗再沉 积剂、香料或染料转移抑制剂。20. 如权利要求19所述的制剂，其中所述染料转移抑制剂选自几下聚糖、聚乙締化咯 烧酬聚合物（交联的或未交联的）、多胺N-氧化物聚合物、N-乙締化咯烧酬和N-乙締基 咪挫的共聚物、聚乙締嗯挫烧酬、聚乙締咪挫、所有运些聚合物的盐、钢质膨润±、巧质膨润 上、蒙脱石、高岭石、高岭上及其混合物。21. 如权利要求20所述的制剂，其中所述染料转移抑制剂选自N-乙締化咯烧酬和 N-乙締基咪挫的共聚物。22. 如权利要求19所述的制剂，其中所述至少一种抗再沉积剂选自聚丙締酸醋和聚乙 二醇或其盐。23. 如权利要求19所述的制剂，其中所述至少一种抗再沉积剂选自簇甲基纤维素 (CMC)或其盐。24. 如任一项前述权利要求所述的制剂，其中所述至少一种其它处理添加剂包括至少 一种抗微生物剂。25. 如权利要求24所述的制剂，其中所述抗微生物剂选自含银离子的沸石、苯扎氯锭、 H氯生和硝酸银。26. 如权利要求24所述的制剂，其中所述抗微生物剂为十六烷基=甲基漠化锭 (CTAB)O27. 如任一项前述权利要求所述的制剂，其中所述清洁剂包括至少一种洗涂剂。28. 如权利要求27所述的制剂，其中所述洗涂剂包含至少一种表面活性剂，所述表面 活性剂选自非离子型和/或阴离子型和/或阳离子型表面活性剂和/或两性和/或两性离 子型和/或半极性非离子型表面活性剂。29. 如任一项前述权利要求所述的制剂，其中所述清洁剂包含至少一种酶、氧化剂或漂 白剂。30. 如权利要求28所述的制剂，其中所述表面活性剂W占所述渗入颗粒质量的5%至 30 %的水平存在。31. 如任一项前述权利要求所述的制剂，其中所述至少一种清洁剂额外包括增洁剂、馨 合剂、染料转移抑制剂、分散剂、酶稳定剂、催化材料、漂白活化剂、聚合物分散剂、粘±污垢 去除剂和/或抑泡剂。32. 如任一项前述权利要求所述的制剂，其中所述至少一种清洁剂包括至少一种漂白 化合物和/或至少一种漂白活化剂。33. 如权利要求32所述的制剂，其中所述至少一种漂白剂选自过氧化合物、无机过氧 盐和有机过氧酸。34. 如权利要求33所述的制剂，其中所述无机过氧盐选自过碳酸盐。35. 如权利要求34所述的制剂，其中所述过碳酸盐包括过碳酸钢。36. 如权利要求32-35中的任一项所述的制剂，其中所述至少一种漂白活化剂选自簇 酸醋。37. 如权利要求32-35中的任一项所述的制剂，其中所述至少一种漂白活化剂包括四 乙酷乙二胺灯AED)。38. 如权利要求32-37中的任一项所述的制剂，其包含过碳酸钢和四乙酷乙二胺 灯A邸）。39. 如权利要求32-38中的任一项所述的制剂，其包含两种类型的渗入颗粒，其中第一 类型的渗入颗粒包含漂白化合物，并且第二类型的渗入颗粒包含漂白活化剂。40. 如权利要求32-38中的任一项所述的制剂，其中所述渗入颗粒包含漂白化合物和 漂白活化剂。41. 如权利要求40所述的制剂，其中所述漂白化合物和漂白活化剂的重量比为 10:1-1:10。42. 如权利要求41所述的制剂，其中所述重量比为5:1-1:5,更典型地为3:1-1:3,最典 型地为2:1-1:2。43.如权利要求39所述的制剂，其中所述漂白化合物和漂白活化剂之比为10:1-1:10。44. 如权利要求43所述的制剂，其中所述重量比为5:1-1:5,更典型地为3:1-1:3,最典 型地为2:1-1:2。45. 如权利要求1-16中的任一项所述的制剂，其中所述渗入颗粒包含无清洁剂的添加 剂。46. 如权利要求45所述的制剂，其包含为消毒目的释放到织物表面上的抗微生物剂。47. -种处理基材的方法，所述方法包括用如权利要求1-46中的任一项所述的制剂处 理所述基材。48. -种处理基材的方法，所述方法包括用如权利要求1-44中的任一项所述的制剂处 理所述基材，其中所述方法包括清洁脏污基材的方法，其中所述至少一种可释放性材料包 括至少一种清洁剂。49. 如权利要求47或48所述的方法，其中所述至少一种可释放性材料包括至少一种后 清洁剂。50. 如权利要求47、48或49所述的用于清洁纺织纤维和织物的方法，其中所述处理在 5和95°C之间的溫度下进行10分钟和1小时之间的持续时间。51. 如权利要求50所述的方法，其中所述至少一种清洁剂包括至少一种漂白化合物和 至少一种漂白活化剂，并且所述处理在低于50°C的溫度下进行。52. -种处理基材的方法，所述方法包括用如权利要求45或46所述的制剂处理所述基 材。53. 如权利要求47-51中的任一项所述的方法，其额外包括按照权利要求52所述的方 法处理所述基材。54. 如权利要求52或53所述的方法，其包括为消毒目的将抗微生物剂释放到织物表面 上。55. 如权利要求54所述的方法，其中所述抗微生物剂选自含银离子的沸石、苯扎氯锭、 H氯生?和硝酸银。56. 如权利要求54所述的方法，其中所述抗微生物剂为十六烷基=甲基漠化锭 (CTAB)O57. 如权利要求52或53所述的方法，其包括用至少一种抗再沉积剂或染料转移抑制剂 处理织物。58. 如权利要求57所述的方法，其中所述染料转移抑制剂选自几下聚糖、聚乙締化咯 烧酬聚合物（交联的或未交联的）、多胺N-氧化物聚合物、N-乙締化咯烧酬和N-乙締基 咪挫的共聚物、聚乙締嗯挫烧酬、聚乙締咪挫、所有运些聚合物的盐、钢质膨润±、巧质膨润 上、蒙脱石、高岭石、高岭上及其混合物。59. 如权利要求58所述的方法，其中所述染料转移抑制剂选自N-乙締化咯烧酬和 N-乙締基咪挫的共聚物。60. 如权利要求57所述的方法，其中所述至少一种抗再沉积剂选自聚丙締酸醋、聚乙 二醇或其盐。61. 如权利要求57所述的方法，其中所述至少一种抗再沉积剂选自簇甲基纤维素 (CMC)或其盐。62. 如权利要求47-61中的任一项所述的方法，其中所述方法在水性环境中进行，其中 将水加到该体系中W提供在2. 5:1和0. 1:Iw/w之间的水与基材的比例。63. 如权利要求62所述的方法，其中所述比例在2:0. 1和0. 8:1之间。64. 如权利要求47-63中的任一项所述的方法，其中W基材干质量计，W30:1-0. 1:1的 颗粒比基材添加水平添加所述固体清洁颗粒。65. 如权利要求64所述的方法，其中W基材干质量计，固体清洁颗粒和基材的比例在 10:1-0. 1:Iw/w的范围内。66. 如权利要求65所述的方法，其中W基材干质量计，所述比例在5:1-1:1之间。67. 如权利要求47-66中的任一项所述的方法，其中所述基材包括塑料材料、皮革、纸 张、纸板、金属、玻璃或木材。68. 如权利要求47-66中的任一项所述的方法，其中所述基材包括纺织纤维。69. 如权利要求68所述的方法，其中所述纺织纤维包括天然纤维，或合成纤维，或其混 合物。70. 如权利要求47-69中的任一项所述的方法，其中所述固体清洁颗粒根据要求保护 的方法在进一步的步骤中重复使用。71. 如权利要求47-70中的任一项所述的方法，其包括冲洗循环。72. 如权利要求71所述的方法，其包括在所述固体清洁颗粒和渗入颗粒存在下冲洗所 述基材。73. 如权利要求72所述的方法，其包括添加随后或同时去除的水。74. 如权利要求71、72或73所述的方法，其中所述渗入颗粒包含作为所述可释放性材 料的漂白化合物和/或漂白活化剂和/或抗微生物剂。75. 如权利要求47-74中的任一项所述的方法，其包括步骤： (i) 在存在或缺乏固体清洁颗粒下，在包含水及一种或多种清洁剂的清洗制剂中，清洗 所述基材； (ii) 任选地用水清洗所述基材和/或将水从所述基材脱除； (iii) 若步骤（i)不存在清洁颗粒，添加清洁颗粒；和 (iv) 在所述清洁颗粒和所述渗入颗粒存在下，处理所述基材。76. 如权利要求75所述的方法，其中所述处理步骤包括揽动。77. 如权利要求75或76所述的方法，其中所述清洁剂包含酶。78. 如权利要求75、76或77所述的方法，其中步骤（iv)是用不含任何酶的制剂进行。79. 如权利要求75-78中的任一项所述的方法，其中步骤（i)中的所述清洗制剂不包含 漂白化合物和/或漂白活化剂。80. 如权利要求47-50中的任一项所述的用于清洁脏污基材的方法，所述方法依次包 括步骤： i、 用多个固体清洁颗粒和多个渗入颗粒清洗所述脏污基材； ii、 进行过量水的第一次脱除； iii、 进行所述固体清洁颗粒的第一次分离； iv、 冲洗； V、进行过量水的第二次脱除； Vi、任选地重复步骤（d)和（e)至少一次；和 Vi i、进行所述固体清洁颗粒的第二次分离。81. -种用于清洁清洗装置的方法，所述方法包括用包含多个固体清洁颗粒和多个渗 入颗粒的制剂处理所述装置的内部系统，其中所述渗入颗粒包含至少一种基质材料和至少 一种可释放性材料，其中所述基质材料包括至少一种部分或完全可溶于水的聚合材料作为 所述渗入颗粒的壳，并且所述可释放性材料包括所述渗入颗粒的核材料，其包括抗微生物 剂。
【专利摘要】本发明提供了一种用于处理基材的制剂和方法，所述方法包括用所述制剂处理基材，所述制剂包括多个固体清洁颗粒和多个掺入颗粒，其中所述掺入颗粒包含至少一种基质材料和至少一种可释放性材料，其中所述基质材料包括至少一种部分或完全可溶于水的聚合材料作为所述掺入颗粒的壳，并且所述至少一种可释放性材料包括所述掺入颗粒的核材料，其包括至少一种用于基材处理的清洁剂或后清洁剂或者其它处理添加剂，其中所述固体清洁颗粒为聚合型和/或非聚合型清洁颗粒，其中所述聚合型固体清洁颗粒具有在0.5-2.5g/cm3范围内的平均密度和在5-27mm3范围内的平均体积。所述方法和制剂有利地应用于纺织织物的清洁。
【IPC分类】C11D17/06, C11D3/39, C11D3/386, C11D11/00, C11D17/00, C11D3/48, C11D3/14, C11D3/37
【公开号】CN105378048
【申请号】CN201480039137
【发明人】艾伦·约翰·沃迪恩, 罗伯特·安德鲁·伯德, 史蒂芬·德里克·詹金斯
【申请人】塞罗斯有限公司
【公开日】2016年3月2日
【申请日】2014年7月8日
【公告号】EP3019585A1, WO2015004444A1