技术总结
本实用新型公开了一种真空蒸镀装置，真空蒸镀装置包括：蒸发源，位于蒸镀基板下方；角度板，环绕所述蒸发源设置；所述角度板靠近蒸镀基板的一端面向所述线状蒸发源弯折；和/或，所述角度板设置有通孔。本实用新型通过使环绕蒸发源设置的角度板靠近蒸镀基板一端的面向线状蒸发源弯折，在角度板上设置通孔，相对于现有技术直接在线状蒸发源周围设置角度板，解决了角度板上沉积的大量蒸镀材料掉落堵塞位于蒸镀基板下方的蒸发源喷嘴导致的真空蒸镀形成的膜层均匀性差、蒸镀速度慢的问题，提高了真空蒸镀形成膜层均匀性的同时，提高了真空蒸镀装置的蒸镀速度。
技术研发人员：吕磊;滨田;阎洪刚;雷志宏
受保护的技术使用者：上海天马有机发光显示技术有限公司;天马微电子股份有限公司
文档号码：201621402841
技术研发日：2016.12.20
技术公布日：2017.08.04