一种蒸镀装置制造方法
【专利摘要】本发明涉及薄膜形成【技术领域】，尤其涉及一种蒸镀装置，包括：至少一个第一线蒸发单元、至少一个第二线蒸发单元、第一面蒸发箱和第二面蒸发箱；第一面蒸发箱和第二面蒸发箱分别设置有开槽，第一线蒸发单元设置在第一面蒸发箱的开槽内，第二线蒸发单元设置在第二面蒸发箱的开槽内；第一面蒸发箱和第二面蒸发箱错层设置，以使设置于第一面蒸发箱中的第一线蒸发单元和设置于第二面蒸发箱中的第二线蒸发单元不位于同一平面。本发明提供蒸镀装置，提高了沉积材料形成的薄膜轮廓的交叠率，进而提升了形成薄膜的品质。
【专利说明】一种蒸镀装置
【技术领域】
[0001]本发明涉及薄膜形成【技术领域】，尤其涉及一种蒸镀装置。
【背景技术】
[0002]对于薄膜场效应晶体管(Thin Film Transistor,TFT)有机发光层薄膜的形成，电极的蒸镀，或者其它电子零件薄膜的蒸镀，需要一蒸镀装置进行完成。
[0003]图1示出的是现有技术中由线性蒸发源组成的蒸镀装置结构示意图；参考图1，包括第一线蒸发单元11和第二线蒸发单元12，其中设置在第一线蒸发单元11上的第一沉积材料喷嘴111，设置在第二线蒸发单元12上的第二沉积材料喷嘴121，坩埚(图中未示出)以及用于将坩埚中沉积材料传输到第一沉积材料喷嘴111和第二沉积材料喷嘴121的通道112和通道122。蒸镀过程中，盛放第一沉积材料的坩埚和盛放第二沉积材料的坩埚蒸发第一沉积材料和第二沉积材料，经通道121和通道122传输至第一沉积材料喷嘴111和第二沉积材料喷嘴121，进而经掩膜板13后作用于基板14完成蒸镀。
[0004]图1a示出的是现有技术中蒸镀装置沿A-A1线截面结构示意图；参考图2,现有技术中第一沉积材料喷嘴111和第二沉积材料喷嘴121倾斜设置于第一线蒸发单元11和第二线蒸发单元12中。
[0005]图1b示出的是现有技术 中倾斜设置喷嘴产生阴影面积示意图；参考图lb，现有技术中倾斜设置的第一沉积材料喷嘴喷射线Illa和第二沉积材料喷嘴121a喷射线形成的阴影面积I和2大小不均匀。
[0006]现有技术中的蒸镀装置主要存在如下缺点:
[0007]1、因第一线蒸发单元和第二线蒸发单元需避免彼此之间热干扰的影响，两者需要保持较远距离，导致第一沉积材料和第二沉积材料在基板上形成的薄膜轮廓偏差较大，交叠率低，使形成的薄膜品质较差。热干扰是指因不同类型的沉积材料蒸发温度不同，以此，当蒸发两种沉积材料的蒸发源设置较近时，彼此之间的温度会相互干扰，进而会影响蒸发效果。薄膜轮廓是指沉积材料在形成薄膜后，在薄膜中所呈现的分布轮廓，用于评价沉积材料掺杂效果；以两种沉积材料为例，当两种沉积材料在形成的薄膜中形成的薄膜轮廓越趋向于重叠，则掺杂效果越好。
[0008]2、因第一沉积材料喷嘴和第二沉积材料喷嘴倾斜设置，虽在第一线蒸发单元和第二线蒸发单元中间区域能实现较好的掺杂效果；但第一线蒸发单元和第二线蒸发单元中间区域两侧，掺杂效果较差，使得形成薄膜不能使用，浪费了沉积材料，材料利用率低。
[0009]3、第一沉积材料喷嘴和第二沉积材料喷嘴的倾斜设置也使得形成薄膜阴影面积不均匀。对于TFT有机发光层薄膜的形成，不利于高分辨率产品的生产。薄膜阴影是指因掩膜板的存在，在掩膜板中开口处，因开口的边缘的遮挡引起的不能有效掺杂的区域。
【发明内容】
[0010]本发明的目的在于提出一种蒸镀装置，以提高沉积材料形成的薄膜轮廓的交叠率，降低薄膜轮廓的偏差，进而提升形成薄膜的品质。
[0011]本发明实施例提供了一种蒸镀装置包括:至少一个第一线蒸发单元、至少一个第二线蒸发单元、第一面蒸发箱和第二面蒸发箱；
[0012]所述第一面蒸发箱和所述第二面蒸发箱分别设置有开槽，所述第一线蒸发单元设置在所述第一面蒸发箱的开槽内，所述第二线蒸发单元设置在所述第二面蒸发箱的开槽内；
[0013]所述第二面蒸发箱与所述第一面蒸发箱错层设置，以使设置于第一面蒸发箱中的第一线蒸发单元和设置于第二面蒸发箱中的第二线蒸发单元不位于同一平面。
[0014]本发明实施例提供的蒸镀装置，第二面蒸发箱和第一面蒸发箱错层设置，以此使得设置于第一面蒸发箱的第一线蒸发单元和设置于第二面蒸发箱的第二线蒸发单元不位于同一平面；第一线蒸发单元和第二线蒸发单元不位于同一平面，使得第一线蒸发单元和第二线蒸发单元在避免彼此之间热干扰的同时，可以保持在较近的距离，进而使得第一沉积材料和第二沉积材料能够充分掺杂，因此，提高了沉积材料形成的薄膜轮廓的交叠率，降低了薄膜轮廓的偏差，进而提升了形成薄膜的品质。
【专利附图】
【附图说明】
[0015]此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解，构成本发明的一部分，并不构成对本发明的限定。在附图中:
[0016]图1示出的是现有技术中蒸镀装置结构示意图；
[0017]图1a示出的是现有技术中蒸镀装置沿图1中A-A1线截面示意图；
[0018]图1b示出的是现有技术中倾斜设置喷嘴产生阴影面积示意图；
[0019]图2示出的是本发明一实施例中蒸镀装置结构示意图；
[0020]图2a示出的是本发明一实施例中蒸镀装置结构分解示意图；
[0021]图2b示出的是本发明一实施例中第一线蒸发单元和第一面蒸发箱结构分解示意图；
[0022]图2c示出的是本发明一实施例中一第二线蒸发单元沿图2a中B-B1线截面结构示意图；
[0023]图2d示出的是本发明一实施例中一第二线蒸发单元中一第二沉积材料喷嘴沿图2a中C-C1线截面结构示意图；
[0024]图2e示出的是本发明一实施例中竖直喷嘴产生阴影面积示意图；
[0025]图3示出的是本发明另一实施例中蒸镀装置结构示意图；
[0026]图3a示出的是本发明另一实施例中蒸镀装置中一第二线蒸发单元截面结构示意图；
[0027]图4示出的是本发明另一实施例中蒸镀装置结构示意图；
[0028]图5示出的是本发明另一实施例中蒸镀装置结构示意图；
[0029]图6示出的是本发明另一实施例中蒸镀装置结构示意图；
[0030]图6a示出的是本发明另一实施例中蒸镀装置中盖板沿图6中D-D1线截面结构示意图；
[0031]图6b示出的是本发明另一实施例中一优选的蒸镀装置中盖板沿图6中D-D1线截面结构示意图；
[0032]图7示出的是本发明另一实施例中蒸镀装置结构示意图。
【具体实施方式】
[0033]下面结合附图及具体实施例对本发明进行更加详细与完整的说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部内容。
[0034]图2示出的是本发明一实施例中蒸镀装置结构示意图。
[0035]图2a示出的是本发明一实施例中蒸镀装置结构分解示意图。
[0036]参考图2和图2a，本实施例中蒸镀装置包括:三个第一线蒸发单元212、四个第二线蒸发单元222、第一面蒸发箱21和第二面蒸发箱22。本领域技术人员应该理解的是，在其它实施方式中，蒸镀装置应包括至少一个第一线蒸发单元212和至少一个第二线蒸发单元 222。
[0037]第一面蒸发箱21和第二面蒸发箱22分别设置有开槽，开槽为图2a中容纳第一线蒸发单元212和第二线蒸发单元222部分。第一线蒸发单元212设置在第一面蒸发箱21的开槽内，第二线蒸发单元222设置在第二面蒸发箱22的开槽内。
[0038]第一面蒸发箱21和第二面蒸发箱22错层设置，以使设置于第一面蒸发箱21中的第一线蒸发单元212和设置于第二面蒸发箱22中的第二线蒸发单元222不位于同一平面；其中，错层设置是使第 一面蒸发箱21和第二面蒸发箱22不位于同一平面内。
[0039]可选的，本实施例中，第一面蒸发箱21设置有开孔，第二线蒸发单元222上表面设置有第二沉积材料喷嘴221，以用于穿过第一面蒸发箱21的开孔蒸发第二沉积材料；第一线蒸发单元212上表面设置有第一沉积材料喷嘴211，以用于蒸发第一沉积材料。
[0040]本实施例中，第二线蒸发单元222或第一线蒸发单元212的上表面是指第一线蒸发单元212或第二线蒸发单元222朝向待蒸镀基板的一侧。本实施例中，第一线蒸发单元212和第二线蒸发单元222分别包括靶材以及容置该靶材的壳体；其中，第一线蒸发单元212的壳体上设置有第一沉积材料喷嘴211以及用于传输第一沉积材料的第一通道213,第二线蒸发单元222的壳体上设置有第二沉积材料喷嘴221以及用于传输第二沉积材料第二通道223。此外，蒸发单元还包括位于壳体内，且收容靶材的容器。
[0041]第一线蒸发单元212上表面设置的第一沉积材料喷嘴211蒸发第一沉积材料。
[0042]可选的，本实施例中，第二线蒸发单元22上表面设置的第二沉积材料喷嘴221穿过第一面蒸发箱21对应设置的开孔后与第一线蒸发单元212上表面设置的第一沉积材料喷嘴211相互间隔排列。第一沉积材料喷嘴211和第二沉积材料喷嘴221的相互间隔排列，提高了掺杂度，更好的提升了薄膜轮廓重叠率。
[0043]进一步的，本实施例中第一沉积材料的第一沉积材料坩埚和第二沉积材料第二坩埚设置在第一面蒸发箱21和第二面蒸发箱22外部，通过第一线蒸发单元212和第二线蒸发单元222上开的第一通道213和第二通道223将第一沉积材料和第二沉积材料传输至第一沉积材料喷嘴211和第二沉积材料喷嘴221，进而在基板上形成薄膜。本领域技术人员应该理解是，在其它【具体实施方式】中，第一沉积材料的第一沉积材料坩埚和第二沉积材料第二坩埚也可以设置在第一面蒸发箱21和第二面蒸发箱22内部，以提供第一沉积材料和第二沉积材料。
[0044]图2b示出的是本发明一实施例中第一线蒸发单元和第二蒸发箱结构分解示意图；参考图2b，三个第一线蒸发单元212分别设置在第一面蒸发箱21中的开槽215中。
[0045]可选的，本实施例中，第二线蒸发单元222也可以采用图2b示出的方式设置于第二面蒸发箱22中。
[0046]图2c示出的是本发明一实施例中一第二线蒸发单元沿图2a中沿B-B1线截面结构示意图；参考图2c，设置在第二线蒸发单元222上表面的第二沉积材料喷嘴221，接收经第二通道223传来的第二沉积材料坩埚蒸发的第二沉积材料进行蒸镀。
[0047]可选的，本实施例中，第一线蒸发单元212也可采用图2c示出的方式进行设置。
[0048]图2d示出的是本发明实施例一中一第二线蒸发单元中一第二沉积材料喷嘴沿图2a中C-C线截面结构示意图；参考图2d，设置在第二线蒸发单元222上表面的第二沉积材料喷嘴221，接收经第二通道223传来的第二沉积材料坩埚蒸发的第二沉积材料进行蒸镀。
[0049]可选的，本实施例中，第一线蒸发单元212也可以采用图2d示出的方式进行设置。 [0050]可选的，本实施例中，第一线蒸发单元212上表面设置有至少一个第一沉积材料喷嘴211 ;和/或第二线蒸发单元222上表面设置有至少一个第二沉积材料喷嘴221。
[0051]可选的，本实施例中，第一沉积材料喷嘴211竖直设置在第一线蒸发单元212上表面；和/或第二沉积材料喷嘴221竖直设置在所述第二线蒸发单元222上表面。第一沉积材料喷嘴211和第二沉积材料喷嘴221的竖直设置，有效的减少了因掩膜板的阻挡，所形成的阴影面积。
[0052]图2e示出的是本发明一实施例中竖直喷嘴产生阴影面积示意图；参考图2e，本实施例中，竖直设置的第一沉积材料喷嘴的喷射线211a和第二沉积材料喷嘴的喷射线221a形成的阴影面积3和4大小均匀，利于高分辨率产品的制造。
[0053]可选的，本实施例中，第二线蒸发单元上表面设置的第二沉积材料喷嘴上设置有加热线圈。因第二沉积材料喷嘴需要穿过第一面蒸发箱，长度较长；以此，加热线圈的设置可以避免，因第二沉积材料喷嘴过长导致的在蒸镀过程中第二沉积材料冷却的情况。本实施例提供的蒸镀装置，第二面蒸发箱和第一面蒸发箱错层设置，以此使得设置于第一面蒸发箱的第一线蒸发单元和设置于第二面蒸发箱的第二线蒸发单元不位于同一平面；第一线蒸发单元和第二线蒸发单元不位于同一平面，使得第一线蒸发单元和第二线蒸发单元在避免彼此之间热干扰的同时，可以保持在较近的距离，进而使得第一沉积材料和第二沉积材料能够充分掺杂，因此，提高了沉积材料形成的薄膜轮廓的交叠率，降低了薄膜轮廓的偏差，进而提升了形成薄膜的品质。
[0054]图3示出的是本发明另一实施例中蒸镀装置结构示意图。
[0055]图3a示出的是本发明另一实施例中蒸镀装置中一第二线蒸发单元截面结构示意图。
[0056]参考图3和图3a，本实施例中蒸镀装置还包括与第一线蒸发单元和第二线蒸发单元相匹配的至少一个第一沉积材料坩埚和至少一个第二沉积材料坩埚。
[0057]每一第一线蒸发单元两个端中每个端分别设置一个坩埚口水平朝向的第一沉积材料坩埚和坩埚口竖直朝向的第一沉积材料坩埚；以及
[0058]每一第二线蒸发单元两个端中每个端分别设置一个坩埚口水平朝向的第二沉积材料坩埚和坩埚口竖直朝向的第二沉积材料坩埚。
[0059] 本实施例中，第一沉积材料坩埚和第二沉积材料坩埚可以设置在第一蒸发箱21和第二蒸发箱22的四周的X区域、Y区域、Z区域及O区域。
[0060]结合图3a、以第二线蒸发单元222为例，在第二线蒸发单元222的两端中，一端分别设置有坩埚口水平朝向的第二沉积材料坩埚224a和坩埚口竖直朝向的第二沉积材料坩埚224b，在另一端分别设置有坩埚口水平朝向的第二沉积材料坩埚225a和坩埚口竖直朝向的第二沉积材料坩埚225b。
[0061]本实施例中，蒸镀装置在提高沉积材料形成的薄膜轮廓的交叠率，降低薄膜轮廓的偏差，进而提升形成薄膜的品质的同时，在各个第一线蒸发单元和第二线蒸发单元的两个端中每个端分别设置有两个沉积坩埚，提高了沉积材料的充裕度，延长了蒸镀时间。
[0062]图4示出的是本发明一实施例中蒸镀装置结构示意图。参照图4，本实施例中还包括一开有孔251的隔热板25 ;隔热板25设置于第一面蒸发箱21和第二面蒸发箱22之间，第二线蒸发单元222上表面设置的第二沉积材料喷嘴221穿过隔热板25上对应设置的开孔251及第一面蒸发箱21对应设置的开孔后蒸发第二沉积材料。
[0063]可选的，本实施例中，隔热板采用陶瓷材料制成。
[0064]本实施例中，蒸镀装置在提高沉积材料形成的薄膜轮廓的交叠率，降低薄膜轮廓的偏差，进而提升形成薄膜的品质的同时，因隔热板的设置，进一步避免了第一线蒸发单元和第二线蒸发单元之间的热干扰，进而更有效的提高沉积材料形成的薄膜轮廓的交叠率，降低薄膜轮廓的偏差，提升形成薄膜的品质。
[0065]图5示出的是本发明一实施例蒸镀装置结构示意图；参照图5,本实施例中还包括:一开有孔261的盖板26。
[0066]盖板26设置在第一面蒸发箱21上部，第二线蒸发单元212上表面设置的第二沉积材料喷嘴211穿过隔热板25上对应设置的开孔251、盖板26上对应设置的开孔261及第一面蒸发箱21对应设置的开孔后蒸发第二沉积材料。
[0067]第一线蒸发单元212上表面设置第一沉积材料喷嘴211穿过盖板26上对应设置的开孔261后蒸发第一沉积材料。
[0068]本实施例中，蒸镀装置在提高沉积材料形成的薄膜轮廓的交叠率，降低薄膜轮廓的偏差，进而提升形成薄膜的品质的同时，盖板的设置有效了的保护了蒸发材料对蒸发源的影响。
[0069]图6示出的是本发明一实施例中蒸镀装置结构示意图；参照图6，本实施例中第一面蒸发箱和/或第二面蒸发箱设置有冷却水流通通道。以及，在本实施例中，隔热板或盖板也可以设置有冷却水流通通道。
[0070]以隔热板中设置冷却水结构为例对本实施例中蒸镀装置中，第一面蒸发箱、第二面蒸发箱、盖板或隔热板中设置的冷却水流通通道结构进行说明。
[0071]图6a示出的是本发明一实施例中蒸镀装置中盖板沿D-D1线截面结构示意图。
[0072]参照图6a，本实施例中冷却水流通通道263分布排列在第一沉积材料喷嘴211或第二线沉积材料喷嘴221两侧，通过冷却水流通通道的开口 262分别与设置在第一面蒸发箱21和第二面蒸发箱22四周的冷却水水源相连接。
[0073]图6b示出的是本发明实施例五中一优选的蒸镀装置中盖板沿D-D线截面结构示意图；参照图6b，在此优选实施方式中，冷却水流通通道263，分别环绕第一沉积材料喷嘴211或第二沉积材料喷嘴221，通过冷却水流通通道的开口 262分别与设置在第一面蒸发箱21和第二面蒸发箱22两侧的冷却水水源相连接。
[0074]本实施例中，蒸镀装置在提高沉积材料形成的薄膜轮廓的交叠率，降低薄膜轮廓的偏差，进而提升形成薄膜的品质的同时，因第一面蒸发箱、第二面蒸发箱、隔热板或盖板中设置的冷却水流通通道，通过冷却水的不断循环，进一步避免了第一线蒸发单元和第二线蒸发单元之间的热干扰，进而更有效的提高沉积材料形成的薄膜轮廓的交叠率，降低薄膜轮廓的偏差，提升形成薄膜的品质。
[0075]图7示出的是本发明一实施例中蒸镀装置结构示意图；参照图7，本实施例中，包括:
[0076]至少一个第三线蒸发单元(图中未示出)和第三面蒸发箱27。
[0077]第三面蒸发箱27设置有开槽，第三线蒸发单元设置在所述开槽内。
[0078]第三面蒸发箱27和第二面蒸发箱22错层设置，以使第三面蒸发箱中设置的第三线性蒸发源与第二面蒸发箱中设置的第二线蒸发单元不位于同一平面。
[0079]第三线蒸发单元上表面设置的第三沉积材料喷嘴271穿过第二面蒸发箱对应设置的开孔和第一面蒸发箱对应设置的开孔后蒸发第三沉积材料。
[0080]可选的，本实施例中，第三线蒸发单元上设置的第三沉积材料喷嘴271设置有加热线圈。 [0081]可选的，本实施例中，第三线蒸发单元上表面设置的第三沉积材料喷嘴271穿过第一蒸发箱21对应设置的开孔后与第一线蒸发单元上表面设置的第一沉积材料喷嘴211及第二线蒸发单元上表面设置的第二沉积材料喷嘴221相互间隔排列。
[0082]可选的，本实施例中，第三线蒸发单元上表面设置有至少一个第三沉积材料喷嘴271。
[0083]可选的，本实施例中，第三沉积材料喷嘴271竖直设置在第三线蒸发单元上表面。
[0084]可选的，本实施例中，第三面蒸发箱27设置有冷却水流通通道。
[0085]可选的，本实施例中，还可以设置一开有孔的隔热板；隔热板设置于第二面蒸发箱22和第三面蒸发箱27之间，第三线蒸发单元上表面设置的第三沉积材料喷嘴271穿过隔热板上对应设置的开孔、第一面蒸发箱21对应设置的开孔及第二面蒸发箱22对应设置的开孔后蒸发第二沉积材料。
[0086]可选的，本实例中，还可以设置至少一个第三沉积材料坩埚，每一第三线蒸发单元两个端中每个端分别设置一个坩埚口水平朝向的第三沉积材料坩埚和坩埚口竖直朝向的第二沉积材料樹祸。
[0087]本发明实施例提供的蒸镀装置，第二面蒸发箱第一面蒸发箱错层设置，第三面蒸发箱和第二面蒸发箱错层设置，以此使得设置于第一面蒸发箱的第一线蒸发单元、设置于第二面蒸发箱的第二线蒸发单元及设置与第三面蒸发箱的第三线蒸发单元不位于同一平面；第一线蒸发单元、第二线蒸发单元和第三线蒸发单元不位于同一平面，使得第一线蒸发单元、第二线蒸发单元和第三线蒸发单元在避免彼此之间热干扰的同时，可以保持在较近的距离，进而使得第一沉积材料、第二沉积材料和第三沉积材料能够充分掺杂，因此，提高了沉积材料形成的薄膜轮廓的交叠率，降低了薄膜轮廓的偏差，进而提升了形成薄膜的品质。
[0088]以上所述仅为本发明的优选实施例，并不用于限制本发明，对于本领域技术人员而言，本发明可以有各种改动和变化。凡在本发明的精神和原理之内所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
【权利要求】
1.一种蒸镀装置，其特征在于，包括至少一个第一线蒸发单元、至少一个第二线蒸发单元、第一面蒸发箱和第二面蒸发箱； 所述第一面蒸发箱和所述第二面蒸发箱分别设置有开槽，所述第一线蒸发单元设置在所述第一面蒸发箱的开槽内，所述第二线蒸发单元设置在所述第二面蒸发箱的开槽内； 所述第二面蒸发箱与所述第一面蒸发箱错层设置，以使设置于第一面蒸发箱中的第一线蒸发单元和设置于第二面蒸发箱中的第二线蒸发单元不位于同一平面。
2.如权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述第一面蒸发箱设置有开孔，所述第二线蒸发单元上表面设置有第二沉积材料喷嘴，以用于穿过第一面蒸发箱的开孔蒸发第二沉积材料；所述第一线蒸发单元上表面设置有第一沉积材料喷嘴，以用于蒸发第一沉积材料。
3.如权利要求2所述的蒸镀装置，其特征在于，所述第一线蒸发单元上表面设置有至少一个第一沉积材料 喷嘴；和/或所述第二线蒸发单元上表面设置有至少一个第二沉积材料喷嘴。
4.如权利要求3所述的蒸镀装置，其特征在于，所述第一沉积材料喷嘴竖直设置在所述第一线蒸发单元上表面；和/或所述第二沉积材料喷嘴竖直设置在所述第二线蒸发单元上表面。
5.如权利要求2-4任一项所述的蒸镀装置，其特征在于，所述第二线蒸发单元上表面设置的第二沉积材料喷嘴上设置有加热线圈。
6.如权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述第二线蒸发单元上表面设置的第二沉积材料喷嘴穿过所述第一面蒸发箱对应设置的开孔后与所述第一线蒸发单元上表面设置的第一沉积材料喷嘴相互间隔排列。
7.如权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述第一面蒸发箱和/或所述第二面蒸发箱设置有冷却水流通通道。
8.如权利要求2-4、6-7任一项所述的蒸镀装置，其特征在于，还包括一开有孔的隔热板； 所述隔热板设置于第一面蒸发箱和第二面蒸发箱之间，所述第二线蒸发单元上表面设置的第二沉积材料喷嘴穿过所述隔热板上对应设置的开孔及第一面蒸发箱对应设置的开孔后蒸发第二沉积材料。
9.如权利要求8所述的蒸镀装置，其特征在于，还包括:一开有孔的盖板； 所述盖板设置在所述第一面蒸发箱上部，所述第二线蒸发单元上表面设置的第二沉积材料喷嘴穿过所述隔热板上对应设置的开孔、所述盖板上对应设置的开孔及第一面蒸发箱对应设置的开孔后蒸发第二沉积材料；以及 所述第一线蒸发单元上表面设置第一沉积材料喷嘴穿过所述盖板上对应设置的开孔后蒸发第一沉积材料。
10.如权利要求9所述的蒸镀装置，其特征在于，还包括至少一个第一沉积材料坩埚和至少一个第二沉积材料坩埚； 每一第一线蒸发单元两个端中每个端分别设置一个坩埚口水平朝向的第一沉积材料坩埚和坩埚口竖直朝向的第一沉积材料坩埚；以及 每一第二线蒸发单元两个端中每个端分别设置一个坩埚口水平朝向的第二沉积材料坩埚和坩埚口竖直朝向的第二沉积材料坩埚。
11.如权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，还包括:至少一个第三线蒸发单元和第三面蒸发箱； 所述第三面蒸发箱设置有开槽，所述第三线蒸发单元设置在所述开槽内； 所述第三面蒸发箱和第二面蒸发箱错层设置，以使所述第三面蒸发箱中设置的第三线性蒸发源与第二面蒸发箱中设置的第二线蒸发单元不位于同一平面。
12.如权利要求11所述的蒸镀装置，其特征在于，所述第三线蒸发单元上表面设置的第三沉积材料喷嘴穿过所述第二面蒸发箱对应设置的开孔和第一面蒸发箱对应设置的开孔后蒸发第三沉积材料。
13.如权利要求12所述的蒸镀装置，其特征在于，所述第三线蒸发单元上设置的第三沉积材料喷嘴设置有加热线圈。
14.如权利要求12所述的蒸镀装置，其特征在于，所述第三线蒸发单元上表面设置的第三沉积材料喷嘴穿过所述第一面蒸发箱对应设置的开孔后与第一线蒸发单元上表面设置的第一沉积材料喷嘴及第二线蒸发单元上表面设置的第二沉积材料喷嘴相互间隔排列。
【文档编号】C23C14/24GK103924196SQ201310753959
【公开日】2014年7月16日 申请日期:2013年12月31日 优先权日:2013年12月31日
【发明者】周资龙, 毕德锋 申请人:上海天马有机发光显示技术有限公司, 天马微电子股份有限公司